一种正负压成型装置的制作方法

文档序号:16014359发布日期:2018-11-20 21:15阅读:213来源:国知局
一种正负压成型装置的制作方法

本发明涉及一种塑料成型设备,具体涉及一种正负压成型装置。



背景技术:

现有的正负压成型机多是采用气缸驱动,由于多气缸运动的不同步和单个气缸运动不易精准控制等问题易导致封模力不易控制进而导致上下模具之间密封性差,影响产品质量和工作效率。



技术实现要素:

本发明为了更好的控制锁模力,增加上下模之间的密封性,提供了一种新型的正负压成型装置,该装置通过丝杆运动,控制两滑块做靠近和远离的一维运动,进而带动模具载台做上下运动,精准的保证了两滑块运动步调的一致性。

为了解决上述问题,本发明所采取的技术方案为:一种正负压成型装置,包括第一作动机构和第二作动机构,所述第一作动机构包括

传动装置,包括对称分布的两滑块、穿过滑块的传动丝杆和用于提供作动力的动力模块,所述传动丝杆为左右螺旋丝杆,所述两滑块分别置于所述左右螺旋丝杆的正反牙螺纹上,所述动力模块用于带动所述丝杆转动,所述滑块上设置有坡面;

模具载台,所述模具载台朝向滑块的一侧固定有滚轴,所述滚轴与所述滑块接触且沿所述坡面上滚动;

导轨,所述滑块沿所述导轨做一维方向的运动。

进一步的,所述滑块上的坡面包括有第一坡面和第二坡面,所述第一坡面与水平方向的夹角大于所述第二坡面与水平方向的夹角。

进一步的,所述模具载台朝向滑块的一侧设有相对的两固定块,所述固定块上设有滚动轴承,所述滚轴的两端分别转动连接在所述两轴承上。

进一步的,所述滑块为类直角梯形结构,第一滑块和第二滑块上分别设有相互平行的第一底面和第二底面,第一滑块和第二滑块均包括与滚轴始终接触的坡面,所述第一底面和所述第二底面上均设有滚珠丝杆螺母套,所述丝杆穿过所述滚珠丝杆螺母套连接所述滑块。

进一步的,所述导轨为平行设置两轨条,所述滑块朝向导轨的一侧设有凸块,所述凸块上设有凹槽,所述导轨与所述凹槽滑动连接。

进一步的,所述导轨面、模具载台面和滚轴相互平行,所述丝杆垂直于所述滚轴。

进一步的,所述动力模块为伺服电机。

本发明所产生的有益效果包括:本发明将做相对运动的两滑块通过左右旋螺纹丝杆连接,通过旋转丝杆驱动两滑块步调一致的相互靠近或远离,精准的保证了上下工作载台始终处于相互平行状态,保证了锁模时上下模具间的密封性。

附图说明

图1 本发明中正负压成型装置的结构示意图;

图中1、第一作动机构,2、第二作动机构,3、模具载台,4、滑块,4-1、第一底面,4-2、第二底面,4-3、坡面,5、电机,6、滚轴,7、丝杆,8、导轨,9、凸块,10、固定块。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细的解释说明,但应当理解为本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。

如图1所示,一种正负压成型装置包括相对设置的第一作动机构1和第二作动机构2,第一作动机构1上依次设有模具载台3、传动装置和导轨8,模具载台3正对传动装置的一面固定有两个相互平行的滚轴6,滚轴6两端转动连接在模具载台3固定块10上,固定块10上设有滚动轴承,滚轴6通过滚动轴承实现自由转动,且两滚轴6与模具载台3之间的相对距离始终保持不变。

传动装置包括两相对设置的滑块4、穿过两滑块4的左右螺旋丝杆7和带动丝杆7转动的伺服电机5,两滑块4分别为第一滑块和第二滑块,第一滑块和第二滑块结构相同,对称分布在模具载台3的一侧,滑块4为类梯形结构,第一滑块和第二滑块上分别设有相互平行的第一底面4-1和第二底面4-2,第一滑块和第二滑块均包括与滚轴6始终接触的坡面4-3。第一底面4-1和第二底面4-2上均设有滚珠丝杆螺母套,丝杆7穿过滚珠丝杆螺母套与第一底面4-1和第二底面4-2垂直连接,伺服电机5带动丝杆7运动,进而带动处于正反牙上的两丝杆7做步调一致的相对运动,调整丝杆7的转动方向即可改变两滑块4相对运动的方向。

滑块4上的坡面包括倾斜度较大的第一坡面和倾斜度较小的第二坡面,第二坡面为微调坡面,丝杆7顺时针转动,两滑块4做相互靠近运动,滚轴6转动并沿坡面做上升运动,进而使第一作动机构1的模具载台3和第二作动机构2的模具载台3相互靠近,当两模具载台3上的模具临近闭合时,滚轴6运动至第二坡面进行微调,使两模具载台3缓慢靠近并锁模,该设计增加了装置对不同厚度模具的适应性。

滑块4沿导轨8做左右一维运动,为了防止滑块4脱轨,滑块4与导轨8接触的一面设有凸块9,凸块9上设有凹槽,条形导轨8滑动连接在凹槽内。

为了进一步保证装置运动的平行度,导轨8面、模具载台3面和丝杆7相互平行。

当然本发明中的第二传动装置可采用与第一传动装置相同的结构设计。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。

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