专利名称：一种喷溅装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种喷溅装置。
背景技术：
喷溅装置是用在冷却塔中的一个重要部件，其喷洒效果的好坏，直接影响冷却塔的冷却效率。中国专利02258571.0公开了一种改进型的喷溅装置，包括进水管、蜗壳腔体、喷头、连杆和周边具有叶片的溅水盘，连杆的上端与喷头固定连接，连杆的下端与溅水盘固定连接，进水管与蜗壳腔体连通。这种喷溅装置采用侧向进水，进水管占的空间较大，在冷却塔的周边位置无法紧密排列，使冷却塔的冷却效率无法进一步提高。
实用新型内容本实用新型的目的就是提供一种占用空间较小，可以紧密排列的喷溅装置。
实现本实用新型目的的技术方案是本实用新型包括壳体、连杆和周边具有叶片的溅水盘，壳体具有进水口和喷水口，连杆的上端与壳体固定连接，连杆的下端与溅水盘固定连接；其特征在于所述进水口设置在壳体的顶部，喷水口设置在壳体的底部，壳体内设有导流体，导流体至使壳体内形成二条螺旋通道。
上述一种喷溅装置的导流体具有圆锥形底座，底座上设有两片轴向对称的螺旋隔板，所述壳体二条螺旋通道由螺旋隔板形成。
上述一种喷溅装置的导流体为塑料一体件。
上述一种喷溅装置的壳体上部具有外螺纹。
上述一种喷溅装置的溅水盘的圆环中部设置有鼓形溅水底盘，并在底盘上设置有呈辐射状的多个溅水条，各溅水条上设有溅水槽。
本实用新型具有积极的效果(1)本实用新型的进水口设置在壳体的顶部，进水管可以从壳体顶部与壳体连接，所以本实用新型的喷溅装置不占据空间，可紧密排列。
(2)本实用新型的腔体内具有螺旋通道，从喷水口喷出的水流呈均匀的涡流状，溅水盘具有底盘，并在底盘上设置有呈辐射状的多个溅水条，各溅水条上设有溅水槽，溅水效果好，能使冷却水均匀落在冷却塔填料上，提高冷却塔的冷却效率。
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的分解示意图。
具体实施方式
(实施例1)见图1和图2，本实用新型包括壳体1、连杆2和周边具有叶片的溅水盘3，壳体1由上、下两部分组成，壳体具有进水口11和喷水口12，进水口11设置在上部壳体的顶部，喷水口12设置在下部壳体的底部，上下两部分壳体对接后形成壳体1，壳体1内设有导流体4，所述导流体4具有圆锥形底座41，底座41上设有两片轴向对称的螺旋隔板42，本实施例中导流体4采用塑料一体件，螺旋隔板4使壳体1内形成二条螺旋通道；连杆2的上端与壳体1固定连接，连杆2的下端与溅水盘3固定连接，溅水盘3的圆环中部设置有鼓形溅水底盘31，并在底盘31上设置有呈辐射状的多个溅水条32，各溅水条32上设有溅水槽32-1；壳体1上部具有可与水管螺纹连接的外螺纹13。
使用时可通过壳体1上部的外螺纹13与进水管连接，水流由进水管通过壳体1顶部的进水口进入壳体1，由于导流体4的作用，由喷水口12喷出的水流呈涡流状，再经过溅水盘3的溅射，形成雾状小水滴，均匀落在冷却塔填料上。
权利要求1.一种喷溅装置，包括壳体(1)、连杆(2)和周边具有叶片的溅水盘(3)，壳体(1)具有进水口(11)和喷水口(12)，连杆(2)的上端与壳体(1)固定连接，连杆(2)的下端与溅水盘(3)固定连接；其特征在于所述进水口(11)设置在壳体(1)的顶部，喷水口(12)设置在壳体(1)的底部，壳体(1)内设有导流体(4)，至使壳体(1)内形成二条螺旋通道。
2.根据权利要求1所述的一种喷溅装置，其特征在于所述导流体(4)具有圆锥形底座(41)，底座(41)上设有两片轴向对称的螺旋隔板(42)，所述壳体(1)二条螺旋通道由螺旋隔板(42)形成。
3.根据权利要求2所述的一种喷溅装置，其特征在于所述导流体(4)为塑料一体件。
4.根据权利要求3所述的一种喷溅装置，其特征在于所述壳体(1)上部具有外螺纹(13)。
5.根据权利要求4所述的一种喷溅装置，其特征在于所述溅水盘(3)的圆环中部设置有鼓形溅水底盘(31)，并在底盘(31)上设置有呈辐射状的多个溅水条(32)，各溅水条(32)上设有溅水槽(32-1)。
专利摘要本实用新型涉及一种喷溅装置，包括壳体、连杆和周边具有叶片的溅水盘，壳体具有进水口和喷水口，连杆的上端与壳体固定连接，连杆的下端与溅水盘固定连接；其特征在于所述进水口设置在壳体的顶部，喷水口设置在壳体的底部，壳体内设有导流体，导流体至使壳体内形成二条螺旋通道。本实用新型的进水口设置在壳体的顶部，进水管可以从壳体上方与壳体，所以本实用新型的喷溅装置不占据空间，可紧密排列，且腔体内具有螺旋通道，从喷水口喷出的水流呈均匀的涡流状，溅水效果好，能使冷却水均匀落在冷却塔填料上，提高冷却塔的冷却效率。
文档编号F28F25/00GK2916561SQ20062011592
公开日2007年6月27日 申请日期2006年5月22日 优先权日2006年5月22日
发明者张鹤鸣, 钱峰 申请人:常州市武进太湖水处理设备有限公司