专利名称：炊具的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种炊具，更具体地涉及一种能容易地清洁其烹饪室的炊具。
背景技术：
炊具是利用电或煤气烹饪食物的家用器具。灶具通常包括容纳及烹饪食物的烹饪 室。容纳在烹饪室中的食物由设置在炊具中的加热源进行加热与烹饪。
发明内容
技术问题然而，传统的烹饪室不能被容易地进行清洁。技术方案非常需要一种与传统的炊具相比其烹饪室能够被更容易进行清洁的炊具。在一个实施例中，炊具包括具有烹饪室的腔体。门选择性地打开及关闭烹饪室，并 且加热源被设置成用于提供对烹饪室内部的食物进行烹饪的热量。在烹饪室的内表面上设 置搪瓷涂层(enamel coating)，该搪瓷涂层包括磷酸盐基成分。在另一实施例中，炊具包括具有烹饪室的腔体。门选择性地打开及关闭烹饪室，并 且加热源被设置成用于提供对烹饪室内部的食物进行烹饪的热量。在烹饪室的内表面上设 置搪瓷涂层，该搪瓷涂层包括五氧化二磷(P2O5)成分。此外，清洁设备将清洁水供给到烹饪 室内部，控制单元控制加热源和清洁设备的操作。在另一实施例中，炊具包括具有烹饪室的腔体。门选择性地打开及关闭烹饪室。加 热源提供对烹饪室内部的食物进行烹饪的热量。在烹饪室的内表面上设置搪瓷涂层，该搪 瓷涂层包括五氧化二磷(P2O5)成分。蒸汽发生设备产生供给到烹饪室内部的蒸汽，控制单 元控制加热源和清洁设备的操作。
图1是示出根据本发明的炊具的第一实施例的立体图；图2是根据本发明的第一实施例的示意图；图3是根据本发明的炊具的第二实施例的示意图；图4是根据本发明的炊具的第三实施例的示意图；图5是第三实施例中示出的高温清洁水供给单元的竖向剖视图；图6是根据本发明的炊具的第四实施例的示意图；图7和图8是示出根据本发明的炊具的第五实施例的主要部件的竖向剖视图；以 及图9是根据本发明的炊具的第六实施例的示意图。
具体实施例方式实现本发明的最佳模式将参考附图，更详细地描述根据本发明的炊具的第一实施例。图1是示出根据本发明的炊具的第一实施例的立体图，图2是根据本发明的第一 实施例的示意图。参考图1和图2，在炊具1的腔体10内部设置烹饪室11。烹饪室11是烹饪食物的 场所。例如，烹饪室U可形成为六面体结构，其中利用门14来打开该六面体结构的前表面。烹饪室11能够通过围绕定中于炊具1下端的旋转轴线拉动或推动门14，由门14 选择性地打开及关闭。控制器15设置在腔体10的与炊具1的上部相对应的前部上端。控制器15被设 置成包括输入单元、输出单元以及控制单元，其中，输入单元接收操作炊具的操作信号，输 出单元输出关于炊具的操作情况的信息，控制单元控制炊具的操作。在此，控制单元尤其是 控制稍后将要描述的加热源和/或清洁设备的操作。腔体10中设有一个或多个加热源。加热源提供用于对炊具1的烹饪室11内部的 食物进行烹饪的热量。在本实施例中，上加热器17和下加热器18安装在烹饪室11的上部 和下部。上加热器17和下加热器18提供烹饪室11中的辐射热。在该实施例中，对流设备 19安装在烹饪室11的后表面上。对流设备19被设置成包括对流加热器(未示出)和对流 风扇(未示出)，并在利用对流风扇使由对流加热器加热的空气在烹饪室11内循环时，提供 烹饪室11中的辐射热。在可替代的实施例中，也可在烹饪室11中设置单独的风扇，该风扇 吹送由上加热器17和下加热器18中的任一者加热的空气；或者也可在烹饪室11的后表面 上形成单独的开口部，该开口部将对流加热器的热量辐射到烹饪室11的内部。参考图2的放大部分，在烹饪室11的内部设置搪瓷涂层12。搪瓷涂层12可包含 磷酸盐基成分，如五氧化二磷(P2O5)。包括五氧化二磷的磷酸盐基成分改进了搪瓷涂层12 的抗腐蚀性、防锈性、耐高温氧化性等。因此，在烹饪食物的过程中，容易去除附着于烹饪室 11的使用搪瓷涂层12的内表面上的食物残渣。例如，搪瓷涂层12可包含30%或更少的五 氧化二磷，优选地，包含20%或更少的五氧化二磷。在腔体10的一侧设置清洁设备，该清洁设备将高温清洁水供给到烹饪室11的内 部。高温清洁水被供给到烹饪室11的内部并被用于去除附着于烹饪室11的内表面的食物 残渣。清洁设备被设置成包括水箱21、加热单元23、供给单元25、泵27和28以及管道29。清洁水储存在水箱21中。水箱21可被可拆卸地安装，以便在清洁水耗尽时容易 地补充清洁水。在可替代的实施例中，水箱21可从外部水源直接接收清洁水，或者可从包 含清洁水的单独的容器接收清洁水。加热单元23用于通过接收及加热来自水箱21中的清洁水产生高温清洁水。例如， 普通的热水器(boiler)可用作加热单元23。供给单元25用于将加热单元23所加热的高温清洁水供给到烹饪室11的内部。为 此，供给单元25安装在烹饪室11的一侧或伸入到烹饪室11的内部，使得可将高温清洁水 供给到烹饪室11的内部。在该实施例中，使用两个泵——第一泵27和第二泵28。第一泵27将水箱21中储 存的清洁水输送到加热单元23。第二泵28用于将加热单元23所加热的高温清洁水输送及供给到供给单元25。然而，无需将泵设置成第一泵27和第二泵28。在可替代的实施例中， 可利用泵27和28中的仅一个泵来使水流经管道29。在另一可替代的实施例中，加热单元 23可与一个或多个泵一起被设置于水箱21中。管道29将水箱21连接至加热单元23，并将热单元23连接至供给单元25。通常， 较低温度的清洁水流经连接水箱21和加热单元23的管道29，较高温度的清洁水流经连接 加热单元23和供给单元25的管道29。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第一实施例的操作情况。首先，在烹饪室11内部烹饪食物。如果在烹饪室11的内部完成食物的烹饪，则从 烹饪室11中取出食物。同时，在烹饪过程中剩下的食物残渣(例如，油等)可能附着到烹饪室11的内表 面。因此，控制单元操作清洁设备来去除这些食物残渣。更具体地，当第一泵27被驱动时，储存在水箱21中的清洁水通过管道29被输送 到加热单元23。被输送到加热单元23的清洁水由加热单元23加热，从而产生高温清洁水。通过第二泵28将高温清洁水输送到供给单元25，其中高温清洁水通过供给单元 25被供给到烹饪室11中。高温清洁水从烹饪室11的内表面上清洗掉食物残渣或软化食物 残渣(这样的食物残渣可容易地擦去)，由此执行对烹饪室11的清洁。在烹饪室11的内壁上设置搪瓷涂层12，该搪瓷涂层12包括作为磷酸盐基成分的 五氧化二磷。因此，可通过供给到烹饪室11内部的高温清洁水，容易地去除附着到烹饪室 11的内壁的食物残渣。本发明的模式在下文中，将参考附图更详细地描述根据本发明的炊具的第二实施例。图3是根据本发明的炊具的第二实施例的示意图。本实施例中与第一实施例中的 元件相同或相似的元件将使用图1和图2中的相同的附图标记表示，并省略对它们的详细 描述。参考图3，烹饪食物的烹饪室11设置在腔体10内。参考图3的放大部分，在本实 施例的烹饪室11的内表面上，按照与第一实施例相同或相似的方式，也设有搪瓷涂层12。在本实施例中，清洁水被供给到烹饪室11的内部用以清洁烹饪室11，并通过至少 任一加热源来加热被供给到烹饪室11中的清洁水，所述加热源可提供用于对烹饪室11内 部的食物进行烹饪的热量。因此，根据本实施例，可省略加热清洁水的单独的加热源，例如，热水器。更具体 地，清洁设备被设置成包括水箱31、供给单元33、泵35以及管道37。清洁水储存在水箱31中。供给单元33将储存在水箱31中的清洁水供给到烹饪 室11的内部。泵35用于将储存在水箱31中的清洁水输送到烹饪室11的内部。管道37 将水箱31连接至供给单元33。如果清洁水被供给到烹饪室11的内部，控制单元(未示出)则控制加热源中的至 少一个在预定时间内进行操作。如果加热源的操作结束或者加热源的操作结束之后度过预 定的软化时间(tempering time)，输出单元输出报告该情况的信号。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第二实施例的操作情况。首先，控制单元操作清洁设备来去除附着到烹饪室11的内表面的食物残渣。如果
6清洁设备被操作，泵35则被驱动。因此，在泵35的驱动下，储存在水箱31中的清洁水流经 管道37，从而通过供给单元33被供给到烹饪室11的内部。如果清洁水被供给到烹饪室11的内部，控制单元则控制加热源(即，可能为上加 热器17、下加热器18以及对流设备19的至少一个加热源)在预定的操作时间内进行操作。 因此，被供给到烹饪室11中的清洁水由操作的加热源进行加热。同时，如果已度过加热源的操作时间，S卩，加热源的操作终止时，输出报告该情况 的信号。如果加热源的操作终止或者加热源的操作终止之后度过预定的软化时间，输出单 元输出报告该情况的信号。该信号向使用者报告加热源的操作终止，和/或使附着到烹饪室11的内表面的食 物残渣变柔软的软化时间已度过。如果已度过软化时间，使用者可擦拭清洁烹饪室11的内 表面，从而完成对烹饪室11的清洁。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第三实施例。图4是根据本发明的炊具的第三实施例的示意图，图5是第三实施例的高温清洁 水供给单元41的竖向剖视图。本实施例中与第一实施例中的元件相同或相似的元件将使 用图1和图2中的相同的附图标记表示，并省略对它们的详细描述。参考图4，烹饪食物的烹饪室11设置在腔体10内。参考图4的放大部分，在本实 施例的烹饪室11的内表面上，按照与第一实施例相同或相似的方式，也设有搪瓷涂层12， 该搪瓷涂层12包括30%或更少的磷酸盐基成分，优选包括20%或更少的磷酸盐基成分，例 如，五氧化二磷。在烹饪室11的底面形成聚水孔13A。聚水孔13A是被供给到烹饪室11内部的清 洁水聚集在一起通过稍后所述的贮槽(sump)排出的场所。聚水孔13A可通过切下烹饪室 11的底面的一部分而形成。在本实施例中，聚水孔13A位于不会与下加热器18重叠的区 域。同时，在腔体10的一侧设置清洁设备，该清洁设备对附着到烹饪室11的内表面的 食物残渣进行清洁。更具体地，清洁设备被设置成包括供给单元41、贮槽43、过滤单元45、 加热源47、泵48以及管道49。供给单元41可伸入到烹饪室11的内部。供给单元41用于将高温清洁水供给 到烹饪室11的内部。在本实施例中，供给单元41设置在烹饪室11的顶部表面(ceiling surface)的中央部。然而，供给单元41的位置不局限于此。参考图5，供给单元41被可旋转地安装在管道49的一端。在本实施例中，供给单 元41穿过烹饪室11的顶部表面的中央部，暴露至烹饪室11的内部。供给单元41形成为 中空的柱形结构，在该结构中下表面被遮挡而安装在管道49的一端。供给单元41被可旋 转地定中于管道49上。换言之，管道49成为使供给单元41定中的轴，供给单元41在该轴 上旋转。另外，在供给单元41中形成多个供给孔42，高温清洁水经过这些供给孔42流出。 在本实施例中，在供给单元41处形成供给孔42，使得供给孔42与垂直于供给单元41的外 圆周表面的假想线形成预定的角度。在本实施例中，供给孔42相对于彼此水平地设置，并且这些供给孔42朝向相反方 向。在该位置中，流出供给孔42的高温清洁水的力促使供给单元41以管道49为中心轴线旋转。再参考图4，贮槽43用于接收被供给到烹饪室11内部用以清洁烹饪室11的内壁 的清洁水。在本实施例中，贮槽43的位置低于烹饪室11的底面的中央部并处在聚水孔13A 的下方。然而，贮槽43的位置不局限于此。换言之，贮槽43的位置可依据聚水孔13A的位 置发生变化。在聚水孔13A与贮槽43之间设有过滤单元45。过滤单元45用于过滤聚集在聚水 孔13A的清洁水中所包含的异物(其可能是食物残渣)。例如，具有预定结构和尺寸的金属 丝网(wire net)等可用作过滤单元45。因此，异物被大体去除的清洁水可聚集在贮槽43 中。同时，加热源用于对聚集在贮槽43中的清洁水进行加热。例如，邻近贮槽43安装 的加热器47可用作加热源。然而，如果具有任意形状和设置在炊具的任何部位中的加热器 能够加热聚集在贮槽43的清洁水，则它们也可用作加热源。例如，加热源可安装在管道49 处。泵48用于将聚集在贮槽43中的清洁水输送到供给单元41。换言之，聚集在贮槽 43中并被加热成高温的高温清洁水由泵48输送到供给单元41，以便由供给单元41供给到 烹饪室11的内部。管道49用于将由贮槽43聚集并随后由加热器47加热的高温清洁水输送到供给 单元41。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第三实施例的操作情况。如果控制单元操作清洁设备来去除附着到烹饪室11的内表面的食物残渣，首先， 泵48将聚集在贮槽43中的清洁水输送到供给单元41。这时，由泵48输送到供给单元41 的清洁水被输送到加热源，在加热源中加热清洁水。因此，高温清洁水从加热源中流出并通 过管道49流向供给单元41。同时，被输送到供给单元41的高温清洁水通过供给孔42被供给到烹饪室11的内 部。供给单元41可旋转地安装在管道的一端，这些供给孔42相对于与供给单元41的外圆 周表面垂直的假想线成预定角度地供给高温清洁水。因此，如果高温清洁水通过供给孔42 被供给到烹饪室11的内部，供给单元41则围绕作为中心轴线的管道49旋转。当供给单元41围绕管道49旋转时，从供给孔42中供给的高温清洁水可被均勻地 喷洒在附着于烹饪室11的内表面的食物残渣上。因此，可更有效地执行对烹饪室11的清 洁。在下文中，将参考附图更详细地描述根据本发明的炊具的第四实施例。图6是根据本发明的炊具的第四实施例的示意图。本实施例中与第一实施例中的 元件相同或相似的元件使用图1和图2中的相同的附图标记表示，并将省略对它们的详细 描述。参考图6，在本实施例中，在烹饪室11的内表面上设置搪瓷涂层12，该搪瓷涂层12 包括磷酸盐基成分，例如，包含30 %或更少的五氧化二磷(优选地，包含20 %或更少的五氧 化二磷)的磷酸盐基成分。这可视作与第一实施例中的情况相同或相似。在本实施例中，被供给到烹饪室11内部的清洁水由加热源进行加热，所述加热源 对烹饪室11内部的食物进行烹饪。而且，被供给到烹饪室11内部的清洁水未循环回到烹
8饪室11，而是被排出到外部。更具体地，为此，在本实施例中，清洁设备被设置成包括水箱 51、供给单元53、贮槽55、过滤器57、泵58以及管道59。清洁水储存在水箱51中。供给单元53用于将储存在水箱51中的清洁水供给到 烹饪室11的内部。从供给单元53供给到烹饪室11内部用以清洁烹饪室11的内壁的清洁 水聚集在贮槽55中。贮槽55被设置在低于烹饪室11的底面的中央部的位置处，该位置与 形成在烹饪室11的底面上的聚水孔13A下方的位置相对应。聚集在贮槽55中的清洁水， 例如通过倾空贮槽55的操作或通过连接到贮槽55的管道(未示出)等，而被排出到外部。泵58通过供给单元53将储存在水箱51中的清洁水输送到烹饪室11的内部。管道59将水箱51连接到供给单元53。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第四实施例的操作情况。首先，控制单元操作清洁设备来去除附着到烹饪室11的内表面的食物残渣。如果 清洁设备被操作，泵58则被驱动。因此，在泵58的驱动下，储存在水箱51中的清洁水流经 管道59，从而通过供给单元53被供给到烹饪室11的内部。如果清洁水被供给到烹饪室11的内部，加热源(即，可能为上加热器17、下加热器 18以及对流设备19的至少一个加热源)操作。因此，被供给到烹饪室11内部的清洁水由 操作的加热源加热，因而附着到烹饪室11的内表面的食物残渣被冲走或者被软化，并随后 被擦去，从而可实现对烹饪室11的清洁。同时，曾用于清洁烹饪室11的清洁水通过聚水孔13A聚集在贮槽55中。聚集在 贮槽55中的清洁水(S卩，曾用于清洗烹饪室的清洁水)通过倾空贮槽55的操作或通过连 接到贮槽55的管道，而被排出到外部。在下文中，将参考附图更详细地描述根据本发明的炊具的第五实施例。图7和图8是根据本发明的炊具的第五实施例的竖向剖视图。对于本实施例中与 第一实施例中的元件相同或相似的元件，将省略对它们的详细描述。参考图7和图8，在腔体10内设置烹饪食物的烹饪室11。在烹饪室11的内表面 上，按照与本发明的第一实施例相同或相似的方式，也设有搪瓷涂层12。供给单元61穿过开口部13B，该开口部13B通过切割烹饪室11的顶部表面的一部 分而形成。在此，盖63和64应当形成为具有至少大于供给单元61的水平截面的尺寸，稍 后将对其进行描述。供给单元61被安装成选择性地暴露至烹饪室11的内部。换言之，供给单元61可 移动成暴露至烹饪室11的内部，或被设置在上部位置(其在烹饪室11的外部)。供给单元 61形成为中空的柱形结构，该柱形结构的底面被遮挡。供给单元61可旋转地居中安装在管 道62的一端，高温清洁水从管道62的这一端通过形成于供给单元61的多个供给孔(未示 出)排出。供给孔沿与垂直于供给单元61的外圆周表面的假想线成预定角度的方向，供给 高温清洁水。这可视作与第一实施例中的情况相似。另外，第一盖63和第二盖64分别安装在供给单元61的上方和下方。第一盖63被 设置在供给单元61的上方，以便在供给单元61暴露至烹饪室11的内部时覆盖开口部13B。 第二盖64被设置在供给单元61的下方，以便在供给单元61被设置在烹饪室11的外部时 覆盖开口部13B。在本实施例中，第一盖63和第二盖64分别与供给单元61的上方或下方间隔开预
9定的距离。为此，第一盖63在供给单元61的上表面上方的预定距离处被固定到管道62。 第二盖64被固定到安装杆65的、距供给单元61的下表面为预定长度的一端。在可替代的 实施例中，第一盖63和第二盖64可分别被固定到供给单元61的上表面和下表面。同时，第一密封构件67和第二密封构件68分别被设置在第一盖63的下表面和第 二盖64的卜.表面。第一密封构件67用于密封烹饪室11的外部上表面与第一盖63的下表 面之间的间隙。第二密封构件68用于密封烹饪室11的顶部表面与第二盖64的上表面之 间的间隙。第一密封构件67和第二密封构件68优选地由耐热材料制成，以便在烹饪室11 的内部烹饪食物的过程中抵挡高温。尽管图中未示出，但可设置弹性构件、驱动构件以及驱动力传递构件，从而使供给 单元61选择性地暴露至烹饪室11的内部。例如，弹性构件提供将供给单元61拉出烹饪室 11使其位于烹饪室11外部的弹力。安装在烹饪室11的外部上表面与第一盖63的下表面 之间的螺旋弹簧(coil spring)可用作弹性构件。驱动构件提供驱动力，该驱动力使得供 给单元61被推入到烹饪室11中，从而暴露至烹饪室11的内部。驱动力传递构件将驱动构 件的驱动力传递到供给单元61。例如，马达可用作驱动构件，将驱动构件的驱动力传递到第 一盖63的凸轮可用作为驱动力传递构件。因此，如果驱动马达被驱动，凸轮的一侧使第一 盖63向下移动，从而使供给单元61暴露至烹饪室11的内部。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第五实施例的操作情况。首先，在烹饪室11内部烹饪食物的过程中，供给单元61通过弹性构件的弹力而被 设置在烹饪室11的外部。开口部13B由第二盖64遮挡，并且由第二密封构件68密封位于 烹饪室11的设有开口部13B的顶部表面与第二盖64的上表面之间的间隙。因此，防止在 烹饪室11中烹饪食物的过程中，加热的空气从烹饪室11通过开口部13B泄漏。随后，供给单元61通过开口部13B暴露至烹饪室11的内部，以便冲走或软化附着 到烹饪室11的内表面的食物残渣。更具体地，如果控制单元对驱动构件进行驱动，驱动构 件的驱动力则通过驱动力传递构件而被传递给供给单元61。这使得供给单元61克服弹性 构件的弹力而向下移动，以暴露至烹饪室11的内部。在与本发明的第三实施例类似的结构中，泵48 (参见图4)将聚集在贮槽43 (参见 图4)中的清洁水输送到供给单元61。在贮槽43中，加热源47 (参见图4)对将被输送到供 给单元61的清洁水进行加热。被输送到暴露至烹饪室11内部的供给单元61的高温清洁水，通过供给孔被供给 到烹饪室11的内部。供给单元61可旋转地安装在管道62的一端，并且供给孔沿与垂直于 供给单元61的外圆周表面的假想线成预定角度的方向，供给高温清洁水。因此，如果高温 清洁水通过供给孔被供给到烹饪室11的内部，由于高温清洁水的推进力，供给单元61会以 管道62为中心旋转。由于供给单元61如上所述地以管道62为中心旋转，所以从供给孔供给的高温清 洁水可均勻地清洁附着到烹饪室11的食物残渣。因此，能更有效地执行对烹饪室11的清洁。这时，开口部13B由第一盖63遮盖。而且，由第一密封构件67密封位于烹饪室11 的设有开口部13B的外部上表面与第一盖63之间的间隙。因此，防止通过供给孔供给的高 温清洁水通过开口部13B泄漏到烹饪室11的外部。
另外，如果完成了通过供给单元61对附着到烹饪室11的内表面的食物残渣的清 洗，设置在供给单元61中的驱动构件的驱动力会被停止。因此，如上所述，由于弹性构件的 弹力，供给单元61会移到烹饪室11之外。在下文中，将参考附图更详细地描述根据本发明的炊具的第六实施例。图9是根据本发明的炊具的第六实施例的示意图。本实施例中与第一实施例中的 元件相同或相似的元件使用图1和图2中的相同的附图标记表示，并省略对它们的详细描 述。参考图9，在本实施例中，在烹饪室11的内表面上设置搪瓷涂层12，搪瓷涂层12 包括磷酸盐基成分，例如，包含30 %或更少的五氧化二磷(优选地，包含20 %或更少的五氧 化二磷)的磷酸盐基成分。这可视作与第一实施例中的情况相同或相似。在本实施例中，蒸汽被供给到烹饪室11的内部，并通过所供给的蒸汽对烹饪室11 进行清洁。当然，被供给到烹饪室11内部的蒸汽除用于清洁烹饪室11以外，还可用于对烹 饪室11内部的食物进行烹饪。在本实施例中，设有蒸汽发生设备，其用于产生供给到烹饪室11内部的蒸汽。蒸 汽发生设备被设置成包括水箱71、蒸汽发生单元73、供给单元75、泵77以及管道79。水储存在水箱71中。水箱71可被可拆卸地安装，以便补充水箱71中的水。在 可替代的实施例中，水箱71可从外部水源直接接收水，或者可从包含水的单独的容器接收 水。蒸汽发生单元73用于通过接收及加热来自水箱71中的水而产生蒸汽。为此，蒸 汽发生单元73可与本发明的第一实施例中的加热单元23类似。然而，加热单元23进行加 热使清洁水的温度升高，而蒸汽发生单元73进行加热将水转变为蒸汽。供给单元75将由蒸汽发生单元73产生的蒸汽供给到烹饪室11的内部。泵77用于将储存在水箱71中的水输送到蒸汽发生单元73。管道79将水箱71连接到蒸汽发生单元73，并将蒸汽发生单元73连接到供给单元 75。在下文中，将更详细地描述根据本发明的炊具的第六实施例的操作情况。首先，如果控制单元操作蒸汽发生设备，泵77则被驱动。因此，在泵77的驱动下， 储存在水箱71中的水流经管道79，以便被供给到蒸汽发生单元73。蒸汽发生单元73加热从水箱71供给的水来产生蒸汽。从蒸汽发生单元73产生 的蒸汽流经管道79，以便通过供给单元75被供给到烹饪室11的内部。同时，被供给到烹饪室11内部的蒸汽还可用于清洁烹饪室11或用于对烹饪室11 内部的食物进行烹饪。当被供给到烹饪室11内部的蒸汽用于清洁烹饪室11时，被供给到 烹饪室11内部的蒸汽使附着到烹饪室11的内表面的食物残渣变柔软。使用者擦去由供给 到烹饪室11中的蒸汽软化的食物残渣，以便对烹饪室11进行清洁。尽管结合目前认为是可实施的示例性实施例描述了本发明，但是应该认识到，本 发明并不局限于所公开的实施例，相反地，其旨在涵盖在所附权利要求书的原理和范围内 的各种变型和等同设置方案。在如上所述的实施例中，尽管仅将上加热器、下加热器以及对流设备作为对烹饪 室内部的食物进行烹饪的加热源来进行了描述，但是还可设置其它的加热源。例如，还可设置高频加热源(例如磁控管)，该高频加热源将微波供给到烹饪室的内部。在如上所述的第二实施例中，输出单元输出报告已度过工作时间以及已度过软化 时间的信号。然而，在本发明的其它实施例中，输出单元还可输出报告已度过加热源或蒸汽 发生设备的工作时间和/或已度过工作时间后又度过软化时间的信号。工业实用性利用根据本发明的实施例的炊具，可预期到以下效果。首先，烹饪室的内表面涂覆有包括五氧化二磷(P2O5)的搪瓷。因此，在烹饪室内部 烹饪食物的过程中，可容易对被食物残渣等污染的烹饪室进行清洁。另外，可使用从清洁设备产生的高温清洁水对烹饪室的内部进行清洁。因此，可使 烹饪室的内部保持得更干净。
1权利要求
一种炊具，包括具有烹饪室的腔体；门，其选择性地打开及关闭所述烹饪室；加热源，其提供用于对所述烹饪室内部的食物进行烹饪的热量；以及搪瓷涂层，其被设置在所述烹饪室的内表面上并包括磷酸盐基成分。
2.根据权利要求1所述的炊具，其中所述搪瓷涂层包括五氧化二磷(P2O5)。
3.根据权利要求1所述的炊具，其中所述搪瓷涂层包括20%的磷酸盐基成分。
4.一种炊具，包括 具有烹饪室的腔体；门，其选择性地打开及关闭所述烹饪室；加热源，其提供用于对所述烹饪室内部的食物进行烹饪的热量；搪瓷涂层，其被设置在所述烹饪室的内表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分；清洁设备，其将清洁水供给到所述烹饪室的内部；以及控制单元，其控制所述加热源和所述清洁设备的操作。
5.根据权利要求4所述的炊具，其中所述清洁设备包括 储存清洁水的水箱；以及供给单元，其将储存在所述水箱中的清洁水供给到所述烹饪室的内部。
6.根据权利要求5所述的炊具，其中被供给到所述烹饪室内部的清洁水由用于烹饪食 物的所述加热源或单独的加热源进行加热。
7.根据权利要求4所述的炊具，其中所述清洁设备包括 供给单元，其将清洁水供给到所述烹饪室的内部；以及 贮槽，其使被供给到所述烹饪室内部的清洁水聚集。
8.根据权利要求7所述的炊具，其中被供给到所述烹饪室内部的清洁水由所述加热源 进行加热。
9.根据权利要求7所述的炊具，其中被供给到所述烹饪室中的清洁水由单独的加热源 进行加热。
10.根据权利要求7所述的炊具，其中聚集在所述贮槽中的清洁水由清洁设备再循环 到所述烹饪室的内部，或者被排出到所述烹饪室的外部。
11.根据权利要求7所述的炊具，还包括输出单元，其在用于清洁所述烹饪室内部的清洁设备的操作完成时输出报告信号。
12.根据权利要求7所述的炊具，还包括输出单元，其在用于清洁所述烹饪室内部的所述清洁设备的操作完成之后度过预定时 间时输出报告信号。
13.根据权利要求7所述的炊具，其中所述供给单元选择性地暴露至所述烹饪室的内部。
14.根据权利要求7所述的炊具，其中所述供给单元在将清洁水供给到所述烹饪室内 部的同时进行旋转。
15.根据权利要求14所述的炊具，其中所述供给单元在流出所述供给单元的清洁水的 推进下进行旋转。
16.一种炊具，包括 具有烹饪室的腔体；门，其选择性地打开及关闭所述烹饪室；加热源，其提供用于对所述烹饪室内部的食物进行烹饪的热量；以及 搪瓷涂层，其被设置在所述烹饪室的内表面上并包括五氧化二磷(P2O5)成分； 蒸汽发生设备，其产生被供给到所述烹饪室内部的蒸汽；以及 控制单元，其控制所述加热源和所述蒸汽发生设备的操作。
17.根据权利要求16所述的炊具，其中所述蒸汽发生设备包括 储存水的水箱；以及蒸汽发生单元，其通过加热由所述水箱供给的水产生蒸汽。
18.根据权利要求17所述的炊具，其中所述水箱可拆卸地安装在所述腔体的一侧。
19.根据权利要求16所述的炊具，还包括输出单元，其在用于清洁所述烹饪室内部的蒸汽发生设备的操作完成时输出报告信号。
20.根据权利要求16所述的炊具，还包括输出单元，其在用于清洁所述烹饪室内部的蒸汽发生设备的操作完成之后度过预定时 间时输出报告信号。
全文摘要
在烹饪室的内表面上设置包含磷酸盐基成分的搪瓷涂层，并使用高温清洁水对烹饪室的内表面进行清洁。因此，可更有效地执行对烹饪室的清洁。
文档编号F24C7/00GK101981383SQ200980110992
公开日2011年2月23日 申请日期2009年9月22日 优先权日2008年9月23日
发明者全容奭, 李映佑, 梁在卿, 金亮卿 申请人:Lg电子株式会社