1.一种真空烤瓷炉，包括烤瓷基座（1），所述烤瓷基座（1）上铰接有烤瓷主机（11），所述烤瓷基座（1）带动所述烤瓷主机（11）转动，其特征是：所述烤瓷基座（1）上固定连接有烤瓷台（12），所述烤瓷台（12）上设置有支撑基座（13），所述支撑基座（13）上插接有用于放置牙齿的支撑杆（14），所述烤瓷基座（1）上固定连接有挡板（15），所述挡板（15）上设置有夹持组件（4），所述夹持组件（4）包括固定连接在所述挡板（15）上的固定杆（41）、滑动连接在所述固定杆（41）上的滑动杆（42）、铰接在所述滑动杆（42）上的取物杆（43），所述支撑基座（13）上开设有供所述取物杆（43）插接的嵌合孔（132），所述滑动杆（42）上设置有定位件（5）。
2.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述定位件（5）包括固定连接在所述滑动杆（42）上的定位杆（51）、开设在所述固定杆（41）上的滑动槽（52）、开设在所述滑动槽（52）内壁上的定位槽（53），所述定位杆（51）与所述定位槽（53）互相配合，所述定位杆（51）位于所述滑动槽（52）内。
3.根据权利要求2所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述烤瓷基座（1）的侧壁上滑动连接有放置板（6），所述放置板（6）上开设有放置槽（61），所述放置槽（61）的内壁上固定连接有隔热片（62）。
4.根据权利要求3所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述烤瓷基座（1）的侧壁上固定连接有风扇（7），所述风扇（7）朝向所述放置板（6）。
5.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述支撑基座（13）通过连接件（3）与所述烤瓷台（12）固定连接，所述连接件（3）包括固定连接在所述烤瓷台（12）上的固定凸起（31）、开设在所述支撑基座（13）上的固定凹槽（32），所述固定凸起（31）与所述固定凹槽（32）互相配合。
6.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述烤瓷基座（1）与所述烤瓷主机（11）之间设置有限位组件（2），所述限位组件（2）包括铰接在所述烤瓷基座（1）上的限位杆（21）、滑动连接在所述限位杆（21）上的延伸杆（22）、转动连接在所述延伸杆（22）上的限位块（23）、开设在所述烤瓷主机（11）上的限位槽（24），所述限位块（23）位于所述限位槽（24）内。
7.根据权利要求6所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述烤瓷主机（11）朝向所述烤瓷基座（1）的一侧固定连接有密封圈（111）。
8.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征是：所述挡板（15）上固定连接有散热杆（151），所述散热杆（151）位于所述挡板（15）的边沿。