一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置的制作方法

文档序号:34348484发布日期:2023-06-03 14:30阅读:28来源:国知局
一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置的制作方法

本技术涉及陶瓷烘干,尤其涉及一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置。


背景技术:

1、特种陶瓷是由粘土和其他无机非金属原料,经成型、烧结等工艺生产的板状或块状陶瓷制品,用于装饰与保护建筑物、构筑物的墙面和地面,通常在室温下通过干压、挤压或其他成型方法成型,然后干燥,在一定温度下烧成,特种陶瓷是一种艺术品,从古代流传至今,具有很高的收藏价值,随着现代科技水品的提高,特种陶瓷的制作工艺也在不断的改善,尤其是在烘干方面。

2、市场上出现的烘干装置存在很大的弊端,在随着转盘进行使用的过程中特种陶瓷会产生偏移,影响正常工作,为此,我们提出一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置。


技术实现思路

1、本实用新型主要是解决上述现有技术所存在的技术问题,提供一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置。

2、为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案,一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,包括工作箱,工作箱为矩形盒且侧面开设有矩形开口,工作箱的侧面对应矩形开口处铰接有密封门,工作箱的内部顶侧固定连接有干燥吹风装置,工作箱的内部开设有安装腔,安装腔为矩形腔且设置在干燥吹风装置的下方,工作箱的内部底侧对应安装腔的位置开设有活动孔,安装腔的内部设置有旋转电机,旋转电机的输出端固定连接有旋转轴,旋转轴贯穿活动孔延伸至工作箱的内部,旋转轴远离旋转电机的一端固定连接有转动盘,转动盘为圆盘状,转动盘上等距圆周活动安装有活动块了,活动块了为直角梯形块,活动块了的侧面固定连接有挤压块,挤压块为弧形块,转动盘上活动安装有旋转环,旋转环为圆环状,旋转环的内侧对应活动块了的斜面位置均固定连接有推挤块,推挤块为直角三角形,特种陶瓷放置在转动盘的上方中心位置,旋转环的外侧等距圆周固定连接有第一连接把手,第一连接把手为圆形柱状。

3、作为优选,推挤块的斜面与活动块了的斜面相互靠近。

4、作为优选,密封门的外侧固定连接有第二连接把手,第二连接把手为“回”字状的块。

5、有益效果

6、本实用新型提供了一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置。具备以下有益效果:

7、(1)、该烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,特种陶瓷放置在转动盘的上方中心位置,转动旋转环,旋转环带动推挤块进行旋转,推挤块在转动的时候带动活动块了进行位移,活动块了带着挤压块进行位移,三个挤压块对特种陶瓷进行挤压约束来使特种陶瓷进行约束,来找准特种陶瓷的中心位置,方便在旋转的时候特种陶瓷不会跑偏。

8、(2)、该烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,通过第一连接把手来对旋转环进行旋转,使用方便。



技术特征:

1.一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,包括工作箱(1),工作箱(1)为矩形盒且侧面开设有矩形开口,工作箱(1)的侧面对应矩形开口处铰接有密封门(2),工作箱(1)的内部顶侧固定连接有干燥吹风装置(3),工作箱(1)的内部开设有安装腔(4),安装腔(4)为矩形腔且设置在干燥吹风装置(3)的下方,工作箱(1)的内部底侧对应安装腔(4)的位置开设有活动孔(5),安装腔(4)的内部设置有旋转电机(6),旋转电机(6)的输出端固定连接有旋转轴(7),旋转轴(7)贯穿活动孔(5)延伸至工作箱(1)的内部,旋转轴(7)远离旋转电机(6)的一端固定连接有转动盘(8),转动盘(8)为圆盘状,其特征在于:所述转动盘(8)上等距圆周活动安装有活动块了(9),活动块了(9)为直角梯形块,活动块了(9)的侧面固定连接有挤压块(10),挤压块(10)为弧形块,转动盘(8)上活动安装有旋转环(11),旋转环(11)为圆环状,旋转环(11)的内侧对应活动块了(9)的斜面位置均固定连接有推挤块(12),推挤块(12)为直角三角形,特种陶瓷放置在转动盘(8)的上方中心位置。

2.根据权利要求1所述的一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,其特征在于:所述推挤块(12)的斜面与活动块了(9)的斜面相互靠近。

3.根据权利要求1所述的一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,其特征在于:所述旋转环(11)的外侧等距圆周固定连接有第一连接把手(13),第一连接把手(13)为圆形柱状。

4.根据权利要求1所述的一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,其特征在于:所述密封门(2)的外侧固定连接有第二连接把手(14),第二连接把手(14)为“回”字状的块。


技术总结
本技术涉及陶瓷烘干技术领域,且公开了一种烘干均匀的特种陶瓷用烘干装置,包括工作箱,工作箱为矩形盒且侧面开设有矩形开口,工作箱的侧面对应矩形开口处铰接有密封门,工作箱的内部顶侧固定连接有干燥吹风装置,工作箱的内部开设有安装腔,安装腔为矩形腔且设置在干燥吹风装置的下方,工作箱的内部底侧对应安装腔的位置开设有活动孔。本技术中,特种陶瓷放置在转动盘的上方中心位置,转动旋转环,旋转环带动推挤块进行旋转,推挤块在转动的时候带动活动块了进行位移,活动块了带着挤压块进行位移,三个挤压块对特种陶瓷进行挤压约束来使特种陶瓷进行约束,来找准特种陶瓷的中心位置,方便在旋转的时候特种陶瓷不会跑偏。

技术研发人员:张育林,胡钰彬
受保护的技术使用者:景德镇宇宏特种陶瓷有限公司
技术研发日:20221212
技术公布日:2024/1/12
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