带分布盘的换热器的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种换热设备，尤其涉及一种带分布盘的换热器。
【背景技术】
[0002]在目前化工行业生产中，换热器包括下管箱壳、中管箱壳、上管箱壳、挡板、管板和换热管；在中管箱壳两端各设有一管板，若干换热管通过管板设置在中管箱壳中，下管箱壳连接在中管箱壳下端口，上管箱壳连接在中管箱壳上端口，在下管箱壳的下端设有出液孔，在上管箱壳的上端设有进液孔，挡板设置在进液孔下端的上管箱壳内；在使用过程中，液体从进液孔流入上管箱壳并被挡板分散后流入换热管中，再流入下管箱壳后从出液孔流出，虽然在进液孔处的块挡板会避免液体直接冲到换热管内，减少对换热管的管头的冲刷，由于挡板不能均匀分散液体，从而使有的换热管内已经有液体流入，有的却出现干壁现象，流入换热管内的液体不均匀，不但会导致换热管延伸率不一致，容易出现换热管的管头泄露现象，从而影响产品的质量。
【发明内容】
[0003]针对上述缺点，本发明的目的在于提供一种能使液体均匀分布进入换热管的带分布盘的换热器。
[0004]本发明的技术内容为，一种带分布盘的换热器，包括下管箱壳、中管箱壳、上管箱壳、管板和换热管；在中管箱壳两端各设有一管板，若干换热管通过管板设置在中管箱壳中，下管箱壳连接在中管箱壳下端口，上管箱壳连接在中管箱壳上端口，在上管箱壳的上端设有进液孔；其特征在于它还包括上受液盘、下受液盘、溢流圈、筋板和连接管；在上受液盘下端外侧设有一溢流圈，上受液盘由溢流圈通过筋板设置在进液孔下端的上管箱壳内，下受液盘通过连接管设置子在上受液盘下端；在上受液盘的底部设有上落液孔，在下受液盘的底部设有下落液孔，上落液孔的直径大于下落液孔。
[0005]本发明与现有技术相比所具有的有点为:本发明通过在上管箱壳内设置两层受液板使流入上管箱壳内的液体能均匀分布的落入到各换热管中，即避免液体对换热管的管头的冲刷，也能防止部分换热管出现干壁现象，避免了换热管的管头出现容易泄露的现象，从而不影响产品的质量。
【附图说明】
[0006]图1为本发明的结构示意图。
[0007]图2为图1中A部的局部发大图。
具体实施例
[0008]如图1和图2所示，一种带分布盘的换热器，包括下管箱壳1、中管箱壳2、上管箱壳3、管板4和换热管5 ;在中管箱壳2两端各设有一管板4，若干换热管5通过管板4设置在中管箱壳2中，下管箱壳I连接在中管箱壳2下端口，上管箱壳3连接在中管箱壳2上端口，在上管箱壳3的上端设有进液孔3.1 ;其特征在于它还包括上受液盘6、下受液盘7、溢流圈8、筋板9和连接管10 ;在上受液盘6下端外侧设有一溢流圈8，上受液盘6由溢流圈8通过筋板9设置在进液孔3.1下端的上管箱壳3内，下受液盘7通过连接管10设置子在上受液盘6下端；在上受液盘6底部设有上落液孔6.1，在下受液盘7底部设有下落液孔7.1，上落液孔6.1的直径大于下落液孔7.1o
[0009]本发明的工作原理为，液体从上管箱壳3的进液孔3.1落入到上受液盘6中，经上落液孔6.1落入下受液盘7中，再经下落液孔7.1均匀分散落入各干换热管5中达到蒸发、提浓的目的；当进液孔3.1的液体流量大时，液体一部分经受液盘6的落液孔6.1落入下受液盘7中，另一部分液体从受液盘6中溢出后经溢流圈8落入下受液盘7中，通过下落液孔7.1均匀分散落入各干换热管5中。
【主权项】
1.带分布盘的换热器，包括下管箱壳、中管箱壳、上管箱壳、管板和换热管；在中管箱壳两端各设有一管板，若干换热管通过管板设置在中管箱壳中，下管箱壳连接在中管箱壳下端口，上管箱壳连接在中管箱壳上端口，在上管箱壳的上端设有进液孔；其特征在于它还包括上受液盘、下受液盘、溢流圈、筋板和连接管；在上受液盘下端外侧设有一溢流圈，上受液盘由溢流圈通过筋板设置在进液孔下端的上管箱壳内，下受液盘通过连接管设置子在上受液盘下端；在上受液盘的底部设有上落液孔，在下受液盘的底部设有下落液孔，上落液孔的直径大于下落液孔。
【专利摘要】本发明涉及一种带分布盘的换热器，包括下管箱壳、中管箱壳、上管箱壳、管板和换热管；在中管箱壳两端各设有一管板，若干换热管通过管板设置在中管箱壳中，下管箱壳连接在中管箱壳下端口，上管箱壳连接在中管箱壳上端口，在上管箱壳的上端设有进液孔；其特征在于它还包括上受液盘、下受液盘、溢流圈、筋板和连接管；在上受液盘下端外侧设有一溢流圈，上受液盘由溢流圈通过筋板设置在进液孔下端的上管箱壳内，下受液盘通过连接管设置子在上受液盘下端；在上受液盘的底部设有上落液孔，在下受液盘的底部设有下落液孔，上落液孔的直径大于下落液孔。本发明具有能使液体均匀分布进入换热管的优点。
【IPC分类】B01D1-30, F28F9-22, F28D7-16
【公开号】CN104748588
【申请号】CN201510175921
【发明人】陈少忠, 刘晓薇
【申请人】江阴中南重工有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年4月15日