主动式光学设备除污装置的制作方法

本实用新型涉及光学除污领域，特别涉及一种主动式光学设备除污装置。

背景技术：

光学设备已经进入了人类日常生活、工业生产的各种应用中，成为人类生活与工业生产不可缺少的器具。光学设备通过接受或者发射可见光或者肉眼不可见的红外、紫外光进行采集、运算、分析等实现其功能。

但是，光学设备在使用过程中最大的弱点在于容易受到环境中污染物的干扰和影响，对于很多精度要求很高的领域，污染物的干扰直接影响其测量效果，甚至让很多光学设备在实际工业生产与生活中，无法真正长期、可靠使用。对光学设备进行除污、防尘是很多光学设备必不可少的工作，除污、防尘效果的好坏直接影响到光学设备的使用效果。

目前，光学设备的主要除污方法与装置主要有：

1、 人工主动擦拭清洗方法。人工主动清洗的方法效果是最好的，但是劳动量大，特别是有的光学设备安装位置或者结构封闭性强，进行清洁操作的难度比较大，效率低。

2、 雨刷式擦拭工具擦拭方法。雨刷式光学部件被动擦拭方式，通过雨刷式机构在电机驱动下，擦拭光学部件表面，光学部件是被动擦拭。这种擦拭方式结构较复杂，擦拭效果差，无法运用于较高污染环境下的光学设备的除污工作。同时存在擦拭区域小；擦拭过程中，雨刷部件干扰光学设备工作；擦拭后污染物回收困难；以及寿命短；擦拭内容简单，擦拭效果差的特点。

3、 气体吹扫方法。在光学部件前面使用气体隔离或者气体吹扫的方式，一般运用于较低污染环境下。防尘除污效果普通，但是成本非常高昂。

4、 超声波吹扫方法。除污防尘效果差，无法运用于较大污染环境下。

5、 光学材料主动更换方法。如本实用新型人的专利号201120449961.2的激光测量设备防尘装置所公示的方法与设备。该方法，防尘除污效果好，但是在较高污染环境下效果难以长久。结构相对复杂；特别是作为隔离部件的光学材料在较大污染环境使用频率高；成本高；维护量大；成本高。同时，整体防尘部件由于卷动光学材料的使用，很难在高温环境下使用。

6、表面防尘材料涂抹方法。在光学表面喷涂纳米等疏水性材料，防尘时效性差，很难长时间使用，更无法运用于较为恶劣的污染环境中。

技术实现要素：

实用新型目的：针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种主动式光学设备除污装置，除污效率高、效果好，能够与多种光学设备组合使用且不影响光学设备正常工作，结构简单，可靠性高。

技术方案：本实用新型提供了一种主动式光学设备除污装置，包括驱动部件、光学材料部件和除污部件，所述驱动部件用于驱动所述光学材料部件旋转，所述光学材料部件运动时，且至少在旋转时所述光学材料部件的待除污表面与所述除污部件有效接触。

优选地，所述的主动式光学设备除污装置还包含与所述除污部件配合使用的污物收集装置；所述污物收集装置为袋式污物收集装置或负压式污物收集装置。污物收集装置用于将除污后产生的污物收集，简易地实现除污后污染物的集中回收与处理。

优选地，所述的主动式光学设备除污装置还包括运算处理部件，所述运算处理部件分别与所述驱动部件和/或所述除污部件连接，用于通过预设程序控制所述驱动部件和/或所述除污部件的运行。

优选地，所述驱动部件直接驱动所述光学材料部件运动；或者，所述驱动部件通过连接部件间接驱动所述光学材料部件运动。

优选地，所述光学材料部件为平面结构、圆柱结构、圆罩结构或环形带结构。

优选地，所述光学材料部件为透明材料或反射材料。

本实用新型还提供了一种光学设备，包含上述主动式光学设备除污装置。

本实用新型还提供了一种电磁波设备，包含上述主动式光学设备除污装置。

有益效果：本实用新型通过光学材料部件运动时与除污部件之间的有效接触与相对旋转来实现对光学材料部件的主动除污，与现有技术中除污部件做往复运动进行主动除污相比，本实用新型除污范围较大，效率高，将其用于光学设备中在除污工作时不影响光学设备正常工作；由于除污部件可以设计成固定不动的，所以除污部件可以设置成多种除污组件的组合使用，从而使得本实用新型可以多种除污手段并用，并能轻松实现对光学材料部件的双面除污，除污效果好；本装置整体结构简单，可靠性高，使用寿命长；应用范围广泛。

附图说明

图1为实施方式1中主动式光学设备除污装置结构示意图；

图2为实施方式2中主动式光学设备除污装置结构示意图；

图3为实施方式3中主动式光学设备除污装置结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行详细的介绍。

实施方式1：

本实施方式提供了一种主动式光学设备除污装置，如图1所示，该除污装置主要由驱动部件1、光学材料部件2、除污部件3以及运算处理部件组成，其中，驱动部件1与光学材料部件2通过旋转轴5直接驱动连接，能够驱动光学材料部件2沿一个方向旋转、沿正反两个方向旋转或者在预设的角度范围内往复旋转，在光学材料部件2旋转时，光学材料部件2的待除污表面与固定设置的除污部件3有效接触，由此实现在光学材料部件2旋转时，除污部件3将待除污表面的污渍去除；运算处理部件与驱动部件1连接，通过预设的程序控制驱动部件1驱动光学材料部件2旋转。

在本实施方式中，上述光学材料部件2为硬质透明材料的圆柱形结构，在实际应用中，也可以是硬质透明材料的平面结构，或者是硬质反射材料的圆柱形结构或平面结构。

当然，上述除污部件3也可以设计成可以运动的，将其与运算处理部件连接，并由运算处理部件控制其的运行。

在本实施方式中，除污部件3由四个部分组成，分别为第一除污组件31、第二除污组件32、清洗组件33和擦拭组件34，其中，第一除污组件31可以是钢片，用于去除光学材料部件2的待除污表面的大颗粒灰尘，第二除污组件32可以是橡胶片，用于去除待除污表面的小颗粒灰尘，清洗组件33中的清洗液可以是水或者清洁剂等，用于进一步去除待除污表面上不易去除的污渍，擦拭组件34可以是棉布等，用于对清洗组件33清洗后的待除污表面进行擦拭。上述除污部件3的四个部分可以单独使用，也可以组合使用，组合使用效果更佳，图1为四个部分组合使用的示意图。

本实施方式在工作时，运算处理部件控制驱动部件1驱动光学材料部件2旋转，在旋转的同时，光学材料部件2的待除污表面与除污部件3有效接触，除污部件3的四个部分同时或相继进行工作，以实现对待除污表面的除污工作。

实施方式2：

本实施方式为实施方式1的进一步改进，主要改进之处在于，在本实施方式中，驱动部件1通过连接部件6间接驱动光学材料部件2旋转，如图2所示，因为在实际应用中，驱动部件1置于光学材料部件2中心部位可能会妨碍整个设备正常工作，所以在本实施方式中，优选将驱动部件1通过连接部件6间接驱动光学材料部件2的旋转，以增加本设备的实用性。

除此之外，本实施方式与实施方式1完全相同，此处不做赘述。

实施方式3：

本实施方式为实施方式1或2的进一步改进，主要改进之处在于，在本实施方式中，在除污部件3下方还设置有与其配合使用的污物收集装置4，如图3所示，该污物收集装置4可以是袋式的，也可以是负压式的，用于将除污后产生的污物收集，简易地实现除污后污染物的集中回收与处理。

除此之外，本实施方式与实施方式1或2完全相同，此处不做赘述。

实施方式4：

本实施方式提供了一种光学设备，该光学设备中设置有上述任一实施方式中的主动式光学设备除污装置，主动式光学设备除污装置设置与光学设备的前端，以便于在光学设备工作时进行除污工作，且不影响光学设备的正常工作。

实施方式5：

本实施方式提供了一种电磁波设备，该电磁波设备中也可以设置上述任一实施方式中的主动式光学设备除污装置，主动式光学设备除污装置设置与电磁波设备的前端，以便于在电磁波设备工作时进行除污工作，且不影响电磁波设备的正常工作。

上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。