电镀污水处理设备以及系统的制作方法

文档序号:12636148阅读:178来源:国知局
电镀污水处理设备以及系统的制作方法与工艺

本发明涉及污水处理技术领域,尤其是涉及一种电镀污水处理设备以及系统。



背景技术:

目前,对于污水排放来说,电镀工厂(或车间)排放的电镀污水占了很大程度的比例。电镀污水的主要来源有以下几个方面:镀件除油、除锈前处理和电镀过程中产生大量的清洗污水;废电镀液、不良镀层退镀液;冲洗镀槽、各种设备以及冲刷车间地面的污水;烤漆工艺的脱脂、磷化工序产生少量含磷污水;污泥脱水;化验室污水等。由于镀种较多,工艺繁琐,电镀污水水质较复杂,电镀污水中含有铬、锌、铜、镍、镉等重金属离子以及酸、碱、氰化物等具有很大毒性的杂物,而电镀污水的危害众所周知,电镀废水就其总量来说,比如造纸、印染、化工等行业的水量小,污染面窄,但由于电镀厂点分布广,污水中所含的高毒物质的种类多,有的物质具有致癌、致畸、致突变,危害性是很大。未经处理达标的电镀废水直接排放,流入河道、池塘渗入地下,不仅对环境造成危害,而且会污染饮用水和工业用水,危害人类的身体健康。因此必须认真地加以处理,以免对人们造成危害。

但是,现有技术的污水处理设备的污水处理效果不理想,而且大部分厂达不到国家废水排放标准。



技术实现要素:

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种电镀污水处理设备以及系统,以解决现有技术的污水处理设备污水处理效果不理想的技术问题,能够改善污水处理效果,同时能够提高处理效率。

第一方面,本发明实施例提供了一种电镀污水处理设备,该设备包括:

第一反应室、第二反应室和加药装置,沿着所述第一反应室指向所述第二反应室的方向依次设置有高速反应器和固液分离槽;其中,

所述加药装置用于向处于所述第一反应室与所述固液分离槽之间的待处理电镀污水添加药剂;

所述第一反应室用于对待处理电镀污水进行预处理;

所述第二反应室用于对固液分离槽分离后的液体进行后处理,以满足中水回用。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,所述高速反应器至少包括第一高速反应器和第二高速反应器,所述第一高速反应器和第二高速反应器的长度方向垂直于竖直方向且沿竖直方向排列设置。

结合第一方面的第一种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,所述加药装置至少包括三个加药器,分别用于向所述第一高速反应器、所述第二高速反应器和所述固液分离槽中添加药剂;所述加药装置还设置有用于控制药量的计量泵。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,该设备还包括:斜板和设置于所述固液分离槽的内壁上的安装支架,所述斜板设置于所述安装支架上,所述斜板上方设置有溢流沟。

结合第一方面的第三种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,所述第二反应室与所述固液分离槽之间设置有过滤网。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式,其中,该设备还包括:输液泵和迁移泵;其中,

所述输液泵设置于所述第一反应室与所述高速反应器之间,用于输送待处理电镀污水;

所述迁移泵与所述第二反应室相连接,用于将处理后的液体向外输送进行循环利用。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第六种可能的实施方式,其中,所述固液分离槽底部设置有沉淀池,所述沉淀池为“V”型。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第七种可能的实施方式,其中,所述固液分离槽内设置有用于分散污泥,使污泥流动的污泥圆盘分散缓冲器。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第八种可能的实施方式,其中,所述第一反应室和所述第二反应室分别设置有用于加速反应的搅拌槽和用于使反应更彻底的滞留槽;其中,

所述搅拌槽内设置有搅拌器;

所述滞留槽内设置有液位控制器。

第二方面,本发明实施例提供了一种电镀污水处理系统,该系统包括:

电控箱和第一方面及其可能的实施方式中所述的电镀污水处理设备;其中,

所述电控箱包括主控器,所述主控器用于控制所述电镀污水处理设备运行,以实现全自动化操作。

本发明实施例提供的技术方案带来了以下有益效果:本发明实施例提供的电镀污水处理设备以及系统中,包括:第一反应室、第二反应室和加药装置,沿着所述第一反应室指向所述第二反应室的方向依次设置有高速反应器和固液分离槽;通过所述第一反应室用于对待处理电镀污水进行预处理;所述加药装置用于向处于所述第一反应室与所述固液分离槽之间的待处理电镀污水添加药剂,进行高速反应处理和固液分离,所述第二反应室用于对固液分离槽分离后的液体进行后处理,以满足中水回用。能够改善污水处理效果,提高污水处理效率,同时能够实现循环使用,具有节能环保的优点,能够满足国家污水处理标准。

此外,本发明实施例提供的设备以及系统还具有以下特点:

1)、体积小:添加药剂的储药箱、高速反应器、计量泵、迁移泵、搅拌器、固液分离槽、电控箱全部组合在一起,占地面积只有1.628m2,高1.85m。

2)、布局合理:各部件总成装卸方便,便于维修,整个设备有各种管线几十条,全部采取隐蔽式结构,外观整洁。

3)、推流式流转:各道工序的废水流转,采用一次提升,推流式前进,降低了动能损耗。

4)、高速反应:工艺流程中,添加药剂,采用计量泵自动添加,经高速反应器,反应彻底,缩短了工艺时间十多倍,简化了反应处理设备。

5)、快速沉淀:污泥采用盘式分散器,斜板沉淀,在最短时间内达到固液分离,清水不断流出,泥浆自动排放。

6)、全自动控制:各道工序的工艺参数的测量、显示、各种迁移泵的启停,添加药剂的计量泵工作,搅拌器的运转,均有自动化仪表pH、ORP自动化仪表来控制,实现全自动操控。

7)、填补国内空白:复合法槽边处理机,目前从国内外资料查询,类似这种结构设计,尚未见报道。

本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例一提供的一种电镀污水处理设备的结构框图;

图2为本发明实施例二提供的一种电镀污水处理设备的立体图;

图3为本发明实施例二提供的一种电镀污水处理设备的侧视图;

图4为本发明实施例二提供的一种电镀污水处理设备的D-D的剖视图;

图5为本发明实施例三提供的一种电镀污水处理系统的结构框图。

图例:100-第一反应室;200-第二反应室;300-加药装置;400-高速反应器;500-固液分离槽;301-第一加药口;302-第二加药口;303-第三加药口;1-第一反应槽;2-第一滞留槽;3-第二反应槽;4-第二滞留槽;5-滚轮;6-底座;7-第一高速反应器;8-进水口;9-第二高速反应器;10-输液泵;11-储药箱;12-管线盒;13-计量泵;14-pH计;15-过滤器;16-搅拌器;17-ORP计;18-斜板;19-过滤网;20-污泥圆盘分散缓冲器;21-排污口;22-迁移泵;23-沉淀池;24-第三反应槽;25-第三滞留槽;26-安装支架;27-溢流沟;01-电控箱;02-电镀污水处理设备。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

考虑到现有技术中污水处理设备的污水处理效果不理想。基于此,本发明实施例提供的一种电镀污水处理设备以及系统,以解决现有技术中污水处理效果不理想技术问题,能够改善污水处理效果,同时能够提高处理效率。

实施例一:

如图1所示,本发明实施例提供了一种电镀污水处理设备,该设备包括:

第一反应室100、第二反应室200和加药装置300,沿着第一反应室100指向第二反应室200的方向依次设置有高速反应器400和固液分离槽500。

其中,加药装置300用于向处于第一反应室100与固液分离槽500之间的待处理电镀污水添加药剂。

具体的,加药装置300可以通过处于第一反应室100与固液分离槽500之间的管道进行添加药剂,加药装置300还可以直接向高速反应器400和固液分离槽500中添加药剂,药剂包括包括重金属去除剂、大分子絮凝助剂、高分子絮凝剂、镍金属去除剂、中性助凝剂等。

第一反应室100用于对待处理电镀污水进行预处理。

具体的,第一反应室100设置有进水口,待处理电镀污水经进水口注入第一反应室100进行预处理,预处理可以包括油水分离(可选步骤)、调节反应环境(如搅拌、调节pH值、ORP电位)。

第二反应室200用于对固液分离槽500分离后的液体进行后处理,以满足中水回用。

具体的,后处理包括过滤、搅拌、中水再处理(搅拌、调节pH值)、返回生长线循环使用。

实施例二:

本发明实施例提供一种电镀污水处理设备,如图2至图4所示,该设备包括:

第一反应室100、第二反应室200和加药装置300,沿着第一反应室100指向第二反应室200的方向依次设置有高速反应器400和固液分离槽500。

其中,加药装置300用于向处于第一反应室100与固液分离槽500之间的待处理电镀污水添加药剂。

具体的,加药装置300可以通过处于第一反应室100与固液分离槽500之间的管道进行添加药剂,加药装置300还可以直接向高速反应器400和固液分离槽500中添加药剂,药剂包括包括重金属去除剂、大分子絮凝助剂、高分子絮凝剂、镍金属去除剂、中性助凝剂等。

第一反应室100用于对待处理电镀污水进行预处理。

具体的,第一反应室100设置有进水口8,待处理电镀污水经进水口8注入第一反应室100进行预处理,预处理可以包括油水分离(可选步骤)、调节反应环境(如搅拌、调节pH值、ORP电位)。

第二反应室200用于对固液分离槽500分离后的液体进行后处理,以满足中水回用。

具体的,后处理包括过滤、搅拌、中水再处理(搅拌、调节pH值)、返回生长线循环使用。

进一步的是,第一反应室100设置有用于加速反应的搅拌槽和用于使反应更彻底的滞留槽,第二反应室200也设置有用于加速反应的搅拌槽和用于使反应更彻底的滞留槽;其中,所述搅拌槽内设置有搅拌器16,所述滞留槽内设置有液位控制器(图中未示出)。液位控制器用于控制第一反应室100、第二反应室200的液位变化,以实现对设备的工作效率进行控制,同时防止处理不达标,还可以起到防止液体溢出污染环境、损坏设备零部件的效果。

其中,第一反应室100的搅拌槽至少包括第一反应槽1、第二反应槽3,滞留槽至少包括第一滞留槽2和第二滞留槽4,具体位置关系参照图4,第一反应槽1、第一滞留槽2、第二反应槽3和第二滞留槽4通过内部管路依次连通,第一反应槽1底部设置有进水口8,待处理电镀污水由底部的进水口8注入第一反应槽1,在第一反应槽1内通过调节反应环境,如通过pH计14、ORP计17调节pH值、ORP电位值,经过搅拌器16搅拌加速,可以将六价铬还原为三价铬,然后由第一反应槽1上方管路注入第一滞留槽2,在第一滞留槽2内滞留,使还原更彻底,然后有第一滞留槽2下部管路进入第二反应槽3,在第二反应槽3内通过再次调节反应环境,如pH值,经过进一步的搅拌加速反应后,由第二反应槽3上部管路流入第二滞留槽4,在第二滞留槽4内滞留反应,从而达到使反应完全,能够实现待去除离子的微量化。待处理电镀污水经过由下到上到下到上到下,使反应更加彻底,然后经管道输出进行后续工艺处理。

需要说明的是,该设备还可以包括用于进行油水分离的油水分离槽(图中未示出),油水分离槽与第一反应室100通过管路连通,此时,进水口8设置在油水分离槽中,经油水分离后进入第一反应室100。

第二反应室200设置由搅拌槽和滞留槽,其中搅拌槽至少包括第三反应槽24,滞留槽至少包括第三滞留槽25,经过固液分离槽500分离后的液体(中水)由下部进入第三反应槽24,为了进一步优化污水处理效果,避免微量的重金属离子引起交叉污染以及酸碱反应不完全,在第三反应槽24内调节反应环境,如由pH计14调节pH值至7.5,经过搅拌器16搅拌加速后,由第三反应槽24上部管路注入第三滞留槽25,中水在第三滞留槽25内滞留,使酸碱反应更彻底,以满足中水回用,然后有管道输出,进行后续循环使用。

优选的是,高速反应器400至少包括第一高速反应器7和第二高速反应器9,第一高速反应器7和第二高速反应器9的长度方向垂直于竖直方向且沿竖直方向排列设置,一方面,第一高速反应器7和第二高速反应器9在长度方向上垂直于竖直方向且沿竖直方向横向并排设置可以减少输液泵10的动能损耗;另一方面还可以可以减小其占用体积,从而减小了整个设备的体积,有利于实现设备的小型化。

进一步的是,加药装置300至少包括三个加药器,分别用于向第一高速反应器7、第二高速反应器9和固液分离槽500中添加药剂。

具体的,加药装置300至少包括第一加药器、第二加药器和第三加药器,分别用于通过第一加药口301、第二加药口302和第三加药口303向第一高速反应器7、第二高速反应器9和固液分离槽500中添加反应用药剂。在第一高速反应器7中,添加的药剂与污水中的重金属离子化合成复合物,在第二高速反应器9内,将另一种药剂与污水化合。需要说明的是,图2中示出了第一加药口301的位置设置在管道上,当然也可以设置在第一高速反应器7的任意位置上,只要是能够实现向第一高速反应器7加药功能,均在本发明的保护范围之内。其他加药口的位置设置类比第一加药口301,在此不在赘述。

加药装置300还设置有用于控制药量的计量泵13。

优选的是,计量泵13的下方设置有过滤器15,过滤器15用于对添加的药剂进行过滤,滤掉添加药剂中的杂质,使药剂较为干净澄清。经过过滤后的药剂经过加药管道加入到高速反应器400或固液分离槽500中。

进一步的是,该设备还包括储药箱11,储药箱11与第一加药口301、第二加药口302、第三加药口303通过管道连通,且该连通的管道上设置有用于控制药量的计量泵13;需要说明的是,该管道上设置由电磁阀,用于实现自动添加药剂。

优选的是,该设备还包括斜板18和安装支架26。

其中,斜板18为蜂窝状,一方面可以起到增大接触面积的作用,另一方面方便固体下滑,安装支架26设置于固液分离槽500的内壁上,斜板18设置于安装支架26上,斜板18的上方还设置有溢流沟27。

进一步的是,第二反应室200与固液分离槽500之间设置有过滤网19。经固液分离槽500进行固液分离后的液体由溢流沟27溢出经过滤网19进入第二反应室200。

具体的,过滤网19材质为不锈钢,经固液分离槽500进行固液分离后的液体由溢流沟27溢出经过滤网19有底部进入第二反应室200中的第三反应槽24。溢流沟27与第三反应室之间设置有一个溢出通道,过滤网19设置在溢流沟27与溢出通道的上部和/或溢出通道与第三反应槽24的下部溢流孔处,溢流孔的高度约为50mm;也就是说,过滤网19的设置有三种方式:第一种方式:在溢流沟27与溢出通道的上方可以设置一个过滤网19,第二种方式:在溢出通道与第三反应槽24的下部溢流孔处设置一个过滤网19,第三种方式是在前述的两个位置处均设置由过滤网19,图2示出了第三种方式。

优选的是,固液分离槽500底部设置有沉淀池23,将加完药剂的废水进行固液分离,沉淀池23为“V”型,设置成“V”型利于生成的固体(污泥)下滑。

进一步的是,固液分离槽500内设置有用于分散污泥,使污泥流动的污泥圆盘分散缓冲器20。

具体的,固液分离槽500的外侧还设置有排污口21,排污口21设置有排污阀,用于定时排放污泥;污泥圆盘分散缓冲器20的外部连接有电机驱动,污泥圆盘分散缓冲器20与排污口21相连,污泥圆盘分散缓冲器20能够产生大面积的推流作用,以增加池底水体流动,防止污泥沉积堵塞排污口21。污泥采用污泥圆盘分散缓冲器20以及斜板18沉淀,在最短时间内达到固液分离,清水不断流出,泥浆自动排放,能够使固液分离槽500实现快速沉淀、固液分离。

需要说明的是,沉淀池23的固体部分通过排污口21经管道引至一污泥浓缩池,污泥浓缩池与污泥压滤机相连。沉淀污泥自动排入废水处理站污泥浓缩池,经污泥压滤机压滤成干饼,交有资质单位统一处理。

优选的是,该设备还包括输液泵10和迁移泵22;其中,

输液泵10,又叫提升泵,设置于第一反应室100与高速反应器400之间,用于输送待处理电镀污水。

具体的,输液泵10设置于第二滞留槽4与第一高速反应器7之间,各道工序的废水流转,采用输液泵10进行一次提升,推流式前进,降低了其动能损耗。

迁移泵22,又称为循环泵,与第二反应室200相连接,用于将处理后的液体向外输送进行循环利用。

具体的,迁移泵22与第四滞留槽相连接,用于将处理过的中水进行回用,输出至生产线进行使用,在输出至生产线的管道上还可以设置冷却器,冷却器与迁移泵22的输出端相连接,也就是中水回用再次应用于原漂洗工序,从而形成了一个闭环循环,真正做到电镀工艺过程实现微排放,节能环保,提高了处理效率和效果,避免了交叉污染。

作为本发明的优选实施例,迁移泵22为化工流程泵或磁力泵。

化工流程泵是化工生产过程中所使用的各种泵的总称,其种类很多,按照其作用原理可分为叶片泵,如离心泵、轴流泵、混流泵、部分流泵、旋涡泵等;容积泵,如往复泵(包括柱塞泵、活塞泵、隔膜泵等);回转泵(包括螺杆泵、液环泵齿轮泵、滑片泵、罗茨泵、径向柱塞泵等)。化工流程泵能够在高温、低温、高压、易燃、易爆、有毒腐蚀介质下工作,其耐腐蚀性优良,密闭性好,耐磨损性极佳。

磁力泵是将永磁联轴的工作原理应用于离心泵的新产品,设计合理,工艺先进,具有全密封,无泄漏,耐腐蚀等特点。磁力泵(磁力驱动泵)主要由泵头、磁力传动器(磁缸)、电动机、连接底板等几部分零件组成。磁力泵磁力传动器由外磁转子、内磁转子及不导磁的隔离套组成当电动机带动外磁转子旋转时,磁场能穿透空气隙和非磁性物质,带动与叶轮相连的内磁转子作同步旋转,实现动力的无接触同步传递,将容易泄露的动密封结构转化为零泄漏的静密封结构。由于泵轴、内磁转子被泵体、隔离套完全封闭,从而彻底解决了“跑、冒、滴、漏”问题。

进一步的是,该设备还包括底座6,底座6设置有滚轮5,滚轮5设置有刹车装置,刹车装置具体可以是刹车片。

其中,底座6用于支撑整个设备,滚轮5用于方便设备的移动搬迁。

优选的是,该设备还包括管线盒12,所述管线盒12用于收纳动力线,使整个设备美观整洁。整个设备有各种管线几十条,全部采取隐蔽结构,外观整洁。此外,各部件总成装卸方便,便于维修。

需要说明的是,经处理后的中水中有害物质可以达到国家排放标准。但是,处理过程中由于酸碱中和,产生的盐类如硫酸钠、氯化钠在水中不断增加。盐的产生在处理过程中不可避免,直接排放不会对环境有所影响。但是含量达到一定值时,会影响漂洗质量,为了不让它积累,一天工作后,将生产线上的逆流漂洗槽(污水的源头,逆流漂洗槽的污水由电镀污水处理设备进水口流入电镀污水处理设备)的漂洗水全部排入废水处理站,经处理合格后排入下水管网。生产线上的逆流漂洗槽中重新注入自来水,每天更换一次或两天更换一次,具体根据各厂实际情况而定。

实施例三:

本发明实施例提供一种电镀污水处理系统,如图2和图5所示,该系统包括:电控箱01和上述实施例所述的电镀污水处理设备02。

电控箱01包括主控器,主控器用于控制电镀污水处理设备02运行,以实现全自动化操作。电控箱01作为整个设备的大脑,采用集成电路设计,控制整个设备正常工作、运转。

具体的,如图2所示,电控箱01可以集成设置在电镀污水处理设备02上,以节省整个系统的占用面积,减小了设备体积;电控箱01也可以单独的分离出来,例如电控箱01可以是工业控制计算机,通过有线模块(如RS485总线、光纤)或者无线模块(如WiFi、3G、4G网络)实现对设备的控制。

进一步的是,电控箱01还包括pH计调节仪、ORP计调节仪、自动加药控制器、搅拌控制器、泵的启停控制装置。

其中,pH计调节仪与pH计14相连接,用于实现pH的自动控制;ORP计调节仪与ORP计17相连接,用于实现氧化还原电位的自动控制;自动加药控制器与计量泵13相连接,用于实现添加药剂的自动控制;搅拌控制器与搅拌器16相连接,用于控制搅拌器16的运行;泵的启停控制装置与设备的各种泵(如输液泵10、迁移泵22)相连接,用于控制泵的启停。

在本发明实施例的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

所述功能如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质中,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机,服务器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括:U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM,Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM,Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。

最后应说明的是:以上所述实施例,仅为本发明的具体实施方式,用以说明本发明的技术方案,而非对其限制,本发明的保护范围并不局限于此,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改、变化或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明实施例技术方案的精神和范围,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

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