一种自走式日光温室棚膜清理器的制作方法

本实用新型涉及清洁设备技术领域，尤其涉及一种自走式日光温室棚膜清理器。

背景技术：

日光温室栽培中最令农民头疼的事情之一就是棚膜清洁工作，生产中因棚膜易被尘土、积雪等污染，造成棚膜的透光率下降，棚室采光不足，影响园艺作物的产量和品质。目前，农业机械市场还没一个自动、便携的棚膜清理器，大多数是农户自行制作的小装置进行清理，但清理效果不理想，费时费力，极大的限制了农业生产力。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种自走式日光温室棚膜清理器。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种自走式日光温室棚膜清理器，包括多根等距离设置的拱架，多根所述拱架的上端共同设有棚膜，每个所述拱架的两侧均对称设有滑槽，相邻的两个拱架之间设有底盘，每个所述底盘的下端均对称设有两个挂板，每个所述挂板的上端均设有L型限位架，且L型限位架抵设在拱架上，每个所述挂板内均设有空腔，每个所述空腔内均设有驱动电机，每个所述驱动电机上均设有第一转轴，所述第一转轴上套设有第一齿轮，所述空腔内还设有第二转轴，所述第二转轴上分别套设有第一斜齿轮和第二齿轮，且第二齿轮和第一齿轮啮合，所述第一斜齿轮啮合有第二斜齿轮，所述第二斜齿轮上套设有第三转轴，且第三转轴的一端贯穿挂板并延伸，所述第三转轴上设有滚动轮，且滚动轮位于拱架上的滑槽内，所述底盘的一侧等距离设有三块内磁体，所述底盘的另一侧设有内擦布，所述棚膜的外侧设有与内磁体位置相对应的外磁体，所述外磁体上包设有外擦布。

优选地，所述外擦布长为50-55cm，宽为110-125cm，所述内擦布长为50-55cm，宽为95-100cm，所述滚动轮的半径2-5cm。

优选地，所述内擦布和外擦布均采用棉布。

优选地，所述底盘采用橡胶薄板。

优选地，所述挂板上还设有无线控制开关，且无线控制开关通过导线与驱动电机连接。

本实用新型由擦洗系统、移动系统、动力系统组成，一、擦洗系统利用磁铁的相互吸引力为中心进行设计。将两块擦布设置在两块相吸的磁体上，再将其中的三块电力控制的磁铁(内磁体)固定在一个底盘上(底盘具有移动能力)，底盘在棚膜内固定，另一块磁铁(外磁体)固定在棚膜外(位置与内磁体相吻合)，当底盘开始移动时，两块磁铁也开始移动，在移动的过程中擦布将棚膜擦拭干净。整个装置巧妙的利用温室结构中的拱架作为整个装置的支撑点和移动轨道，即移动系统。二、移动系统是利用温室结构中的拱架，将其作为装置的移动轨道和承重点。底盘有前后四个滚动轮，接收操控着指令可以沿着温室拱架进行行走，对棚膜进行全面的清理。由于钢结构为拱形，所以底盘结构为橡胶薄板，便于进行产生一定的弧度。底盘中部左右各添加一块挂板，并在挂板上设有驱动机构，对滚动轮进行驱动，进而实现转动行走，使清理设备能够稳定的运行，配合不同直径大小的滚动轮，能适应不同温室的拱架间距。三、动力系统利用齿轮之间的传动机理，将动力进行垂直传送。装置内部安装24V电源驱动装置通过一系列齿轮传动动实现垂直的传输，驱动电机驱动第一转轴转动，进而带动第一齿轮转动，由于第一齿轮与第二齿轮啮合，第一齿轮带动第二齿轮转动，第二齿轮带动第二转轴转动，第二转轴带动第一斜齿轮转动，由于第一斜齿轮与第二斜齿轮啮合，第一斜齿轮带动第二斜齿轮转动，继而带动第三转轴转动，第三转轴带动滚动轮在拱架上的滑槽内滚动。本实用新型采用磁铁吸附方式，保证了机器在薄膜上自由行走并清理薄膜，将滚轮平放完成避障，使机器动作更快，更流畅，而且该设计对位置要求不高，采用遥控器控制使机器在棚膜上进行清理。本实用新型结构简单，操作方便，工作效率和质量较高，工作平台体积小，安装和使用便捷，用水量小，清洁效率高，采用棉的薄布接触式去污，减小了棚膜上的压力，产品总体体现了简洁、环保的设计理念，与现有的棚膜清理方法相比，本作品的技术创新性与成本优势明显，市场竞争力更强。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种自走式日光温室棚膜清理器内擦布未安装时的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种自走式日光温室棚膜清理器内擦布安装后的结构示意图；

图3为本实用新型中拱架、棚膜和棚膜清理器配合关系的结构示意图；

图4为图3中a部分的结构示意图；

图5为本实用新型提出的一种自走式日光温室棚膜清理器中底盘部分的结构放大示意图；

图6为图5中b部分的结构示意图。

图中：1拱架、2棚膜、3内擦布、4外擦布、5滚动轮、6L型限位架、7第三转轴、8内磁体、9第二斜齿轮、10挂板、11底盘、12第二齿轮、13第二转轴、14驱动电机、15第一转轴、16第一齿轮、17第一斜齿轮、18无线控制开关。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-6，一种自走式日光温室棚膜清理器，包括多根等距离设置的拱架1，其特征在于，多根拱架1的上端共同设有棚膜2，每个拱架1的两侧均对称设有滑槽，相邻的两个拱架1之间设有底盘11，每个底盘11的下端均对称设有两个挂板10，每个挂板10的上端均设有L型限位架6，且L型限位架6抵设在拱架1上，每个挂板10内均设有空腔，每个空腔内均设有驱动电机14，每个驱动电机14上均设有第一转轴15，第一转轴15上套设有第一齿轮16，空腔内还设有第二转轴13，第二转轴13上分别套设有第一斜齿轮17和第二齿轮12，且第二齿轮12和第一齿轮16啮合，第一斜齿轮17啮合有第二斜齿轮9，第二斜齿轮9上套设有第三转轴7，且第三转轴7的一端贯穿挂板10并延伸，第三转轴7上设有滚动轮5，且滚动轮5位于拱架1上的滑槽内，底盘11的一侧等距离设有三块内磁体8，底盘11的另一侧设有内擦布3，棚膜2的外侧设有与内磁体8位置相对应的外磁体，外磁体上包设有外擦布4，外擦布4长为50-55cm，宽为110-125cm，内擦布3长为50-55cm，宽为95-100cm，滚动轮5的半径2-5cm，内擦布3和外擦布4均采用棉布，具有良好的擦拭效果，底盘11采用橡胶薄板，便于进行产生一定的弧度，挂板10上还设有无线控制开关18，且无线控制开关18通过导线与驱动电机14连接，使得该装置利用遥控装置便可驱动。

本实用新型由擦洗系统、移动系统、动力系统组成，棚膜2进行清理时，人站在地下，按遥控装置即可进行清理。

一、擦洗系统利用磁铁的相互吸引力为中心进行设计。将两块擦布设置在两块相吸的磁体上，再将其中的三块电力控制的磁铁(内磁体8)固定在一个底盘11上(底盘11具有移动能力)，底盘11在棚膜2内固定，另一块磁铁(外磁体)固定在棚膜2外(位置与内磁体8相吻合)，当底盘11开始移动时，两块磁铁也开始移动，在移动的过程中擦布将棚膜2擦拭干净。整个装置巧妙的利用温室结构中的拱架1作为整个装置的支撑点和移动轨道，即移动系统。

二、移动系统是利用温室结构中的拱架1，将其作为装置的移动轨道和承重点。底盘11有前后四个滚动轮5，接收操控着指令可以沿着温室拱架1进行行走，对棚膜2进行全面的清理。由于钢结构为拱形，所以底盘结构为橡胶薄板，便于进行产生一定的弧度。底盘中部左右各添加一块挂板10，并在挂板10上设有驱动机构，对滚动轮5进行驱动，进而实现转动行走，使清理设备能够稳定的运行，配合不同直径大小的滚动轮5，能适应不同温室的拱架1间距。

三、动力系统利用齿轮之间的传动机理，将动力进行垂直传送。装置内部安装24V电源驱动装置14通过一系列齿轮传动动实现垂直的传输，驱动电机14驱动第一转轴15转动，进而带动第一齿轮16转动，由于第一齿轮16与第二齿轮12啮合，第一齿轮16带动第二齿轮12转动，第二齿轮12带动第二转轴13转动，第二转轴13带动第一斜齿轮17转动，由于第一斜齿轮17与第二斜齿轮9啮合，第一斜齿轮17带动第二斜齿轮9转动，继而带动第三转轴7转动，第三转轴7带动滚动轮5在拱架1上的滑槽内滚动。四、受力分析：本装置使用的内磁体8的磁力可以通过调节其电压来控制磁力大小，调节范围为0-75N，经过上述的受力分析发现可以满足装置的要求。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。