1.一种化学清洗装置，其特征在于：
包括机架、清洗水箱、过滤器、水泵、第一出水管、第二出水管、循环水管和药液输出管；
所述清洗水箱、所述过滤器和所述水泵均固定在所述机架上；
所述清洗水箱具有出水口和循环口，所述出水口设于所述清洗水箱侧壁的下侧，所述循环口设于所述清洗水箱的顶部；
所述第一出水管的一端与所述出水口连通，另一端通过所述水泵与所述第二出水管的一端连通，所述第二出水管的另一端与所述过滤器的入口连通，所述过滤器的出口与所述药液输出管连通，所述药液输出管上设有输出阀；
所述第二出水管的管壁上设有支路口，所述循环水管的一端与所述支路口连通，另一端与所述循环口连通，所述循环水管上设有循环阀。
2.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述清洗水箱还具有加药口、进水口和药液回流口；
所述加药口、所述进水口和所述药液回流口均设于所述清洗水箱的顶部；
所述药液回流口与所需输入药液的设备连通。
3.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述清洗水箱的下部设有加热装置。
4.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述第二出水管上设有流量传感器。
5.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述第二出水管上设有水质分析传感器。
6.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述水泵为变频控制水泵。
7.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述机架的底面设有若干个滚轮，所述机架可以移动。
8.根据权利要求1所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述水泵和所述过滤器均设于所述清洗水箱的一侧；
所述出水口设于所述清洗水箱的靠近所述水泵的侧壁上；
所述循环口设于所述清洗水箱顶端的靠近所述过滤器的一侧。
9.根据权利要求2所述化学清洗装置，其特征在于：
还包括加药支架组件；
所述加药支架组件包括加药平台、护栏和扶梯；
所述加药平台固定在所述机架上，位于所述清洗水箱的另一侧，所述加药平台的高度与所述清洗水箱的高度相匹配；
所述护栏固定在所述加药平台的外侧边上；
所述扶梯固定在所述机架上，设于所述加药平台和所述机架之间。
10.根据权利要求9所述化学清洗装置，其特征在于：
其中，所述清洗水箱呈圆柱形，所述加药平台具有呈扇形的缺口，所述缺口与所述清洗水箱相匹配，并沿所述清洗水箱的侧壁设置。