本发明涉及一种河道污泥降解装置。
背景技术：
光合细菌在有光照缺氧的环境中能进行光合作用，利用光能进行光合作用，利用光能同二氧化碳或其他有机物，与绿色植物不同的是,它们的光合作用是不产氧的。光合细菌细胞内只有一个光系统，光合作用的原始供氢体不是水，而是一些有机物或硫化氢、氨氮等有害物质。光合细菌分解有机物，同时还能固定空气的分子氮生氨。光合细菌在自身的同化代谢过程中，又完成了产氢、固氮、分解有机物三个自然界物质循环中极为重要的化学过程。光合细菌在河道污泥的降解过程中起到很重要的作用，但是由于现有的污泥池中的污泥深度较深，底层的污泥不能接触到光，从而降低了底层污泥的降解效果。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是：提供一种能够提高污泥降解效果的河道污泥降解装置。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：
一种河道污泥降解装置,包括：
污泥池；
调节机构，调节机构包括竖直的玻璃柱，玻璃柱的底端穿过污泥伸进污泥的底部；玻璃柱的内腔形成光道，光道内安装有多块倾斜的、用于使光线穿过玻璃柱射向污泥的导光板。
优选地，调节机构还包括安装在污泥池内的安装板，安装板上设置有安装杆，玻璃柱的顶端安装在安装杆上。
优选地，安装杆通过转轴可转动地安装有反光板，转轴由连接到控制器的电动机驱动。
优选地，安装板的侧壁上安装有水平的污泥槽，污泥槽与污泥池之间通过管道连接，污泥槽与污泥池之间通过循环泵实现污泥的循环流动。
优选地，安装板的侧壁上沿着竖直方向间隔设置有多个泥槽。
优选地，污泥槽由透明材料制作而成。
优选地，调节机构的数量具有多个。
优选地，多个调节机构排列成多排。
优选地，同一排的相邻的调节机构之间的距离与安装板的高度相同。
本发明的优点在于：通过玻璃柱以及设置在光道内的导光板将外部的光线引向底部污泥，从而提高底部污泥的降解效果，最终达到提高污泥整体降解效果的目的。
附图说明
图1为本发明实施例河道污泥降解装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
如图1所示，本实施例的河道污泥降解装置包括污泥池10和调节机构，调节机构包括竖直的玻璃柱30，玻璃柱30的底端穿过污泥伸进污泥的底部；玻璃柱30的内腔形成光道，光道内安装有多块倾斜的、用于使光线穿过玻璃柱30射向污泥的导光板。通过玻璃柱30以及设置在光道内的导光板将外部的光线引向底部污泥，从而提高底部污泥的降解效果，最终达到提高污泥整体降解效果的目的。
优选地，调节机构还包括安装在污泥池10内的安装板20，安装板20上设置有安装杆24，玻璃柱30的顶端安装在安装杆24上。优选地，安装杆24通过转轴可转动地安装有反光板40，转轴由连接到控制器的电动机驱动。控制器能够根据光照的角度实时控制反光板40的角度进而将光线引向玻璃柱30内，提高玻璃柱30的光道内的光照强度，从而最终达到提高污泥降解效果的目的。
优选地，安装板20的侧壁上安装有水平的污泥槽22，污泥槽22与污泥池10之间通过管道连接，污泥槽22与污泥池10之间通过循环泵实现污泥的循环流动。优选地，安装板20的侧壁上沿着竖直方向间隔设置有多个泥槽22。优选地，污泥槽22由透明材料制作而成。通过污泥槽22来提高污泥的光照射面积，提高污泥降解效果。通过循环泵带动污泥在污泥槽22与污泥池10之间流动，从而能够对污泥进行翻新，将底部一些没有被光照射到的污泥翻至上方与光线接触，从而提高污泥降解效果。
优选地，调节机构的数量具有多个。优选地，多个调节机构排列成多排。优选地，同一排的相邻的调节机构之间的距离与安装板20的高度相同，防止相邻的安装板20之间互相遮挡光线。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。