一种碳化硅晶片刷洗装置的制作方法

本实用新型涉及刷洗装置，特别涉及一种碳化硅晶片刷洗装置，属于导体加工技术领域。

背景技术：

在半导体材料中第三代最为常见的材料为碳化硅，氮化镓，碳化硅的制作工艺过程复杂，需经过长晶、晶体加工、切割晶片、研磨、倒角、铜抛、抛光、清洗、检验包装。而其中清洗常常是被忽略的部分，有与碳化硅具有良好的抗化学性质，所以抛光液特性也与一般蓝宝石抛光液不一样，这也造成在抛光完的过程，晶片表面上会有残留的抛光浆料，与作业过程中残留的污染物，使晶片表面太多颗粒而影响到外延表面品质。以碳化硅为例，现在国内主要使用传统蓝宝石衬底加工工艺做清洗，在晶片表面洁净度无法确实达到后段客户要求(0.3um<30e.a.)。目前为了维持稳定主要几个方式抛光完后经过4槽以上的加工，使抛光浆可以大部分被去除在经过最终清洗如 SPM,SC1进行清洗，流程冗长效率低，且对于大颗粒无法有效去除。将清洗剂的浓度提高，清洗温度提高进行清洗，这会造成晶片成本的提高，清洗剂快速挥发。将单纯的刷洗机刷洗，毛刷刷洗轨道只能左右来回刷，常常由于毛刷接触面积不足而无法达到清洗效果，以上都无法兼顾品质与成本，

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种碳化硅晶片刷洗装置，以解决上述背景技术中提出的传统碳化硅清洗方法无法兼顾品质与成本，造成清洁不彻底的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种碳化硅晶片刷洗装置，包括底板，所述底板顶端的中部开设有凹槽，所述凹槽的内部固定安装有限位轴承，所述限位轴承的内圈设有支杆，所述支杆的底端设有CCD检测仪，所述底板的内部开设有腔体，所述腔体的内部固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出轴固定连接有转轴，所述转轴的顶端设有底盘，所述底盘顶端的边侧设有若干固定块，若干所述固定块的顶端均开设有第一滑槽，所述第一滑槽的内部滑动连接有固定板，所述底板顶端的一侧设有支撑杆，所述支撑杆顶端的一侧固定连接有横杆，所述横杆的顶端设有液压缸，所述液压缸的输出轴穿过横杆与固定盘固定连接，所述固定盘底端的两侧均设有侧板，所述固定盘的底端开设有第二滑槽，所述第二滑槽的内部滑动连接有清洁头，所述清洁头的一侧设有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的底端与侧板的一侧固定连接，所述支撑杆中部的一侧设有两块转板，两块转板的内部均开设有圆槽，两个所述圆槽的内部分别与转杆的两端活动连接，所述转杆的中部固定连接有连杆，所述连杆的一端设有置物板，所述置物板的顶端设有显示屏。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述置物板的一侧设有控制面板，所述控制面板上设有第一开关、第二开关、第三开关和第四开关，所述伺服电机通过第一开关与外接电源电性连接，所述CCD检测仪通过第二开关与外接电源电性连接，所述液压缸通过第三开关与外接电源电性连接，所述电动伸缩杆通过第四开关与外接电源电性连接，所述CCD检测仪与显示屏电性连接，所述显示屏与外接电源电性连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定板的一侧设有螺纹杆，所述螺纹杆的一端设有固定底座。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述置物板的表面开设有开槽，所述开槽内壁的两侧均开设有第三滑槽，所述第三滑槽的内部滑动连接有抽屉。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型一种碳化硅晶片刷洗装置，通过设置一组在刷洗前可以放大倍率的CCD检测仪，使晶片在检测后及时反馈讯号到下道刷洗工序，下道工序可以依照CCD反馈的区域进行重点刷洗，另外，在刷洗装置上设计有别于传统的左右单一方向来回刷，而是以同心圆轨道由内圈往外圈刷洗，此设计一方面可以在刷洗前先将晶片表面污染物进行初步检查，可以针对脏污区进行有效刷洗，另一方面可以增加摩擦力的方式刷洗，使晶片表面品质提升，最终达到晶片表面洁净技术要求。

附图说明

图1为本实用新型正面结构示意图。

图中：1、底板；2、限位轴承；3、伺服电机；4、转轴；5、固定块；6、底盘；7、固定板；8、第一滑槽；9、CCD检测仪；10、电动伸缩杆；11、第二滑槽；12、支杆；13、侧板；14、横杆；15、固定盘；16、液压缸；17、清洁头；18、转板；19、连杆；20、显示屏；21、支撑杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型提供了一种碳化硅晶片刷洗装置，包括底板1，底板1顶端的中部开设有凹槽，凹槽的内部固定安装有限位轴承2，限位轴承 2的内圈设有支杆12，支杆12的底端设有CCD检测仪9，底板1的内部开设有腔体，腔体的内部固定安装有伺服电机3，伺服电机3的输出轴固定连接有转轴4，转轴4的顶端设有底盘6，底盘6顶端的边侧设有若干固定块5，若干固定块5的顶端均开设有第一滑槽8，第一滑槽8的内部滑动连接有固定板 7，底板1顶端的一侧设有支撑杆21，支撑杆21顶端的一侧固定连接有横杆 14，横杆14的顶端设有液压缸16，液压缸16的输出轴穿过横杆14与固定盘 15固定连接，固定盘15底端的两侧均设有侧板13，固定盘15的底端开设有第二滑槽11，第二滑槽11的内部滑动连接有清洁头17，清洁头17的一侧设有电动伸缩杆10，电动伸缩杆10的底端与侧板13的一侧固定连接，支撑杆 21中部的一侧设有两块转板18，两块转板18的内部均开设有圆槽，两个圆槽的内部分别与转杆的两端活动连接，转杆的中部固定连接有连杆19，连杆 19的一端设有置物板，置物板的顶端设有显示屏20。

优选的，置物板的一侧设有控制面板，控制面板上设有第一开关、第二开关、第三开关和第四开关，伺服电机3通过第一开关与外接电源电性连接， CCD检测仪9通过第二开关与外接电源电性连接，液压缸16通过第三开关与外接电源电性连接，电动伸缩杆10通过第四开关与外接电源电性连接，CCD 检测仪9与显示屏20电性连接，显示屏20与外接电源电性连接，CCD检测仪 9可直接放大倍率，检测晶体表面的杂质，并将结果显示在显示屏20上。

优选的，固定板7的一侧设有螺纹杆，螺纹杆的一端设有固定底座，转动螺纹杆，固定底座与第一滑槽8的内壁面接触，将固定板7固定在第一滑槽8上。

优选的，置物板的表面开设有开槽，开槽内壁的两侧均开设有第三滑槽，第三滑槽的内部滑动连接有抽屉，拉开抽屉，将清洗剂放置在抽屉内部。

具体使用时，本实用新型一种碳化硅晶片刷洗装置，将待清洁的晶片放置在底盘6上，且在第一滑槽8上滑动固定板7，转动螺纹杆，固定底座与第一滑槽8的内壁面接触，将固定板7固定在第一滑槽8上，从而实现对晶体的固定，转动支杆12，带动CCD检测仪9对晶体的表面进行放大倍率检测，并将结果显示在显示屏20上，从而帮助清洁者认识到哪里是重点污染区域，需要重点进行清理，对后续的清洁进行指导，伺服电机3带动底盘6上的晶体转动，启动液压缸16，液压杆带动固定盘15和清洁头17下移，当清洁头 17与晶体接触时，停止下移，拉开抽屉，将清洗剂从抽屉内部拿出，并涂放在晶体表面，在晶体的转动时，对晶体进行清洁，同时，电动伸缩杆10带动清洁头17在第二滑槽11慢慢内部滑动，从而改变清洁头的清洁轨迹，使得清洁头可以进行同心圆轨道的刷洗，顺着晶片由外到内刷洗，并可在污染区重点刷洗，使晶片表面的污染物可以有效被去除。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量，由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”、“第四”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。