环保式清洗机台的制作方法

本创作是关于一种基板清洗的技术领域，特别是一种在清洗过程中不会对环境产生污染的环保式清洗机台。

背景技术：

传统的玻璃基板为了能够获得较好的加工质量(例如镀膜)，因此在进行加工之前，需要通过玻璃清洗机台去除玻璃基板表面的金属杂质、有机物污染、微尘与自然氧化物等。

然而，在清洗过程中，玻璃清洗机台会大量使用酸碱液对玻璃基板进行清洗，导致于使用过后的酸碱液变成对环境的一种污染物。

有鉴于此，本创作提出环保式清洗机台，用以解决前述的缺失。

技术实现要素：

本创作之第一目的提供一种环保式清洗机台，是利用至少两种不同的清洗液对基板进行清洁，以提高移除杂质(例如污垢与异物等)的功效。

本创作之第二目的是根据上述环保式清洗机台，利用奈米级离子水中的氢氧键包覆基板表面的杂质，以减少杂质对于基板表面的黏着度。

本创作之第三目的是根据上述环保式清洗机台，通过加压奈米级离子水，以提高包覆杂质的功效。

本创作之第四目的是根据上述环保式清洗机台，利用纯水进行二次的杂质的清除动作，以达到几近的或完全的清除基板表面的杂质的功效。

本创作之第五目的是根据上述环保式清洗机台，通过风切的方式吹干基板表面，以去除基板的杂质与纯水。

本创作之第六目的是根据上述环保式清洗机台，通过传输部让基板可以分阶段的通过各个清洗部与烘干部。

为达到上述目的与其他目的，本创作提供一种环保式清洗机台，是清洗一基板。环保式清洗机台包含一传输部、一第一清洗部、一第二清洗部与一烘干部。传输部包含一驱动件与一传输件。驱动件驱动传输件，以供移动基板。第一清洗部设置在传输部的一侧。第一清洗部包含一第一输出单元与一第一储存槽。第一输出单元连接第一储存槽。第一输出单元朝向传输部，以供将第一储存槽储存一第一清洗液输出至基板，让第一清洗液包覆位在基板的杂质。其中，第一清洗液为一奈米级离子水。第二清洗部设置在传输部的一侧。第二清洗部具有一第二输出单元与一第二储存槽。第二输出单元连接第二储存槽。第二输出单元朝向传输部，以供将第二储存槽储存一第二清洗液输出至基板，用以清洗经第一清洗液包覆的杂质。其中，第二清洗液为一纯水。烘干部设置在传输部的一侧。烘干部输出一风切至基板，以去除基板的杂质、第一清洗液与第二清洗液。

相较于现有技术，本创作提供的环保式清洗机台，是使用不会污染环境的第一清洗液(例如离子水)，并通过第一清洗液的氢氧(OH)键包覆位在基板表面的杂质，让杂质可以轻易的脱离基板表面，并且进一步通过第二清洗液(例如纯水)将被氢氧键包覆的杂质带离基板表面，前述第一清洗液与第二清洗液皆为不污染环境的液体，其能够达到完全的清除基板表面的杂质的功效。

本创作所采用的具体技术，将通过以下的实施例及附呈图式作进一步的说明。

【附图说明】

图1是本创作第一实施例的环保式清洗机台的方块示意图。

图2是本创作第二实施例的环保式清洗机台的方块示意图。

主要组件符号说明：

2 基板

22 杂质

10、10’ 环保式清洗机台

12 传输部

122 驱动件

124 传输件

14 第一清洗部

142 第一输出单元

144 第一储存槽

146 第一清洗液

16 第二清洗部

162 第二输出单元

164 第二储存槽

166 第二清洗液

18 烘干部

182 作用力

20 加压部

【具体实施方式】

为充分了解本创作之目的、特征及功效，兹通过下述具体的实施例，并配合所附的图式，对本创作做一详细说明，说明如后。

在本创作中，是使用「一」或「一个」来描述本文所述的单元、元件和组件。此举只是为了方便说明，并且对本创作的范畴提供一般性的意义。因此，除非很明显的另指他意，否则此种描述应理解为包括一个、至少一个，且单数也同时包括多个。

在本创作中，用语「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何类似用语意欲涵盖非排他性的包括物。举例而言，含有多个要件的一元件、结构、制品或装置不仅限于本文所列出的此等要件而已，而是可以包括未明确列出但却是该元件、结构、制品或装置通常固有的其他要件。除此之外，除非有相反的明确说明，用语「或」是指涵括性的「或」，而不是指排他性的「或」。

请参考图1，是本创作第一实施例的环保式清洗机台的方块示意图。在图1 中，环保式清洗机台10是用于清洗一基板2，基板2例如可为一半导体基板、一硅基板、一玻璃基板等。在本实施例中，基板2的表面存在杂质22，例如杂质22 可为金属杂质、有机物污染、微尘、自然氧化物、异物等。

环保式清洗机台10包含一传输部12、一第一清洗部14、一第二清洗部16与一烘干部18。

传输部12包含一驱动件122与一传输件124。在本实施例中，传输部12以平台机构设置，在平台机构上设置驱动件122与传输件124。其中，驱动件122可为一电机、一马达等元件；以及，传输件124可为滚轮、滚珠、滚筒等元件。当驱动件122(例如电机)例如接受一电力(图未示)驱动时，通过磁力的推动，让转子与定子做相对运动，以驱动或带动传输件朝一方向(在此是以Y方向为例说明)运动。通过前述的作动，当基板2设置在传输件124，基板2将会沿着该方向移动。此外，由于传输件124是突出的设置在平台机构。因此，基板2与传输部12的接触仅只有传输件124的部分，其可有效的避免基板2因大面积接触平台机过程中造成基板2的表面的摩擦损坏。值得注意的是，驱动件122可不需要完全的控制所有的传输件124，其可以驱动部分的传输件124，以达到对基板2的移动。换言之，当传输件124为例如多个滚轮所组成时，其部分的滚轮可以受到驱动件122 的驱动，让基板2产生一动能，其余的滚轮仅供基板2降低其移动的摩擦力。

第一清洗部14设置在传输部12的一侧(例如上侧)。又，第一清洗部14包含一第一输出单元142与一第一储存槽144。第一输出单元142连接第一储存槽144。在本实施例中，第一输出单元142是以喷嘴为例说明，前述喷嘴是朝向位在第一清洗部14下方的传输部12，以供将第一储存槽144储存一第一清洗液146输出(或称喷洒)至基板2。其中，第一清洗液146可例如为一奈米级离子水、奈米水等。前述喷洒过程中，由于第一清洗液146的特性，第一清洗液146将会包覆位在基板2的杂质22。

第二清洗部16设置在传输部12的上侧。第二清洗部16包含一第二输出单元 162与一第二储存槽164。第二输出单元162连接第二储存槽164。在本实施例中，第二输出单元162也以喷嘴为例说明，前述喷嘴是朝向位在第二清洗部16下方的传输部12，以供将第二储存槽164储存一第二清洗液166输出至基板2。其中，第二清洗液146可例如为一纯水、一氢氧元素组成的无机物等。第二清洗液146用以清洗经第一清洗液146包覆的杂质22。

烘干部18设置在传输部12的上侧。在本实施例中，烘干部18是以一风刀装置为例说明，其可输出一作用力182(例如风切)至基板2，以去除基板2的杂质22、第一清洗液146、第二清洗液166。在另一实施例中，烘干部18除了可以利用风切的非接触基板方式进行去除的动作之外，亦还可以通过接触基板方式(例如刷子等)进行去除的动作。

基板2通过前述的传输部12、第一清洗部14、第二清洗部16与烘干部18，基板2可形成无杂质的表面，以利后续的加工制程，例如镀膜制程等。

请参考图2，是本创作第二实施例的环保式清洗机台的方块示意图。在图2 中，环保式清洗机台10’除包含第一实施例的传输部12、第一清洗部14、第二清洗部16与烘干部18之外，还包含加压部20。

传输部12、第一清洗部14、第二清洗部16与烘干部18的说明如前所述，在此不赘述。

加压部20设置在第一输出单元142与第一储存槽144之间。加压部20能够将第一清洗液146加压输出至基板2。前述加压部20能够让第一清洗液146通过外部作用力而施加在基板2，以加速第一清洗液146包覆基板2表面的杂质22。在另一实施例中，加压部20加压第一清洗液146的压力范围是介于5至20牛顿/平方米之间。

虽然本创作的实施例揭露如上所述，然并非用以限定本创作，任何熟习相关技艺者，在不脱离本创作的精神和范围内，举凡依本创作权利要求所述的形状、构造、特征、方法及数量当可做些许的变更，因此本创作的专利保护范围须视本说明书所附的权利要求范围所界定者为准。