一种污水连续式净化处理用沉淀设备的制作方法

文档序号:23067635发布日期:2020-11-25 17:54阅读:43来源:国知局
一种污水连续式净化处理用沉淀设备的制作方法

本发明涉及污水处理设备领域,具体为一种污水连续式净化处理用沉淀设备。



背景技术:

目前,我国污水处理主要分为生物,物理,化学方法。其中化学方法采用投加药剂的方式,由于污水的成分变化较大,很难确定投药量;物理方法主要采用投加混凝剂与助凝剂,在水中形成较大的含污颗粒,通过斜管或斜管沉淀对污水进行沉淀处理,斜板或斜管在使用之后需要进行清理以保持沉淀效果。

中国专利申请号为cn201820561429.1的发明专利公开了一种斜管冲洗装置,斜管沉淀池的顶部两侧各安装有一个滑道支架,滑道支架与斜管沉淀池固定安装,滑道支架中间设有滑道,滑轮设置在滑道内,滑轮固定安装有支撑立板,斜管沉淀池两侧的支撑立板之间固定安装支撑横板,支撑横板固定安装有伸缩电机,伸缩电机通过螺杆固定连接集分器,集分器上固定连接有多个冲洗管,冲洗管与螺杆平行,集分器的一端通过软管连接有抽水泵的出水口,抽水泵的进水口连接水箱,滑轮上安装有车轮驱动电机,控制模块固定设置在支撑横板上,伸缩电机、车轮驱动电机分别连接控制模块。本实用新型不但提高了冲洗效率,提高了安全性,而且清洗效果比较好,斜管内壁清洗更干净。

但是,该设备使用时,污水沉淀设备需要停机,影响污水沉淀效率,并且冲洗又会产生新的污水进一步的浪费资源。



技术实现要素:

针对上述问题,本发明提供了一种污水连续式净化处理用沉淀设备,其通过上下设置的斜管在污水流道处拼合形成过滤斜管,过滤后,下方的斜管上移顶替上方斜管,上方的斜管被顶至切换装置上并通过清理组件进行清理,清理完成之后通过过渡组件移至最下方,斜管可连续对污水进行沉淀的同时可对斜管内部沉淀物进行即时处理,提高了污水净化效果的同时可减少污泥对环境的影响。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种污水连续式净化处理用沉淀设备,包括机架、上下设置的絮凝池及沉淀池,该絮凝池及该沉淀池之间形成污水流道,还包括:

沉淀装置,所述沉淀装置包括上下设置且分别回转设置的回转组件a及回转组件b,且二者沿回转路径形成上下对齐的沉淀区及切换区,所述沉淀区与所述污水流道重合;所述切换区位于所述污水流道后侧;

切换装置,所述切换装置包括回转设置经过所述切换区上方的回转组件c、沿所述回转组件c回转方向设置在所述切换区后侧且位于所述回转组件c及所述回转组件b之间的过渡组件以及与所述切换区及所述过渡组件对应的控制组件;

斜管装置,所述斜管装置包括分别沿所述回转组件a、回转组件b、回转组件c及过渡组件回转路径阵列分布的若干卡接组件以及与所述卡接组件对应滑动卡接配合的斜管;所述斜管与所述控制组件抵触配合,以及

清理装置,所述清理装置包括沿所述回转组件c回转方向设置在所述切换区及所述过渡组件之间的回转组件d、若干倾斜滑动设置在所述回转组件d上且可伸入所述斜管的清理组件以及与所述清理组件可抵触配合的限位组件。

作为改进,所述沉淀装置还包括固定在所述沉淀池底部且正对所述污水流道的的楔形块。

作为改进,所述过渡组件包括与所述回转组件b及所述回转组件c同步转动的回转组件e。

作为改进,所述控制组件包括固定在所述机架上且沿所述回转组件c回转方向倾斜向上设置的限位轨a以及固定在所述机架上且沿所述回转组件c回转方向倾斜向下设置的限位轨b。

作为改进,所述卡接组件包括倾斜设置的安装杆、沿所述安装杆长度方向设置的导向板以及对称弹性安装在所述导向板宽度方向两侧两个限位柱。

作为改进,所述斜管包括管体、对称开设在所述管体两侧且与所述安装杆及所述导向板滑动配合的滑槽、对称设置在所述滑槽两侧壁且与两个所述限位柱可插接配合的限位孔以及与所述滑槽一一对应设置且固定在所述管体上方的凸台;所述凸台与所述限位轨a及所述限位轨b均抵触设置。

作为改进,所述清理组件包括固定在所述回转组件d上的安装座、倾斜滑动设置在该安装座端部的滑杆、转动安装在所述滑杆上顶部的滚轮、相对于所述滚轮固定在所述滑杆底部且可沿所述管体内壁移动的刮板单元、固定在所述滑杆上部的挡板以及套设在所述滑杆上且位于所述挡板与所述安装座之间的弹簧。

作为改进,所述刮板单元包括刮板本体、沿所述刮板本体经向设置且转动安装在所述刮板本体底面的刮刀、与所述刮刀固定的连接且转动安装在所述刮板本体内部的齿轮、滑动设置在所述刮板本体内部且与所述齿轮啮合的齿条以及与所述齿条固定且伸出所述刮板本体的限位杆,该限位杆与所述管体内壁抵触设置。

作为改进,所述限位组件包括安装在所述回转组件d上且设置在该清理组件上方的限位板,该限位板包括与所述滚轮抵触设置的凸起部。

作为改进,所述清理组件还包括对应设置在所述限位板下方且与所述沉淀池连通的集污箱。

本发明的有益效果在于:

(1)本发明通过上下回转组件a及回转组件b形成沉淀区和切换区,斜管经过沉淀区沉淀污水并移动至切换区,在控制组件的作用下,下方的斜管移至回转组件a上同时将上方的附着沉淀物较多的斜管顶至回转组件c上,回转组件c带动其经过清理组件进行清理,清理完成之后在控制组件的作用下,斜管通过过渡组件再次回到回转组件b上并与回转组件a中斜管再次配合进入沉淀区,在不停机的同时对斜管进行清理,使进入沉淀区的上下两个斜管始终具备较高的沉淀效果,提高污水净化效果;

(2)本发明在沉淀池的中间位置设置正对污水流道的楔形块,楔形块的两侧面形成斜板,斜管和楔形块形成两级沉淀系统,使污水充分得到沉淀,并且经过斜管之后的污水留至楔形块表面时,使楔形块表面附着较少沉淀物,延长楔形块的使用时间;

(3)本发明中沉淀区内的斜管出去连续紧挨的状态,使得斜管与斜管之间不会存在间隙,进一步的提高斜管的沉淀效果;

(4)本发明中刮板单元伸入斜管管体内将管体内壁上的沉淀物刮除,并且向下伸出管片之后,限位杆脱离与管体的抵触,并通过齿条和齿轮带动刮刀转动一圈将刮板本体底面附着的沉淀物刮除,保证刮板单元回移是附着物不回对管体内壁造成二次污染;

(5)本发明中斜管管体内壁的污泥和沉淀池内的污泥被有效收集处理,减少污泥对环境的影响。

综上所述,本发明具有结构简单、设计巧妙、沉淀效率高及斜管便于清理等优点,尤其适用于污水沉淀过程。

附图说明

图1为本发明的整体结构示意图图一;

图2为本发明的整体结构示意图图二;

图3为图1中a处放大图;

图4为图1中b处放大图

图5为设备回转方向示意图;

图6为污水流向示意图图一;

图7为污水流向示意图图二;

图8为斜管切换状态图图一;

图9为斜管切换状态图图二;

图10为清理装置结构示意图;

图11为图10中c处放大图;

图12为刮板单元运动状态示意图;

图13为刮板单元内部结构示意图;

图14为卡接组件结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

实施例:

如图1和图2所示,一种污水连续式净化处理用沉淀设备,包括机架10、上下设置的絮凝池1及沉淀池2,该絮凝池1及该沉淀池2之间形成污水流道11,还包括:

沉淀装置3,所述沉淀装置3包括上下设置且分别回转设置的回转组件a31及回转组件b32,且二者沿回转路径形成上下对齐的沉淀区34及切换区35,所述沉淀区34与所述污水流道11重合;所述切换区35位于所述污水流道11后侧;

切换装置4,所述切换装置4包括回转设置经过所述切换区35上方的回转组件c41、沿所述回转组件c41回转方向设置在所述切换区35后侧且位于所述回转组件c41及所述回转组件b32之间的过渡组件42以及与所述切换区35及所述过渡组件42对应的控制组件43;

斜管装置5,所述斜管装置5包括分别沿所述回转组件a31、回转组件b32、回转组件c41及过渡组件42回转路径阵列分布的若干卡接组件51以及与所述卡接组件51对应滑动卡接配合的斜管52;所述斜管52与所述控制组件43抵触配合,以及

清理装置6,所述清理装置6包括沿所述回转组件c41回转方向设置在所述切换区35及所述过渡组件42之间的回转组件d61、若干倾斜滑动设置在所述回转组件d61上且可伸入所述斜管52的清理组件62以及与所述清理组件62可抵触配合的限位组件63。

需要说明的是,所述絮凝池1内的污水通过添加絮凝剂形成较大颗粒的污泥。

更需要说明的是,如图6所示,在所述沉淀区34处,所述回转组件a31及所述回转组件b32上的所述斜管52对齐形成长斜管,污水通过所述污水流道11进入长斜管,与所述回转组件a31固定的所述斜管52位于上方,其附着较多沉淀物;位于所述回转组件b32上的所述斜管52位于下方,其附着沉淀物较少,能被继续使用,故需要对位于上方的所述斜管52进行清理,以保证沉淀效果。

进一步的,如图7所示,所述沉淀装置3还包括固定在所述沉淀池2底部且正对所述污水流道11的的楔形块36。

如图7所示,所述楔形块36的两侧面形成两个斜板,两个斜板进一步的提高污水的沉淀效果,并且减少污泥在同一平面的附着,进一步的延长使用时间。

进一步的,如图2所示,所述过渡组件42包括与所述回转组件b32及所述回转组件c41同步转动的回转组件e421。

需要说明的是,所述回转组件a31、回转组件b32、回转组件c41、回转组件d61及回转组件e421均设置为线速度相同的回转链回转结构,并且以上回转组件均通过电机驱动。

如图8和图9所示,作为一种优选的实施方式,所述控制组件43包括固定在所述机架10上且沿所述回转组件c41回转方向倾斜向上设置的限位轨a431以及固定在所述机架10上且沿所述回转组件c41回转方向倾斜向下设置的限位轨b432。

进一步的,如图14所示,所述卡接组件51包括倾斜设置的安装杆511、沿所述安装杆511长度方向设置的导向板512以及对称弹性安装在所述导向板512宽度方向两侧两个限位柱513。

更进一步的,如图3和图4所示,所述斜管52包括管体521、对称开设在所述管体521两侧且与所述安装杆511及所述导向板512滑动配合的滑槽522、对称设置在所述滑槽522两侧壁且与两个所述限位柱513可插接配合的限位孔523以及与所述滑槽522一一对应设置且固定在所述管体521上方的凸台524;所述凸台524与所述限位轨a431及所述限位轨b432均抵触设置。

需要说明的是,由于位于上方所述管体521内壁附着较多沉淀物,需要进行清理;位于下方的所述管体521内壁附着较少沉淀物,还可以继续使用,故在所述切换区35,所述凸台524与所述限位轨a431抵触,并沿所述限位轨a431轨迹移动,位于下方的所述斜管52向上移动,其脱离所述回转组件b32进入所述回转组件a31的同时其将位于上方的所述斜管52顶至脱离所述回转组件a31并进入所述回转组件c41。

更需要说明的是,如图1、图2及图5所示,在设备运行的过程中,所述回转组件a始终携带所述斜管52,所述回转组件b32在进过所述切换区35之后,其不携带所述斜管52,并且在该回转组件b32再次进入所述沉淀区34之前需将干净的所述斜管52送至所述回转组件b32,以保证能进行污水沉淀。

更进一步需要说明的是,如图8、图9和图14所示,所述斜管52在所述回转组件a31、回转组件b32、回转组件c41及回转组件e421之间的切换依靠所述导向板512与所述滑槽522的导向,并且所述限位柱513与所述限位孔523的卡接配合保证了所述斜管52在切换之后精确快速的定位及固定,保证切换和沉淀效率。

着重需要说明的是,如图9所示,所述清理组件62清理完所述斜管52之后,所述斜管52继续移动并与所述限位轨b432抵触且沿所述限位轨b432移动,由于所述回转组件c41与所述回转组件b32之间间隔较大,故所述斜管52在所述限位轨b432的作用下先经过回转组件e421再进入所述回转组件b32。

如图10至图13所示,作为一种优选的实施方式,所述清理组件62包括固定在所述回转组件d61上的安装座621、倾斜滑动设置在该安装座621端部的滑杆622、转动安装在所述滑杆622上顶部的滚轮623、相对于所述滚轮623固定在所述滑杆622底部且可沿所述管体521内壁移动的刮板单元624、固定在所述滑杆622上部的挡板625以及套设在所述滑杆622上且位于所述挡板625与所述安装座621之间的弹簧626。

进一步的,所述刮板单元624包括刮板本体6241、沿所述刮板本体6241经向设置且转动安装在所述刮板本体6241底面的刮刀6242、与所述刮刀6242固定的连接且转动安装在所述刮板本体6241内部的齿轮6243、滑动设置在所述刮板本体6241内部且与所述齿轮6243啮合的齿条6244以及与所述齿条6244固定且伸出所述刮板本体6241的限位杆6245,该限位杆6245与所述管体521内壁抵触设置。

再进一步的,所述限位组件63包括安装在所述回转组件d61上且设置在该清理组件62上方的限位板631,该限位板631包括与所述滚轮623抵触设置的凸起部6311。

需要说明的是,如图12和图13所示,所述滑杆622与所述管体521同步移动,并且在移动的过程中,所述滚轮623与所述凸起部6311抵触,所述滑杆622自上而下伸入所述管体521内部,所述刮板单元624将所述管片521内壁上附着的污泥刮除。

需要说明的是,为了提高刮除效果,所述刮板本体6241紧贴所述管体513的内壁设置。

更需要说明的是,所述限位杆6245弹性安装在所述刮板本体6241上,并且所述刮板单元624进入所述管体521内时,所述限位杆6245与所述管体521内壁抵触,所述限位杆6245收缩进入所述刮板本体6241内,所述刮板本体6241向下伸出所述管体521之后,所述限位杆6245弹出,并且通过所述齿条6244带动所述齿轮6243转动将所述刮板本体6241底面的污泥刮除,防止所述刮板本体6241复位时,污泥对所述管体521造成二次污染。

着重需要说明的是,所述限位杆6245移动所述齿条6244带动所述齿轮6243转动圈数n≥1。

进一步的,如图1和图2所示,所述清理组件62还包括对应设置在所述限位板631下方且与所述沉淀池2连通的集污箱627。

需要说明的是,所述集污箱627收集所述斜管52内的沉淀物并且与所述沉淀池2内的沉淀物一起通过外部吸污设备排出。

工作过程:

本发明中,所述回转组件a31与所述回转组件b32分别携带所述斜管52经过所述沉淀区34,所述絮凝池1内的污水流入所述污水流道11并通过所述沉淀区34内的所述斜管52进行沉淀,之后污水流至所述楔形块312上,该楔形块312两侧表面形成的斜板对污水进行沉淀,通过所述沉淀区34的所述斜管52所中,位于上方的所述斜管52附着沉淀物较多,需要进行清理;位于下方的所述斜管52附着沉淀物较少,还可继续使用;之后所述斜管52进入所述切换区35,所述凸台524与所述限位轨a431抵触,并沿所述限位轨a431轨迹移动,位于下方的所述斜管52向上移动,其脱离所述回转组件b32进入所述回转组件a31的同时其将位于上方的所述斜管52顶至脱离所述回转组件a31并进入所述回转组件c41,所述回转组件c41带动需要清理的所述斜管52继续移动至所述清理组件62的下方,所述滑杆622与所述管体521同步移动,并且在移动的过程中,所述滚轮623与所述凸起部6311抵触,所述滑杆622自上而下伸入所述管体521内部,所述刮板单元624将所述管片521内壁上附着的污泥刮至所述集污箱627内;并且所述刮板单元624向下伸出所述管体521之后,所述刮刀6242对所述刮板本体6241进行清理,之后,所述斜管52继续移动并与所述限位轨b432抵触且沿所述限位轨b432移动,由于所述回转组件c41与所述回转组件b32之间间隔较大,故所述斜管52在所述限位轨b432的作用下先经过回转组件e421再进入所述回转组件b32,所述回转组件b32与所述回转组件a31再次携带干净的所述斜管52进入所述沉淀区34。

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