一种电集垢水处理装置的制作方法

[0001]
本实用新型属于水处理技术领域，具体涉及一种电集垢水处理装置。


背景技术：

[0002]
现阶段，电集垢水处理技术主要是通过电集垢装置中的阴极和阳极构成的直流电场，在阴极处发生的还原反应去除水中结垢因子ca
2+
、mg
2+
离子，将水中结垢因子ca
2+
、mg
2+
离子以caco3、mgoh的形式沉积在阴极板上，达到从而实现循环水系统不结垢的目的。在阳极处发生的氧化反应将水中的氯离子氧化成强氧化化剂达到杀菌灭藻的功能，该技术是一项清洁环保的技术。
[0003]
目前除垢装置有两种，一种为人工除垢，即打开设备的密封门，人工用各种工具将沉积在阴极板上的固态的caco3、mgoh清理出设备外。专利号：zl201820622433.4第二种，自动除垢 ，通过机械传动带动刮板的运动将阴极板上沉积的caco3、mgoh清除下来，并自动排出设备体外，专利号：zl201320589833.7由于刮板相对阴极板运动带来设备结构的问题，以及采用阴极板相对刮板运动的箱体密封问题，无法制造出处理量大的水处理设备，无法适应市场的需要。由此，该技术存在改进的必要。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型克服了现有技术的不足，提出一种电集垢水处理装置，结构简单，成本低廉，具有较大的水处理量。
[0005]
为了达到上述目的，本实用新型是通过如下技术方案实现的。
[0006]
一种电集垢水处理装置，包括反应室，所述反应室包括反应室上箱和反应室下箱，所述反应室上箱紧密扣设在所述反应室下箱上，所述反应室内交替设置有若干刮板装置和若干相互平行的阴极板和阳极板，所述反应室上箱设置有排气阀和出水槽，反应室下箱设置有进水和排污共用的进排水槽；反应室上箱和反应室下箱的连接处中心设置有轴承座，轴承座内设置有轴承套和转轴，轴承套内设置有轴承，轴承套与轴承之间设置有密封装置；所述转轴穿设有轴承并连接有减速电机；
[0007]
若干阴极板相互平行，若干阳极板相互平行，且每两个阴极板之间设置有一个阳极板；相互平行的阴极板固定连接在转轴上；阳极板固定连接在反应室箱体上，刮板装置连接在反应室下箱内壁，每个阴极板的两侧都设置有刮板装置。
[0008]
所述转轴位于反应室上箱和反应室下箱合箱后的反应室的中心处；
[0009]
所述轴承座位于反应室两端设置于转轴两端，轴承座的端面装有闷、透盖和密封圈，并通过密封圈对箱体进行密封。合箱后的轴承座内设置有轴承套，轴承套内有轴承，轴承套两端设置有密封装置，保证轴承处不进水的同时，轴承套具有足够的强度，防止合箱后造成轴承的变形。具体的，轴承套一端装有轴承透盖和密封垫。轴承盖上装有唇形密封圈。轴承套的另一端也装有唇形密封圈卡接于轴承与轴承座之间；轴承套外侧连接有轴承盖；轴承座外侧连接有透盖，所述轴承套、轴承、轴承盖、透盖依次穿设在轴承上，所述转轴与轴
承套、轴承套的透盖的连接处均设置有唇形密封圈形成密封；所述轴承套与轴承盖之间的连接处、轴承座与透盖之间的连接处均设置有密封垫。轴承座的透盖装有唇形密封圈，于转轴连接处形成密封。
[0010]
所述轴承设置于转轴两端，所述轴承外套装有轴承套，轴承套卡接于轴承与轴承座之间；轴承套外侧连接有轴承盖；所述轴承座外侧连接有透盖，所述轴承套、轴承、轴承盖、透盖依次穿设在转轴上，所述转轴与轴承套、轴承盖、透盖的连接处均设置有唇形密封圈，所述轴承套与轴承盖之间的连接处、轴承座与透盖之间的连接处均设置有密封垫。
[0011]
所述转轴与减速电机之间还设置有联轴器。
[0012]
所述反应室上箱和反应室下箱的连接面上均设置有连接法兰，反应室上箱和反应室下箱通过连接法兰和螺栓紧密连接，上下连接法兰面上对应设置有密封槽，密封槽内装有密封条。
[0013]
所述反应室上箱和反应室下箱上设置有电极座，所述阳极板包括四块扇形阳极分板，所述阳极分板外侧通过阳极螺栓连接有电极座，所述电极座与阳极螺栓之间的连接处设置有平垫，所述阳极螺栓外侧还设置有铜排。
[0014]
所述刮板装置通过螺栓连接在反应室下箱，每个阴极板两侧的刮板装置相互平行。
[0015]
所述刮板装置与箱体水平方向夹角为5
°-
20
°
。
[0016]
所述电极座和刮板装置均为绝缘材料。
[0017]
所述出水槽上设置有排气阀，所述出水槽口上设置有单向止回阀，所述进排水槽口处设置有两个电动球阀，分别为进水电动阀和排污电动球阀。
[0018]
本实用新型相对于现有技术所产生的有益效果为：
[0019]
本实用新型结构简单、操作方便，上下箱合箱后和轴承盖的装配后，实现了箱体的密封，保证了反应室中的水不会外泄。刮垢过程中，刮板不动，阴极板相对运动，从而实现将阴极板上的垢体清理下来。
附图说明
[0020]
图1为本实用新型装置结构示意图。
[0021]
图2为图1的局部示意图。
[0022]
图3为图1的a-a向剖视结构示意图。
[0023]
图4为图1的b-b向剖视结构示意图。
[0024]
图5为图4的c处局部示意图。
[0025]
图6为本实用新型装置中的阀体安装示意图。
[0026]
其中，1-反应室上箱，2-反应室下箱，3-密封条，4-阴极板，5-阳极板，6-箱体轴承座，7-透盖，8-唇形密封圈，9-联轴器，10-减速电机， 12-轴承盖，13-密封垫，14-轴承，15-轴承套，16-平键，17-转轴，18-刮板装置，19，密封隔垫，20-电极座，21-平垫，22-铜排，23-阳极连接螺栓，24-排气阀，25-单向止回阀，26-电动球阀，27-箱体法兰，28-出水槽，29-进排水槽。
具体实施方式
[0027]
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，结合实施例和附图，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。下面结合实施例及附图详细说明本实用新型的技术方案，但保护范围不被此限制。
[0028]
如图1-6所示，
[0029]
一种电集垢水处理装置，包括反应室，所述反应室包括反应室上箱1和反应室下箱2，所述反应室上箱1紧密扣设在所述反应室下箱2上，所述反应室内交替设置有若干刮板装置18和若干相互平行的阴极板4和阳极板5。若干阴极板相互平行，若干阳极板相互平行，且每两个阴极板之间设置有一个阳极板；相互平行的阴极板4固定连接在转轴17上；阳极板5固定连接在反应室箱体上，刮板装置18连接在反应室下箱2内壁，每个阴极板4的两侧都设置有刮板装置18。
[0030]
所述反应室上箱1和反应室下箱2的连接面上均设置有连接法兰27，反应室上箱和反应室下箱通过连接法兰27和螺栓紧密连接，上下连接法兰面上对应设置有密封槽，密封槽内装有密封条3。密封条3能对反应室上箱1和反应室下箱2的连接面进行密封，防止实际使用过程中漏液。
[0031]
反应室上箱和反应室下箱的两端连接处均设置有半圆形的轴承座6，合箱后两个半圆形的轴承座6合成圆形座结构，转轴穿设在圆形座结构中心处；所述轴承座6外侧连接有透盖7，轴承座与透盖之间的连接处均设置有密封垫13，并通过螺栓紧密安装。透盖上设置有唇形密封圈8，有转轴穿入透盖中，透盖与转轴连接处设置的有唇形密封圈8进行密封。
[0032]
所述转轴左右贯穿反应室的箱体，所述转轴17通过联轴器9连接有减速电机10，所述转轴17两端设置有轴承套15，所述轴承套15内装有轴承14，轴承套端面设置有轴承盖12，轴承盖12于轴承套中心设置有转轴穿设孔和轴承卡接位，轴承卡接位内嵌装轴承，转轴穿设孔内穿设转轴，轴承套与转轴连接的位置设置有唇形密封圈8。
[0033]
轴承套15端面连接有轴承盖12，轴承盖的形状与轴承套相配合，二者通过螺栓连接在一起，轴承套15与轴承盖12的连接处设置有密封垫13。轴承盖与转轴连接处设置有 唇形密封圈8。
[0034]
所述转轴17两端通过轴承、轴承套、轴承座安装在反应室的箱体两端，转轴中间段位于反应室的箱体内部，转轴中间段设置有平键16。若干相互平行设置的阴极板4 通过平键与转轴连接在一起。阴极板间距为180mm，所述阴极板为环形板，环形中心固定连接在转轴上。
[0035]
所述反应室上箱1和反应室下箱2上设置有电极座20，为方便安装和维护阳极，阳极5做成扇形面，四个扇形面组成一个圆的阳极面。每块所述阳极板5包括四块扇形阳极分板，所述阳极分板外侧通过阳极螺栓23连接有电极座20，将阳极板5固定在反应室的上下箱体上，所述电极座20与阳极螺栓23之间的连接处设置有平垫21，所述阳极螺栓外侧还设置有铜排22。图5为图4的c处按照1:4比例放大得到的局部示意图。
[0036]
多个阳极板相互平行，阳极板的板间距180mm，电极座为绝缘材料，保证阳极与箱体绝缘。阴极与阳极相互平行，阴极与阳极的间距为90mm。每两个阴极板之间布置有一个阳极板。
[0037]
每个阴极板4的两侧都设置有刮板装置18，刮板装置18连接在反应室下箱2内壁上， 所述刮板装置18通过螺栓固定在反应室下箱2，刮板装置18均为绝缘材料，每个阴极板4两侧的刮板相互平行。
[0038]
所述刮板装置与箱体水平方向夹角为5
°-
20
°
，优选夹角α为10
°
。
[0039]
所述反应室上箱1设置出水槽28，反应室下箱设置有进排水槽 29，所述出水槽上设置有排气阀24，所述出水槽出水口上设置有单向止回阀25，所述进排水槽上设置有两个电动球阀26，分别为进水电动球阀和排污电动球阀阀。
[0040]
实际使用中，上箱的顶部装有排气阀24，排气阀24即将反应室中电极产生的气体排出体外，同时在设备排污阶段，及时补充空气，将反应室中的垢体和水很快的排出反应室，通过管道输送到平流沉淀池。上箱的顶部有出水槽，出水通道上装有单向止回阀25，经处理的循环水被输送到循环水池。当设备进入排污阶段，单向止回阀可以防止出水倒流回来。
[0041]
下箱的底部有进水（排污）槽，通过两个电动球阀26进行切换工作，当设备进水时，进水电动阀打开，排污阀关闭；当进行排污时，排污阀打开，进水阀关闭。整个工作过程是通过自动控制系统实现排水或排污。
[0042]
如图所示，箱体内部称之为电集垢反应室，反应室由上下箱体1、2组成，反应室箱体的轴承座处设计成轴承套结构，合箱后的轴承座内装有轴承套15，轴承套15内装有轴承14，轴承套两端装有旋转专用唇形密封圈8和密封垫13，防止轴承处进水。同时，反应室上下箱合箱进行密封时，轴承套具有足够的强度，防止轴承受力变形，影响转轴的旋转。
[0043]
下箱法兰面上的密封槽内，装有密封条3，上下箱体合箱后的轴承座端面上装有特殊的密封垫。上下箱合箱后与轴承盖7装配后，实现了箱体的密封，保证了反应室中的水不会外泄。
[0044]
本设备的反应室采用上下箱组合结构，阴极4随转轴17旋转，刮板装置18固定在下箱体上。安装时要调整刮板与阴极板的间隙为1mm，一个阴极板4的两侧都装有刮板装置18。两侧的刮板装置相互平行。阴极板的转动方向的选择，要保证刮板装置刮下的垢体，直接落在箱体的底部为宜。刮垢过程中，刮板装置18不动，阴极板4相对运动，从而实现将阴极板上的垢体清理下来。
[0045]
循环水电集垢装置的工作过程，
[0046]
电集垢处理阶段：进水阀打开，排污阀关闭，电源打开，阳极通电，阳极板与阴极板之间形成直流电场，水中的结垢物质钙离子和镁离子在电场的作用下，以碳酸钙和氢氧化镁的形式沉积在阴极板的表面。
[0047]
刮垢阶段：当阴极板表面上的碳酸钙和氢氧化镁达到一定数量后，电源关闭，阳极不导电，进水阀门关闭，转轴在减速电机的驱动下带动阴极板进行旋转。固定在箱体上的刮垢装置，相对阴极板运动，将阴极板上的固态的碳酸钙和氢氧化镁刮下来，固态的碳酸钙和氢氧化镁因重力作用沉淀在箱体的底部，
[0048]
排污阶段：阴极板停止旋转，电源仍处于关闭状态，进水阀关闭，排污阀打开，沉积在箱体底部的固态的碳酸钙和氢氧化镁随箱体中的水通过下箱的进排水槽一同排出箱体体外，并通过排污管道排放到平流沉淀池。
[0049]
排污结束后设备又回到循环水电集垢处理阶段。
[0050]
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所做的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施方式仅限于此，对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的前提下，还可以做出若干简单的推演或替换，都应当视为属于本实用新型由所提交的权利要求书确定专利保护范围。
[0051]
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、
ꢀ“
右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”“顺时针”“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。