基板传送装置及基板清洗装置的制作方法

本实用新型涉及基板传送装置及基板清洗装置。

背景技术：

例如，作为对使用于lcd(liquidcrystaldisplay)或oled(organiclight-emittingdiode)等平板显示器(fpd：flatpaneldisplay)用的玻璃板进行清洗的清洗装置，已知有具备使辊刷与玻璃板的表面或背面接触而进行清洗的刷清洗机构部和保持玻璃板的端部并将玻璃板沿着与辊刷的长度大致正交的方向传送的传送机构部的结构(例如，参照专利文献1)。在该清洗装置中，构成传送机构部的传送辊和防上浮辊夹着玻璃板的缘部而送出。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本国特开2008-68223号公报

【实用新型要解决的课题】

然而，为了提高清洗机构部对玻璃板的清洗力而提高刷对于玻璃板的压紧力时，清洗机构部的阻力变大。于是，存在玻璃板的传送速度下降，或玻璃板停止，并产生清洗不良的可能性。

技术实现要素：

因此，本实用新型的目的在于提供一种能够顺畅地传送基板的基板传送装置及能够良好地清洗基板的基板清洗装置。

【用于解决课题的方案】

本实用新型由下述结构构成。

(1)一种基板传送装置，具备传送部，该传送部具有相互向反方向旋转的下侧辊和上侧辊，利用所述下侧辊和所述上侧辊夹持基板而进行传送，其中，

所述下侧辊在与所述基板的传送方向正交的宽度方向上在比所述基板的尺寸长的范围上具有树脂制的表层部，所述表层部与所述基板的下表面的所述宽度方向的整个范围抵接，

所述上侧辊具有轴和设置在所述轴的两端附近的橡胶制的弹性环，所述弹性环与所述基板的上表面的宽度方向的两缘部附近部位抵接。

(2)一种基板清洗装置，其中，

将上述(1)的传送部排列多个，

在所述传送部之间设置对所述基板的上下表面进行清洗的清洗机构部。

【实用新型效果】

根据本实用新型的基板传送装置及基板清洗装置，能够顺畅地传送基板，因此，能够良好地清洗基板。

附图说明

图1是具备本实用新型的实施方式的基板传送装置的基板清洗装置的概略俯视图。

图2是具备本实用新型的实施方式的基板传送装置的基板清洗装置的概略侧视图。

图3是图1的a-a剖视图。

图4是基板传送装置的传送部的沿轴向的一部分的概略剖视图。

图5是表示基板传送装置的传送部的变形例的图1中的a-a剖视图。

图6是表示基板传送装置的传送部和清洗机构部的另一配置例的基板清洗装置的概略俯视图。

图7是表示基板传送装置的传送部和清洗机构部的另一配置例的基板清洗装置的概略俯视图。

【标号说明】

10基板传送装置

11传送部

13下侧辊

15上侧辊

21管体

25加强管部

26表层部

31轴

33弹性环

50清洗机构部

55盘刷

100、200、300基板清洗装置

201、301基板清洗单元

g玻璃板(基板)

具体实施方式

以下，关于本实用新型的实施方式，参照附图进行详细说明。

图1是具备本实用新型的实施方式的基板传送装置的基板清洗装置的概略俯视图。图2是具备本实用新型的实施方式的基板传送装置的基板清洗装置的概略侧视图。

如图1及图2所示，本实施方式的基板传送装置10具备多个传送部11。该基板传送装置10与多个清洗机构部50一起构成基板清洗装置100。即，基板清洗装置100由基板传送装置10和基板清洗机构部50构成。

基板清洗装置100是对形成为矩形形状的玻璃板(基板)g进行清洗的装置。利用该基板清洗装置100清洗的玻璃板g例如由使用于lcd(liquidcrystaldisplay)或oled(organiclight-emittingdiode)等平板显示器(fpd：flatpaneldisplay)用的无碱玻璃系材料构成。基板清洗装置100是对水平传送的玻璃板g的上下表面进行清洗的装置，特别是对玻璃板g的实施各种处理或加工的上表面进行清洗。

图3是图1的a-a剖视图。图4是基板传送装置的传送部的沿轴向的一部分的概略剖视图。

如图3及图4所示，构成基板传送装置10的多个传送部11具有下侧辊13和上侧辊15。下侧辊13与上侧辊15水平地配置在上下的相对位置，在它们之间使玻璃板g通过。传送部11在下侧辊13与上侧辊15之间夹持玻璃板g，通过使下侧辊13与上侧辊15相互向反方向旋转而将玻璃板g在传送方向x(参照图1及图2)上传送。

下侧辊13具有管体21和在管体21的两端设置的支承轴部22。支承轴部22在管体21侧具有凸缘部23，在该凸缘部23固定有管体21。支承轴部22例如由不锈钢(sus)等形成，分别支承于轴承(图示省略)。

管体21由不锈钢(sus)制的管材构成，在其内部设有加强管部25。加强管部25是由碳纤维强化塑料(cfrp：carbonfiberreinforcedplastic)构成的管材，嵌入于管体21内。由此，管体21的内周面由加强管部25在长度方向上加强，实现轻量化并抑制挠曲。需要说明的是，加强管部25由比pan系硬的pitch系的碳纤维强化塑料形成，由此能够进一步抑制挠曲。

另外，下侧辊13在管体21的外周面设有表层部26。该表层部26由聚氨酯树脂形成。由此，管体21的除了长度方向的两端附近之外的外周面由表层部26覆盖。下侧辊13的表层部26的轴向的长度设定得比与玻璃板g的传送方向x正交的宽度方向上的玻璃板g的尺寸长。由此，下侧辊13的表层部26的两端从玻璃板g露出，玻璃板g在其宽度的整个区域与下侧辊13的表层部26抵接。

上侧辊15具有轴31、固定构件32及弹性环33。轴31例如是由利用不锈钢(sus)等形成的长条的圆棒材料构成的结构，两端由轴承(图示省略)支承。所述长条的圆棒材料的轴向的长度比与玻璃板g的传送方向x正交的宽度方向上的玻璃板g的尺寸长。固定构件32固定于轴31的两端附近，弹性环33嵌装于固定构件32的外周。由此，弹性环33经由固定构件32安装于轴31。弹性环33例如由耐热性、耐药品性、耐油性优异的氟橡胶等弹性材料形成。该弹性环33形成为剖视观察矩形形状的方形圈状。上侧辊15将弹性环33配置在与传送的玻璃板g的传送方向x正交的宽度方向的两缘部附近位置。由此，上侧辊15将各个弹性环33与玻璃板g的宽度方向的两缘部附近抵接。

各个传送部11通过驱动机构(图示省略)使下侧辊13及上侧辊15相互向反方向同步旋转。由此，送入到下侧辊13与上侧辊15之间的玻璃板g由下侧辊13的表层部26和上侧辊15的弹性环33夹持而朝向传送方向x传送。此时，玻璃板g的下表面在宽度方向的整个区域上与表层部26抵接，上表面的宽度方向的两缘部附近与弹性环33抵接。

如图1及图2所示，构成基板清洗装置100的清洗机构部50配置在传送部11之间。具体而言，以两个传送部11为一组，在这些组的传送部11彼此之间分别配置清洗机构部50。

清洗机构部50可以为盘刷，也可以为辊刷。在清洗机构部50为盘刷的情况下，具备下侧盘刷组51及上侧盘刷组52。下侧盘刷组51及上侧盘刷组52分别具有多个盘刷55，这些盘刷55分别通过驱动马达56而旋转。下侧盘刷组51及上侧盘刷组52的多个盘刷55在与由基板传送装置10传送的玻璃板g的传送方向x正交的方向上排列。

在下侧盘刷组51中，盘刷55朝向上方配置，对于由基板传送装置10传送的玻璃板g的下表面进行清洗。在上侧盘刷组52中，盘刷55朝向下方配置，对于由基板传送装置10传送的玻璃板g的上表面进行清洗。盘刷55例如是由pva(聚乙烯醇)等树脂构成的海绵制的刷或者由尼龙(聚酰胺)等树脂构成的毛刷，其形状为例如外径70～100mm的圆柱形状。需要说明的是，由驱动马达56产生的盘刷55的旋转(自转)速度优选设为100～500rpm。

清洗机构部50具备向玻璃板g的上下表面喷射清洗液的喷嘴(图示省略)。从喷嘴向玻璃板g的上下表面喷射例如含有氧化铈等的浆料、清洗剂(碱性或酸性)或者纯水等清洗液。例如，如果作为清洗液使用含有有机膦酸、聚羧酸盐、芳香族磺酸、及胺环氧烷加成物的水系清洗剂，能够将在研磨后的玻璃板g的表面上残留及/或附着的由氧化铈等构成的研磨磨粒良好地分散除去，也不会损害玻璃板g的平坦性。而且，作为清洗液，也可以使用例如氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸锂、碳酸钠及碳酸钾等的含有无机碱的无机碱清洗剂。

在上述结构的基板清洗装置100中，当向基板传送装置10的构成传送部11的下侧辊13与上侧辊15之间送入玻璃板g时，该玻璃板g由下侧辊13和上侧辊15夹持而向传送方向x传送。

利用该基板传送装置10向传送方向x传送的玻璃板g由配置在传送部11之间的清洗机构部50清洗。具体而言，各清洗机构部50的下侧盘刷组51及上侧盘刷组52的盘刷55以被按压于玻璃板g的下表面及上表面的状态旋转，由此，将玻璃板g的下表面及上表面的附着物等除去，对玻璃板g的下表面及上表面进行清洗。

在该清洗机构部50的盘刷55进行的清洗过程中，玻璃板g以传送部11的下侧辊13和上侧辊15产生的高保持力向传送方向x传送。因此，即使增强从盘刷55向玻璃板g传递的按压力及旋转力而提高清洗力，玻璃板g也不会发生传送速度的下降或传送停止等不良情况，而且，不会蜿蜒前行而稳定地传送。

如以上说明所述，根据本实施方式的基板传送装置10，玻璃板g由在下表面的宽度方向的整个区域上与树脂制的表层部26抵接的下侧辊13和在上表面的宽度方向的两缘部附近与橡胶制的弹性环33抵接的上侧辊15夹持并以高保持力传送。由此，对于玻璃板g，即使由于实施清洗处理等各种处理而产生了阻力，也不会发生传送速度的下降或传送停止等不良情况，而且，能够不蜿蜒前行而稳定地传送玻璃板g。

特别是，下侧辊13的表层部26由聚氨酯树脂构成，上侧辊15的橡胶制的弹性环33为剖视观察矩形形状的方形圈，因此能够将玻璃板g以高保持力传送基板。

而且，在玻璃板g的上表面，上侧辊15的弹性环33与宽度方向的两缘部附近抵接，因此能够良好地进行玻璃板g的上表面的中央侧的清洗等各种处理。

另外，下侧辊13是向外周卷缠有表层部26的不锈钢制的管体21嵌入碳纤维强化塑料制的加强管部25而被加强的构造，因此能够实现轻量化并抑制玻璃板g的重量引起的下侧辊13的挠曲。由此，能够抑制挠曲并传送玻璃板g。

并且，根据具备上述基板传送装置10的基板清洗装置100，能够利用多个传送部11传送玻璃板g，并通过设置在传送部11之间的清洗机构部50良好地清洗玻璃板g的上下表面。而且，传送部11能够以高保持力保持并传送玻璃板g，因此即使由于利用清洗机构部50对于玻璃板g实施清洗处理而产生了阻力，也没有传送速度的下降或传送停止等不良情况，而且，能够不蜿蜒前行而稳定地传送玻璃板g。

特别是清洗机构部50具有与玻璃板g的上下表面抵接并旋转的多个盘刷55，因此对于由传送部11传送的玻璃板g，能够利用清洗机构部50的盘刷55良好地清洗上下表面。

需要说明的是，在上述实施方式中，例示了在基板传送装置10的构成传送部11的上侧辊15设有形成为剖视观察矩形形状的方形圈状的弹性环33的情况，但是弹性环33的截面形状及设置数目等没有限定为上述实施方式。

图5是表示基板传送装置的传送部的变形例的图1的a-a剖视图。

如图5所示，在该上侧辊15中，作为形成为剖视观察圆形形状的o形圈的两个弹性环33沿轴向隔开间隔地装配于在轴31的两端附近设置的固定构件32。

在具备该上侧辊15的传送部11的情况下，通过上侧辊15和具有由聚氨酯树脂构成的表层部26的下侧辊13也能够以高保持力传送玻璃板g。而且，通过使用市售的o形圈作为弹性环33，能够实现设备费用的削减。

接下来，说明传送部11及清洗机构部50的配置、设置数目不同的变形例的各种基板清洗装置。

(变形例1)

图6是表示基板传送装置的传送部和清洗机构部的另一配置例的基板清洗装置的概略俯视图。

如图6所示，变形例1的基板清洗装置200具备基板清洗单元201。并且，基板清洗单元201具有3个传送部11，在这些传送部11之间分别配置清洗机构部50。基板清洗装置200通过将三组基板清洗单元201串联地设置而构成。

这样，根据具备由传送部11和清洗机构部50构成的基板清洗单元201的基板清洗装置200，根据对于玻璃板g的各种处理(清洗处理)等而将所需数目的基板清洗单元201串联地设置，从而能够容易地进行设备的扩张。

(变形例2)

图7是表示基板传送装置的传送部和清洗机构部的另一配置例的基板清洗装置的概略俯视图。

如图7所示，变形例2的基板清洗装置300具备在两个传送部11之间配置有清洗机构50的基板清洗单元301。并且，基板清洗装置300通过将两组基板清洗单元301串联地设置而构成。而且，在构成基板清洗单元301的清洗机构部50中，在下侧盘刷组51及上侧盘刷组52中，配置成两列的盘刷55相互配置成锯齿状(zigzagalignment：锯齿形排列)。

这样，具备由传送部11和清洗机构部50构成的基板清洗单元301的基板清洗装置300的情况下，也是根据对于玻璃板g的各种处理(清洗处理)等而将所需数目的基板清洗单元201串联地设置，从而能够容易地进行设备的扩张。特别是在该基板清洗装置300中，通过将各清洗机构部50的盘刷55配置成锯齿状，能够将在传送方向x的上游侧的盘刷55间未除去的附着物利用传送方向x的下游侧的盘刷55除去。

(变形例3)

变形例3的基板清洗装置是在图6中将清洗机构部50的盘刷置换为辊刷的构造。

即，变形例3的基板清洗装置具备在两个传送部之间配置有清洗机构的辊刷的基板清洗单元。所述清洗机构部也可以根据所需的清洗能力具有多列的辊刷。而且，清洗单元的个数可以根据对于玻璃板g的各种处理(清洗处理)等进行扩张。

需要说明的是，本实用新型也可以适用于传送lcd、oled、fpd以外的电子设备、例如光学元件用玻璃基板、玻璃盘、太阳能电池等的基板。而且，传送的基板并不局限于玻璃板，也可以是例如由金属、陶瓷或树脂成形的结构。

这样，本实用新型没有限定为上述的实施方式，将实施方式的各结构相互组合的情况、本领域技术人员基于说明书的记载以及周知的技术进行变更、应用的情况也是本实用新型的预定内容，包含于要求保护的范围。

如以上所述，本说明书公开了如下的事项。

(1)一种基板传送装置，具备传送部，该传送部具有相互向反方向旋转的下侧辊和上侧辊，利用所述下侧辊和所述上侧辊夹持基板而进行传送，其中，

所述下侧辊在与所述基板的传送方向正交的宽度方向上在比所述基板的尺寸长的范围上具有树脂制的表层部，所述表层部与所述基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接，

所述上侧辊具有轴和设置在所述轴的两端附近的橡胶制的弹性环，所述弹性环与所述基板的上表面的宽度方向的两缘部附近部位抵接。

根据上述(1)的结构的基板传送装置，下侧辊的树脂制的表层部与基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接，上侧辊的橡胶制的弹性环与基板的上表面的宽度方向的两缘部附近部位抵接。由此，基板由在下表面的宽度方向的整个区域与树脂制的表层部抵接的下侧辊和在上表面的宽度方向的两缘部附近与橡胶制的弹性环抵接的上侧辊夹持而以高保持力传送。

由此，对于基板，即使由于例如实施清洗处理等各种处理而产生了阻力，也不会发生传送速度的下降或传送停止等不良情况，而且，能够不蜿蜒前行而稳定地传送基板。

而且，在基板的上表面，上侧辊的弹性环与宽度方向的两缘部附近抵接，因此能够良好地进行基板的上表面的中央侧的各种处理。

(2)根据(1)记载的基板传送装置，其中，所述传送部传送由玻璃板构成的所述基板。

根据上述(2)的结构的基板传送装置，通过由下侧辊和上侧辊构成的传送部能够将玻璃板以高保持力传送，对于传送的玻璃板，能够顺畅地进行例如清洗处理等各种处理。

(3)根据(1)或(2)记载的基板传送装置，其中，所述弹性环为在剖视观察下呈矩形形状的方形圈。

根据上述(3)的结构的基板传送装置，通过表层部与基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接的下侧辊和作为剖视观察矩形形状的方形圈的弹性环与基板的上表面的宽度方向的两缘部附近抵接的上侧辊，能够以高保持力传送基板。

(4)根据(1)或(2)记载的基板传送装置，其中，所述弹性环为在剖视观察下呈圆形形状的o形圈。

根据上述(4)的结构的基板传送装置，通过表层部与基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接的下侧辊和作为剖视观察圆形形状的o形圈的弹性环与基板的上表面的宽度方向的两缘部附近抵接的上侧辊，能够以高保持力传送基板。

(5)根据(1)～(4)中任一项记载的基板传送装置，其中，在所述轴的两端附近分别装配多个所述弹性环。

根据上述(5)的结构的基板传送装置，通过表层部与基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接的下侧辊和多个弹性环与基板的上表面的宽度方向的两缘部附近分别抵接的上侧辊，能够以高保持力传送基板。

(6)根据(1)～(5)中任一项记载的基板传送装置，其中，所述表层部由聚氨酯树脂形成。

根据上述(6)的结构的基板传送装置，通过由聚氨酯树脂构成的表层部与基板的下表面的宽度方向的整个范围抵接的下侧辊和弹性环与基板的上表面的宽度方向的两缘部附近抵接的上侧辊，能够以高保持力传送基板。

(7)根据(1)～(6)中任一项记载的基板传送装置，其中，

所述下侧辊具有：

在外周卷缠有所述表层部的不锈钢制的管体；及

嵌入于所述管体的碳纤维强化塑料制的加强管部。

根据上述(7)的结构的基板传送装置，利用碳纤维强化塑料制的加强管部对不锈钢制的管体进行加强，由此能够实现轻量化并抑制因基板的重量引起的下侧辊的挠曲。由此，能够抑制挠曲并传送基板。

(8)一种基板清洗装置，具备(1)～(7)中任一项所述的基板传送装置，其中，

所述基板清洗装置排列有多个所述传送部，在所述传送部之间设置有对所述基板的上下表面进行清洗的清洗机构部。

根据上述(8)的结构的基板清洗装置，能够利用多个传送部传送基板，并利用设置在传送部之间的清洗机构部良好地清洗基板的上下表面。而且，传送部能够以高保持力保持基板并进行传送，因此即使由于利用清洗机构部对基板实施清洗处理而产生了阻力，也不会发生传送速度的下降或传送停止等不良情况，而且，能够不蜿蜒前行而稳定地传送基板。

(9)根据(8)记载的基板清洗装置，其中，所述清洗机构部具有与所述基板的上下表面抵接并进行旋转的多个盘刷。

根据上述(9)的结构的基板清洗装置，通过与基板的上下表面抵接并进行旋转的多个盘刷，能够传送基板并良好地清洗上下表面。

(10)根据(9)记载的基板清洗装置，其中，所述清洗机构部的多个所述盘刷在俯视观察下配置成锯齿状。

根据上述(10)的结构的基板清洗装置，通过配置成锯齿状的多个盘刷，能够没有间隙地清洗基板的上下表面。

(11)根据(8)～(10)中任一项记载的基板清洗装置，其中，由所述传送部和设置在所述传送部之间的所述清洗机构部构成的基板清洗单元串联地配置多个。

根据上述(11)的结构的基板清洗装置，根据对于基板的各种处理等，能够将由传送部和清洗机构部构成的多个基板清洗单元串联地设置，从而容易地进行设备的扩张。

虽然详细而且参照特定的实施方式而说明了本实用新型，但是不脱离本实用新型的主旨和范围而能够施加各种变更或修正的情况对于本领域技术人员来说不言自明。

本申请基于2019年8月20日申请的日本实用新型注册申请2019-003113，并将其内容作为参照而援引于此。