一种半导体设备的器件清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及清洗装置技术领域，具体为一种半导体设备的器件清洗装置。


背景技术：

2.半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，在对半导体设备的器件进行清洗时，会使用到清洗装置，虽然清洗装置的种类有很多，但是依然无法满足使用者的需求。
3.现有的清洗装置，在使用时，器件无法实现翻转清洗，导致清洗效率低，其次不能对喷嘴的喷洒角度进行便捷的调节，使得灵活性弱，因此迫切的需要一种半导体设备的器件清洗装置来解决上述不足之处。


技术实现要素：

4.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体设备的器件清洗装置，解决了现有的清洗装置，在使用时，器件无法实现翻转清洗，导致清洗效率低，其次不能对喷嘴的喷洒角度进行便捷的调节，使得灵活性弱的问题。
5.本实用新型提供如下技术方案：一种半导体设备的器件清洗装置，包括支撑框架，所述支撑框架的下端连接有四个支撑脚，所述支撑框架的内部底端靠左侧设置承载台，所述承载台的上端连接有轴承座，所述轴承座的轴心处安装有轴承，所述支撑框架的内部左侧壁上设置有固定块，所述固定块的右端连接有旋转电机，所述旋转电机的右端连接有第一联轴器，所述第一联轴器的右端连接有旋转杆，所述旋转杆的右端依次穿过防护罩的右侧壁和轴承与气动手指相连接，所述支撑框架的左下侧设置有清洗水箱，所述清洗水箱的上端连接有输水管道，所述输水管道上靠近清洗水箱的一端设置有输水泵，所述输水管道的末端穿过支撑框架的左侧壁与内部的喷淋管道相连接，所述喷淋管道的底部连接有多个喷嘴，所述喷淋管道的左右两端均设置有支撑吊环，所述喷淋管道的最右端连接有旋转轴，所述旋转轴的右端连接有第二联轴器，所述第二联轴器的右端连接有步进电机，所述步进电机的下端连接有支撑台，所述支撑台的右端与支撑框架的内右侧壁相连接，两个所述支撑吊环的上端与支撑框架的内部顶端相连接，所述支撑框架的内部底端靠中间位置设置有集水池，所述集水池的左下端开设有排污管道，所述排污管道的下端穿过支撑框架并向外延伸。
6.优选的，所述气动手指为y型夹指。
7.优选的，所述防护罩将固定块、旋转电机和第一联轴器包裹在内，所述防护罩的左端与支撑框架相连接。
8.优选的，所述集水池位于多个喷嘴的正下方。
9.优选的，多个所述喷嘴水平等间距设置在喷淋管道的底部。
10.优选的，所述清洗水箱的左上端开设有加注口。
11.与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：
12.本实用新型通过设置旋转电机、第一联轴器、旋转杆、轴承座、轴承、第二联轴器、旋转轴和步进电机，利用它们之间的相互配合作用，从而能够便于器件的翻转清洗，提高清洗效率，其次可以对喷嘴的喷洒角度进行便捷的调节，灵活性得到增强。
附图说明
13.图1为本实用新型的结构示意图；
14.图2为本实用新型的外观结构示意图；
15.图3为本实用新型图1中a处放大结构示意图。
16.图中：1、支撑框架；2、支撑脚；3、承载台；4、轴承；5、轴承座；6、旋转电机；7、第一联轴器；8、旋转杆；9、旋转轴；10、气动手指；11、清洗水箱；12、输水泵；13、输水管道；14、喷淋管道；15、支撑吊环；16、喷嘴；17、步进电机；18、支撑台；19、防护罩；20、集水池；21、排污管道；22、第二联轴器。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.请参阅图1
‑
3，一种半导体设备的器件清洗装置，包括支撑框架1，支撑框架1的下端连接有四个支撑脚2，支撑框架1的内部底端靠左侧设置承载台3，承载台3的上端连接有轴承座5，轴承座5的轴心处安装有轴承4，支撑框架1的内部左侧壁上设置有固定块，固定块的右端连接有旋转电机6，旋转电机6的右端连接有第一联轴器7，第一联轴器7的右端连接有旋转杆8，旋转杆8的右端依次穿过防护罩19的右侧壁和轴承4与气动手指10相连接，利用它们之间的相互配合作用，从而能够便于器件的翻转清洗，提高清洗效率，支撑框架1的左下侧设置有清洗水箱11，清洗水箱11的上端连接有输水管道13，输水管道13上靠近清洗水箱11的一端设置有输水泵12，输水管道13的末端穿过支撑框架1的左侧壁与内部的喷淋管道14相连接，喷淋管道14的底部连接有多个喷嘴16，喷淋管道14的左右两端均设置有支撑吊环15，喷淋管道14的最右端连接有旋转轴9，旋转轴9的右端连接有第二联轴器22，第二联轴器22的右端连接有步进电机17，步进电机17的下端连接有支撑台18，支撑台18的右端与支撑框架1的内右侧壁相连接，利用它们之间的相互配合作用，从而可以对喷嘴16的喷洒角度进行便捷的调节，使得灵活性得到增强，两个支撑吊环15的上端与支撑框架1的内部顶端相连接，支撑框架1的内部底端靠中间位置设置有集水池20，集水池20的左下端开设有排污管道21，排污管道21的下端穿过支撑框架1并向外延伸，气动手指10为y型夹指，防护罩19将固定块、旋转电机6和第一联轴器7包裹在内，防护罩19的左端与支撑框架1相连接，集水池20位于多个喷嘴16的正下方，多个喷嘴16水平等间距设置在喷淋管道14的底部，清洗水箱11的左上端开设有加注口。
19.本实用新型的工作原理及使用流程：首先将需要清洗的半导体设备的器件放置在气动手指10的两指之间，此时驱动气动手指10夹紧待清洗的器件，当需要翻转清洗器件时，则驱动旋转电机6通过第一联轴器7带动旋转杆8在轴承4中旋转，使得连接在旋转杆8上的
气动手指10进行翻转，同时驱动输水泵12将清洗水箱11内的水通过输水管道13输送至喷淋管道14中，再经过多个喷嘴16喷向器件，清洗的污水流到集水池20中，并从排污管道21中排出，当需要改变喷嘴16的方向时，则驱动步进电机17通过第二联轴器22带动旋转轴9上的喷淋管道14进行转动，从而改变喷嘴16方向。
20.所需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
21.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种半导体设备的器件清洗装置，包括支撑框架(1)，其特征在于；所述支撑框架(1)的下端连接有四个支撑脚(2)，所述支撑框架(1)的内部底端靠左侧设置承载台(3)，所述承载台(3)的上端连接有轴承座(5)，所述轴承座(5)的轴心处安装有轴承(4)，所述支撑框架(1)的内部左侧壁上设置有固定块，所述固定块的右端连接有旋转电机(6)，所述旋转电机(6)的右端连接有第一联轴器(7)，所述第一联轴器(7)的右端连接有旋转杆(8)，所述旋转杆(8)的右端依次穿过防护罩(19)的右侧壁和轴承(4)与气动手指(10)相连接，所述支撑框架(1)的左下侧设置有清洗水箱(11)，所述清洗水箱(11)的上端连接有输水管道(13)，所述输水管道(13)上靠近清洗水箱(11)的一端设置有输水泵(12)，所述输水管道(13)的末端穿过支撑框架(1)的左侧壁与内部的喷淋管道(14)相连接，所述喷淋管道(14)的底部连接有多个喷嘴(16)，所述喷淋管道(14)的左右两端均设置有支撑吊环(15)，所述喷淋管道(14)的最右端连接有旋转轴(9)，所述旋转轴(9)的右端连接有第二联轴器(22)，所述第二联轴器(22)的右端连接有步进电机(17)，所述步进电机(17)的下端连接有支撑台(18)，所述支撑台(18)的右端与支撑框架(1)的内右侧壁相连接，两个所述支撑吊环(15)的上端与支撑框架(1)的内部顶端相连接，所述支撑框架(1)的内部底端靠中间位置设置有集水池(20)，所述集水池(20)的左下端开设有排污管道(21)，所述排污管道(21)的下端穿过支撑框架(1)并向外延伸。2.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于：所述气动手指(10)为y型夹指。3.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于：所述防护罩(19)将固定块、旋转电机(6)和第一联轴器(7)包裹在内，所述防护罩(19)的左端与支撑框架(1)相连接。4.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于：所述集水池(20)位于多个喷嘴(16)的正下方。5.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于：多个所述喷嘴(16)水平等间距设置在喷淋管道(14)的底部。6.根据权利要求1所述的一种半导体设备的器件清洗装置，其特征在于：所述清洗水箱(11)的左上端开设有加注口。

技术总结
本实用新型涉及清洗装置技术领域，且公开了一种半导体设备的器件清洗装置，包括支撑框架，所述支撑框架的下端连接有四个支撑脚，所述支撑框架的内部底端靠左侧设置承载台，所述承载台的上端连接有轴承座，所述轴承座的轴心处安装有轴承，所述支撑框架的内部左侧壁上设置有固定块，所述固定块的右端连接有旋转电机，所述旋转电机的右端连接有第一联轴器，所述第一联轴器的右端连接有旋转杆，本实用新型通过设置旋转电机、第一联轴器、旋转杆、轴承座、轴承、第二联轴器、旋转轴和步进电机，利用它们之间的相互配合作用，从而能够便于器件的翻转清洗，提高清洗效率，其次可以对喷嘴的喷洒角度进行便捷的调节，灵活性得到增强。灵活性得到增强。灵活性得到增强。


技术研发人员：王迪杏 蒋伟 王宁 张阳 秦文兵 王金裕 苗全 盛路阳 王伟 顾育琪
受保护的技术使用者：无锡迪渊特科技有限公司
技术研发日：2021.01.22
技术公布日：2021/9/24