掩膜板清洁系统、方法与流程

本公开涉及光刻，具体而言，涉及一种掩膜板清洁系统、方法。

背景技术：

1、在光刻技术领域中，需要使用掩膜板对基板进行曝光作业，而掩膜板的洁净度直接影响基板的曝光效果，从而影响产品的良率，因此在日常运营中对掩膜板的清洁十分重要。

2、相关技术中，对掩膜板的清洁是由双人配合作业，一人手持离子风枪对掩膜板的待清洁面进行吹扫或使用洁净布进行擦拭，另一人使用强光手电对掩膜板的待清洁面进行检查，在强光下异物颗粒不可见则认为完成清洁。

3、然而，通过人工清洁掩膜板的方式，人工投入大、清洁效率低、清洁后的掩膜板的洁净度低，并且在吹扫、擦拭的过程中易划伤掩膜板。

4、需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开提供一种掩膜板清洁系统、方法，至少在一定程度上克服了上述相关技术中存在的的问题。

2、根据本公开的一个方面，提供一种掩膜板清洁系统，包括：第一机台，用于承载掩膜板；图像采集装置，用于获取所述掩膜板的待清洁面的待清洁面图像，确定所述待清洁面上的异物附着信息；超声波清洁装置，用于根据所述异物附着信息，利用超声波对所述待清洁面进行清洁。

3、在一个实施例中，所述超声波清洁装置包括：超声波清洁器，用于利用超声波对所述待清洁面进行清洁；第一驱动装置，用于根据所述异物附着信息驱动所述超声波清洁器与所述第一机台相对移动，以对所述待清洁面的不同位置进行清洁。

4、在一个实施例中，所述系统还包括：第二机台，用于承载存放所述掩膜板的盒子；机械手臂，用于从所述盒子中取出所述掩膜板，并将所述掩膜板放置在所述第一机台上。

5、在一个实施例中，所述系统还包括：夹持装置，设置在所述第二机台上，用于对所述盒子进行夹持以保持所述盒子的稳定。

6、在一个实施例中，所述系统还包括：开盖装置，用于打开所述盒子的侧盖板，以便于所述机械手臂取放所述掩膜板。

7、在一个实施例中，所述系统还包括：读码器，用于读取所述盒子上的条码，得到所述掩膜板的目标信息，所述目标信息包括所述掩膜板的基本信息、状态信息和清洁履历中的一种或多种。

8、在一个实施例中，所述系统还包括：照明装置，用于照射所述掩膜板的待清洁面，以使所述图像采集装置获取所述掩膜板的待清洁面图像。

9、在一个实施例中，所述系统还包括：显示设备，用于显示所述图像采集装置获取到的图像；和/或，显示用于操作所述系统的按键；和/或，显示所述掩膜板的目标信息。

10、根据本公开的另一个方面，提供了一种膜板清洁方法，包括：通过图像采集装置获取待清洁掩膜板的待清洁面的待清洁面图像，确定所述待清洁面的异物附着信息；根据所述异物附着信息，利用超声波清洁装置对所述待清洁面进行清洁。

11、在一个实施例中，所述通过图像采集装置获取待清洁掩膜板的待清洁面的待清洁面图像之前，还包括：利用所述超声波清洁装置对所述待清洁面进行预清洁；所述通过图像采集装置获取待清洁掩膜板的待清洁面的待清洁面图像，包括：通过所述图像采集装置获取所述待清洁面进行预清洁后的待清洁面图像。

12、在一个实施例中，所述根据所述异物附着信息，通过超声波清洁装置对所述待清洁面进行清洁，包括：所述异物附着信息指示所述待清洁面具有异物的情况下，通过超声波清洁装置对整个待清洁面进行清洁；或者，通过超声波清洁装置对所述待清洁面中所述异物附着信息指示的位置进行清洁。

13、根据本公开的再一个方面，提供了一种电子设备，包括：处理器；以及存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行上述任一所述的膜板清洁方法。

14、根据本公开的又一个方面，提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一所述的膜板清洁方法。

15、根据本公开的又一个方面，提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括计算机程序或计算机指令，所述计算机程序或所述计算机指令由处理器加载并执行，以使计算机实现上述任一所述的膜板清洁方法。

16、本公开的实施例所提供的技术方案至少包括以下有益效果：

17、本公开的实施例所提供的技术方案，图像采集装置获取掩膜板的待清洁面的待清洁面图像，并确定待清洁面上的异物附着信息，相较于人工在强光下观察掩膜板待清洁面上是否存在异物，利用图像采集装置得到的异物附着信息更加准确、精细，进而超声波清洁装置根据该异物附着信息，利用超声波对待清洁面进行清洁，可以使得清洁后的掩膜板的洁净度高，且利用超声波进行清洁可以减少异物颗粒在受压力状态下在待清洁面上的滚动，从而降低了清洁过程中划伤掩膜板的可能，而且利用超声波可清洁附着力较强的异物，进一步提高清洁后的掩膜板的洁净度。此外，通过图像采集装置及超声波清洁装置实现的掩膜板清洁相较于人工清洁掩膜板，具有更高的清洁效率。

18、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种掩膜板清洁系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述超声波清洁装置包括：

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：

6.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，还包括：

7.根据权利要求1-6任意一项所述的系统，其特征在于，还包括：

8.根据权利要求1-6任意一项所述的系统，其特征在于，还包括：

9.一种掩膜板清洁方法，其特征在于，包括：

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述通过图像采集装置获取待清洁掩膜板的待清洁面的待清洁面图像之前，还包括：

技术总结
本公开涉及光刻技术领域，涉及一种掩膜板清洁系统、方法，该系统包括：第一机台，用于承载掩膜板；图像采集装置，用于获取掩膜板的待清洁面的待清洁面图像，确定待清洁面上的异物附着信息；超声波清洁装置，用于根据异物附着信息，利用超声波对待清洁面进行清洁。利用图像采集装置得到的异物附着信息更加准确、精细，超声波清洁装置根据该异物附着信息，利用超声波对待清洁面进行清洁，可以使得清洁后的掩膜板的洁净度高，且利用超声波进行清洁可以减少异物颗粒在受压力状态下在待清洁面上的滚动，从而降低了清洁过程中划伤掩膜板的可能，而且利用超声波可清洁附着力较强的异物，进一步提高清洁后的掩膜板的洁净度。

技术研发人员：刘欢,宝音巴图,王智乐,侯帅帅
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14