水处理系统的制作方法

本技术涉及半导体制造，尤其涉及一种水处理系统。

背景技术：

1、半导体行业是一个用水量巨大的领域，尤其是在清洗工艺中。比如，在硅片领域，抛光后的硅片表面含有抛光液slurry，为了防止抛光液在硅片表面结晶影响工艺品质，需要将硅片放置在水槽中进行保湿，之后通过水槽车将水槽运输到槽式清洗机进行硅片清洗，在硅片投入槽式清洗机后，水槽中的水会被排空、重新加水，即水槽每运输一盒硅片就需更换整个水槽内的超纯水(ultra pure water，upw)，导致用水量巨大，造成水资源浪费的问题。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种水处理系统，能够在硅片清洗工艺中节约水资源。

2、为了达到上述目的，本实用新型实施例采用的技术方案是：

3、一种水处理系统，包括：

4、水槽本体和水处理装置；

5、所述水槽本体用于容纳超纯水；

6、所述水处理装置包括水输送结构、液位计和水质分析仪；所述液位计和所述水质分析仪分别与所述水输送管路的外壁贴合设置；

7、所述水输送结构用于将所述水槽本体内的超纯水排出或向所述水槽本体内输送超纯水，所述液位计用于测量所述水槽本体内超纯水水位，所述水质分析仪用于检测所述水槽本体内超纯水水质。

8、一些实施例中，所述水处理系统还包括控制设备；

9、所述控制设备分别与所述液位计、所述水质分析仪和所述水输送结构连接；

10、所述控制设备用于接收所述水质分析仪发送的水质检测信号、接收所述液位计发送的液位指示信号，在水质检测信号指示所述水槽本体内的超纯水的水质满足预设条件时，向所述水输送结构发送第一控制信号，以及在所述液位指示信号指示所述水槽本体内的超纯水排出至第一水位时，向所述水输送结构发送第二控制信号；所述第一控制信号用于指示所述水输送结构将所述水槽本体内的超纯水排出至所述第一水位，所述第二控制信号用于指示所述水输送结构向所述水槽本体内输送超纯水至第二水位；所述第一水位低于所述第二水位。

11、一些实施例中，所述水输送结构包括水输送管路以及与所述水输送管路连接的水泵；

12、其中，所述水泵与所述控制设备连接；

13、所述控制设备用于向所述水泵发送所述第一控制信号和所述第二控制信号；所述第一控制信号用于指示所述水泵通过所述水输送管路将所述水槽本体内的超纯水排出至所述第一水位，所述第二控制信号用于指示所述水泵通过所述水输送管路向所述水槽本体内输送超纯水至所述第二水位。一些实施例中，所述液位计和所述水质分析仪分别与所述水输送管路的外壁贴合设置。

14、一些实施例中，所述水质分析仪包括以下至少一个传感器：

15、比重传感器；

16、浊度传感器；

17、水质组分分析传感器。

18、一些实施例中，还包括驱动机构和用于放置硅片的硅片盒；

19、所述驱动机构与所述控制设备连接；

20、所述控制设备用于向所述驱动机构发送第二控制信号，所述第二控制信号用于指示所述驱动机构将所述硅片盒放入所述水槽本体内的超纯水中或将所述硅片盒从所述水槽本体内的超纯水中移出。

21、一些实施例中，所述水输送管路包括第一管路和第二管路，所述第一管路位于水平面上，所述第二管路位于铅垂面上，所述第一管路的第一端与所述第二管路的第一端连通。

22、一些实施例中，还包括升降机构；

23、所述升降机构与所述第一管路的第二端固定连接，所述升降机构用于带动所述第一管路上升或下降。

24、本实用新型的有益效果是：

25、本实施例提供的水处理系统，将水输送管路的外壁贴合的液位计和水质分析仪伸入水槽本体内的超纯水中，通过水质分析仪对超纯水水质进行分析检测、通过液位计对超纯水的水位进行分析检测，根据分析得到的具体水质情况，确定超纯水的排出量以及添加量，其中，有可能只需排出一部分并添加一部分、也有可能无需排出和添加，还有可能将水槽本体内的超纯水全部排出并重新填满，之后，通过水输送管路将水槽本体内的超纯水排出或向水槽本体内输送超纯水，并且同时通过液位计进行检测水位以确定是否排出完毕或者添加完毕，相较于在每次通过水槽本体运输硅片后将水槽本体内的超纯水全部排净后再重新添加，本实用新型提供的水处理系统能够在硅片清洗工艺中节约水资源。

技术特征：

1.一种水处理系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，还包括控制设备；

3.根据权利要求2所述的水处理系统，其特征在于，所述水输送结构包括水输送管路以及与所述水输送管路连接的水泵；

4.根据权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，所述水质分析仪包括以下至少一个传感器：

5.根据权利要求2所述的水处理系统，其特征在于，还包括驱动机构和用于放置硅片的硅片盒；

6.根据权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，所述水输送管路包括第一管路和第二管路，所述第一管路位于水平面上，所述第二管路位于铅垂面上，所述第一管路的第一端与所述第二管路的第一端连通。

7.根据权利要求6所述的水处理系统，其特征在于，还包括升降机构；

技术总结
本技术提供了一种水处理系统，属于半导体制造技术领域，所述水处理系统，包括：水槽本体和水处理装置；所述水槽本体用于容纳超纯水；所述水处理装置包括水输送结构、液位计和水质分析仪；所述液位计和所述水质分析仪分别与所述水输送结构的外壁贴合设置；所述水输送结构用于将所述水槽本体内的超纯水排出或向所述水槽本体内输送超纯水，所述液位计用于测量所述水槽本体内超纯水水位，所述水质分析仪用于检测所述水槽本体内超纯水水质。本技术的技术方案，能够达到在硅片清洗工艺中节约水资源的目的。

技术研发人员：舒斌,古朗,高宇
受保护的技术使用者：西安奕斯伟材料科技股份有限公司
技术研发日：20230731
技术公布日：2024/2/19