一种水处理设备的制造方法

文档序号:9836640阅读:310来源:国知局
一种水处理设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及水利环保技术领域,更具体地说,涉及一种水处理设备。
【背景技术】
[0002]随着对环保话题的不断深入,针对水污染治理的工业设备也在不断进行更新和提升。
[0003]在工业领域对工业废水进行处理回收时,通常采用水处理设备。常见的水处理设备包括一个或多个处理回收池,多个处理回收池之间通过管路连接,由于设备间的流向设计较为复杂,所以通常管路连接也较为复杂。考虑到多个处理回收池间的流动力需要由栗体提供,复杂的连接管路也会增加栗体的负荷。
[0004]综上所述,如何提供一种结构简单的水处理设备,是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

【发明内容】

[0005]有鉴于此,本发明的目的是提供一种水处理设备,该水处理设备的结构简单,连接方便。
[0006]为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
[0007]—种水处理设备,包括至少两个处理器,所述处理器的进水口设有进水溢流槽,所述处理器的出水口设有出水溢流槽,所述进水溢流槽的顶部高于所述出水溢流槽的顶部;所述进水溢流槽和所述出水溢流槽均设置在所述处理器内部;
[0008]通过对接管连通的两个所述处理器高度错落设置,处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽的顶部高于处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽的顶部,且处于高位的所述处理器的所述出水溢流槽与处于低位的所述处理器的所述进水溢流槽通过所述对接管连通。
[0009]优选地,处于高位的所述处理器设于机架的台阶上,处于低位的所述处理器设于所述机架的台阶下,所述台阶的高度大于或等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽底部与所述出水溢流槽底部的高度差。
[0010]优选地,所述台阶的高度等于同一个所述处理器上的所述进水溢流槽底部与所述出水溢流槽底部的高度差,用于连通两个所述处理器的所述对接管水平设置。
[0011]优选地,所述处理器的侧壁上设置有与所述进水口高度相同的用于连接导流管的导流口,所述导流口上设置有导流槽,所述导流槽位于所述处理器内部,所述导流槽的顶部与所述进水溢流槽的顶部水平。
[0012]优选地,所述进水口设置于所述进水溢流槽的侧壁底部,所述出水口设置于所述出水溢流槽的侧壁底部。
[0013]优选地,所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽为矩形凹槽。
[0014]优选地,所述进水溢流槽与所述出水溢流槽分别设置于所述处理器上的两个对立的侧壁上。
[0015]优选地,所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽内设置有用于检测液位的传感器,所述传感器与用于控制液体流量的控制装置连接。
[0016]优选地,所述进水溢流槽和/或所述出水溢流槽为高度可调节的溢流槽。
[0017]本发明提供的水处理设备结构简单,通过错落设置的至少两个结构相同的处理器对工业废水进行处理,在连接时可以方便安装,且能够保证美观。另外,由于两个处理器相连接的出水溢流槽和进水溢流槽的高度的不同,可以保证在正常使用时不同的处理器中的液位保持不同,不会形成倒流,从而不会影响各个处理器中的处理过程。
【附图说明】
[0018]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0019]图1为本发明所提供水处理设备的具体实施例的结构示意图;
[0020]图2为本发明所提供水处理设备的具体实施例中处理器进水端的局部示意图;
[0021]图3为本发明所提供水处理设备的具体实施例中处理器出水端的局部示意图。
[0022]上图1-3 中:
[0023]I为一级处理器、2为进水口、3为机架、4为对接管、5为二级处理器、6为出水口、7为导流管、8为进水溢流槽、9为出水溢流槽。
【具体实施方式】
[0024]下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0025]本发明的核心是提供一种水处理设备,该水处理设备的结构简单,连接方便。
[0026]请参考图1至图3,图1为本发明所提供水处理设备的具体实施例的结构示意图;图2为本发明所提供水处理设备的具体实施例中处理器进水端的局部示意图;图3为本发明所提供水处理设备的具体实施例中处理器出水端的局部示意图。
[0027]本发明所提供的一种水处理设备,主要用于工业环境下对于工业废水的处理过程,水处理设备包括至少两个处理器,处理器为用于对工业废水进行处理的一个单独的反应装置,通常为独立的器皿。
[0028]处理器上设置有进水口 2和出水口6,通常情况下进水口 2高于出水口6。在处理器的进水口 2设置有进水溢流槽8,处理器的出水口 6设置有出水溢流槽9,其中,进水溢流槽8和出水溢流槽9均可以为上敞口槽体,分别连接于进水口处和出水口处,同一个处理器中进水溢流槽8的顶部高于出水溢流槽9的顶部,进水溢流槽8和出水溢流槽9均设置在处理器内部。通过对接管4连通的两个处理器高度错落设置,处于高位的处理器的出水溢流槽9的顶部高于处于低位的处理器的进水溢流槽8的顶部,且处于高位的处理器的出水溢流槽9与处于低位的处理器的进水溢流槽8通过对接管4连通。
[0029]具体地,上述装置可以参考图1,一级处理器I和二级处理器5为结构相同的处理器,在处理器的一侧设置有进水口 2,进水口 2设置有进水溢流槽8,处理器的另一侧还设置有出水口 6,出水口 6上设置有出水溢流槽9。在同一个处理器上,进水溢流槽8的槽顶高于出水溢流槽9的槽顶。一级处理器I与二级处理器5错落设置,一级处理器I高于二级处理器5,一级处理器I的出水溢流槽9与二级处理器5的进水溢流槽8连通。
[0030]需要提到的是,上述进水溢流槽8和出水溢流槽9均为敞口槽体,进水溢流槽8和出水溢流槽9的顶部均可以为敞口槽体的上端部,即进水溢流槽8和出水溢流槽9的最高液位处,当进水溢流槽8内的液体量超出能够承受的最大量时,液体将由进水溢流槽8顶部位置向处理器的主体溢出,或由槽体上设置的溢出口向处理器的主体溢出。当处理器的主体内的液体量超出出水溢流槽9的顶部时,液体将由处理器的主体向出水溢流槽9溢出,或由出水溢流槽9上设置的溢出口向出水溢流槽9溢出。
[0031]另外,同一个处理器上的进水溢流槽8与出水溢流槽9为不直接连通的两个槽体,二者仅能够通过处理器的主体实现液体的流动。
[0032]上述水处理设备中,由进水口2流入处理器中的液体,首先会被贮存在进水溢流槽8内,请参考图2,当进水溢流槽8内积累了一定量的液体并盛满后,进水溢流槽8内的液体会溢出并流入处理器的主体中。处理器的主体中的液体量不断增加,并在主体部分中进行水处理反应,当主体部分中的液体增长至出水溢流槽9的顶部,液体流入出水溢流槽9中,并由出水溢流槽9的出水口 6流出处理器。
[0033]当两个处理器按照上述方式连接时,液体可以由位于高位的处理器流入位于低位的处理器中。
[0034]本实施例所提供的水处理设备结构简单,通过错落设置的至少两个结构相同的处理器对工业废水进行处理,连接方便且能够保证美观。另外,由于两个处理器相连接的出水溢流槽9和进水溢流槽8的高度的不同,可以保证在正常使用时不同的处理器中的液位保持不同,不会形成倒流,从而不会影响各个处理器中的处理过程。
[0035]可选的,上述进水溢流槽8和出水溢流槽9均可以为矩形的上敞口槽体,当然,也可以为半球形等,另外,进水溢流槽8和出水溢流槽9还可以为侧壁设置有导通口的封闭槽体。现有技术中,任何可以作为溢流槽的结构均属于本发明所保护的范围内。
[0036]考虑到上述多个处理器均属于同一个水处理
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