专利名称：集成式抽真空器的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种集成式抽真空器，尤其涉及这样一种集成式抽真空器，其能 够在制造半导体、平面显示器的过程中，将腔内抽真空，通过每个单独的排气管 路将腔内产生的气体排出以便使其净化，并且排走未反应气体以及夹杂在气体中 的副产物。
背景技术：
一般来说，半导体的生产过程包括制造过程和组装过程。制造过程就是以这 样的方式制造所谓半导体芯片的过程，在各种处理腔中在每个晶片上沉积一层薄 膜，以及重复执行有选择地蚀刻沉积薄膜的歩骤以便形成特定图案。组装过程就 是制造成品的过程，即，使在上述制造过程中生产的半导体片彼此分离，将其组 装在引线框中。
目前，在上述硅片上沉积薄膜或者在硅片上蚀刻薄膜的过程，是在处于高温 的处理腔中利用有毒气体如硅烷、砷化氢、氯化硼等以及氢气进行的。并且在上 述过程中，处理腔中会产生大量的具有可燃性、腐蚀性异物和含有诱导成分 (inducing dement)的毒性气体。
因此，半导体的制造设备包含一个真空系统，其中使处理腔形成真空状态的 真空泵的后部形成有净化器，其将处理腔内排出的废气净化后排入大气。
在传统的真空系统中，主体内至少设有一个真空泵装置，其中包含增压泵和 低真空泵(low vacuum pump)，以便能够排出处理腔中产生的气态物质，增压泵 和低真空泵分别通过第一排气管与处理腔相连。而且，主体外部单独设置有净化 器，用于净化从真空泵装置内排出的废气，真空泵装置和净化器通过纵向延伸的 第二排气管相连。
在这种传统的真空系统里，制造半导体和平面显示器的过程中真空泵设备的 每次运行产生的气体，依次通过第一排气管、真空泵装置、第二排气管、净化器 得以净化后排出。但是，上述真空系统需要大的安装空间来安置具有真空泵装置和净化器的主 体。因此其使用效率还有待提高。
最近，为满足这样的需求，0374862号韩国实用新型公开了一种"改进的气 体真空净化器"。
如图4所示，该真空净化器100主体内包括抽真空器和净化器，使得处理腔 内生成的气体由抽真空器排出，从抽真空器排出的气体经过净化器净化后得以排 出。
上述真空净化器通过将抽真空器和净化器安置在净化器主体内而减小安装 空间。但是，由于这种真空净化器的结构特点在于，从抽真空器排出的气体聚集 在净化器内以便得以净化，因此，其缺点在于，当净化器发生故障时，真空净化 器就会停止工作，这样就会耽搁半导体的加工进度。
发明内容
本发明的目的是，针对上述问题提供一种集成式抽真空器，该集成式抽真空 器将在半导体、平面显示器等的制造过程中在处理腔内产生的气态物质如气体通 过单独排气管路排出以便使其净化，除去未反应的气体及夹杂在气体中的副产 物，并縮小了构成抽真空器的设备的安装空间。
本发明一方面提供一种集成式抽真空器，其将制造半导体、平面显示器等的
设备的处理腔抽成真空，或者将处理腔内产生的废气和副产物排出以便使其净
化，该集成式抽真空器包括主体；安置在主体内的至少一个真空泵装置，其包
括低真空泵，用于将处理腔内抽成真空或者将处理腔内产生的废气和副产物排
出，真空泵装置通过第一排气管与处理腔相连；至少一个通过第二排气管与真空
泵装置相连的净化器，所述净化器安置在主体内，以便对气态物质进行净化；至 少一个与真空泵装置相连的收集器，用于使处理腔内欲流入低真空泵和净化器的
未反应气体和夹杂在气态物质中的副产物分别发生附加化学反应，以便其不会流 入低压真空泵和净化器，这样就延长了低压真空泵和净化器发生故障的平均时间 间隔；以及控制器，与真空泵装置、净化器、收集器分别相连，以便对其整体控 制。
此外，主体外包围有箱体。本发明另一方面提供一种集成式抽真空器，其将制造半导体、平面显示器等 设备的处理腔抽成真空，或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以使其得 以净化，该集成式抽真空器包括主体；以及安置在主体内的至少一个真空单元， 对应于处理腔，包括真空泵装置、净化器和收集器，其中，真空泵装置安置在主 体内，包括低真空泵，用于将处理腔内抽成真空或者将处理腔内产生的废气和副 产物排出，并通过第一排气管与处理腔相连；净化器通过第二排管与真空泵装置 相连，以便对真空泵装置排出的气态物质进行净化；收集器与真空泵装置相连， 用于使处理腔内欲流入低着空泵和净化器的未反应气体和夹杂在气态物质中的 副产物分别发生附加化学反应，收集器防止其流入低压真空泵和净化器，这样就 延长了低真空泵和净化器发生故障的平均间隔时间。
此外，集成式抽真空器还包括控制器，用于对真空单元进行集成控制。
此外，真空单元由箱体包围，以便得以模块化。
此外，真空泵装置还包括增压泵，用于提高低真空泵的排气速度。
此外，收集器与增压泵的前端相连。
此外，收集器连接在增压泵和低真空泵之间。
此外，收集器连接在增压泵的前端、增压泵和低真空泵之间。
本发明的有益效果体现在
本发明的集成式抽真空器通过每一个单独的排气管路将制造半导体、平面显 示器等的容器内产生的废气排出和净化，因此，其通过对气体进行分配从而避免 设备的过度负荷，这样就可以延长设备的使用寿命。同时，排气工作能够通过每 一个单独的排气管路顺利的进行，从而避免了出现由于排气无法进行而导致设备 停止工作的现象，避免了对半导体制造进程的影响，并且在排气过程中能够很容 易的将未反应气体和副产物排走。另外，本发明的集成式抽真空器将净化系统包 含在集成设备内，节约了设备的安装空间。
从下面结合附图的描述中将更加清楚前面提到的和其它本发明的目的、特征 和优点，其中
图1是本发明的集成式抽真空器的透视图；图2是图1中所示集成式抽真空器的侧视图3是控制图1所示真空单元的控制器的示意图4是传统的真空系统的侧视图。
具体实施例方式
下面结合附图对本发明的实施例集成式抽真空器作详细说明。
如图1和2所示，本发明的实施例集成式抽真空器包括具有预定框架的主体 10，主体10内安置至少一个真空单元20，真空单元20分别通过单独的排气管 路将制造半导体、平面显示器等的设备的处理腔(图中未示出)内产生的气态物 质和副产物排出和净化。
主体10由预定框架组成，主体10内形成接纳空间12。 一个单独的箱体(图 中未示出)包围在主体10外。
真空单元20安置在主体10的接纳空间12内，对应处理腔，以便通过各个 单独的排气管路将处理腔内产生的气态物质排出并对其净化。为此，真空单元 20包括真空泵装置22;收集器24，与真空泵装置22相连以便将处理腔内未反 应气体以及夹杂在气体中的副产物排出；以及净化器26，与真空泵装置22相连， 以便净化从真空泵装置22排出的气体。
用于排出处理腔内产生的气体的真空泵装置22通过第一排气管21与处理腔 相连。
真空泵装置22包括低真空泵22A，用于排出处理腔内产生的气体。真空泵 装置22还包括增压泵22B，用于平稳地排出处理腔内产生的气体。这样，增压 泵22B提高了低压真空泵22A的排气速度。
收集器24使未反应气体和夹杂在从处理腔内排出气体中的副产物分别发生 附加化学反应，以便阻止它们流入低真空泵22A和净化器26，这样就延长了低 真空泵22A和净化器26发生故障的平均时间间隔。至少一个收集器24与真空 泵装置22相连，这样，收集器24可以与增压泵22B的前端相连，或者连接在 增压泵22B和低真空泵22A之间，还可以连接在增压泵22B的前端、增压泵22B 和低真空泵22A之间。
在本实施例中，图示的收集器24连接在增压泵22B与低真空泵22A之间。另外，为了阻止处理腔内排出的未反应气体和副产物流入低真空泵22A和净化 器26，收集器24可以安装在排气管道的任何位置。
其中，用于阻止处理腔内排出的未反应气体和副产物流入低真空泵22A和 净化器26的收集器24是现有技术。因此，本领域的技术人员可以很容易地实施 收集器24，因此，不再对收集器24作详细的描述。
净化器26起到净化从真空泵装置22排出的气体的作用，其通过第二排气管 25与真空泵装置22相连。通过净化器26净化气体是现有技术，因此不再对净 化器26的结构作详细描述。
如图3所示，本发明的抽真空器还包括控制器30，其用于对主体10内的对 应处理腔的每一个真空单元20进行集成控制，以便形成每一个单独的排气管路。 控制器30与每一个真空单元20相连，并根据预先输入的信息对每一个真空单元 20进行集成控制。
尽管图中未示出，但上述控制器30可以与真空泵装置22、收集器24以及 净化器26是相连的，以便通过预先输入的信息对它们进行集成控制。
每个真空单元20以这样的方式安置在主体10内，其由单独的箱体覆盖从而 得以模块化。这种结构的好处在于，当真空单元20发生故障时很容易对其进行 更换。
下面对具有上述结构的本发明实施例集成式抽真空器的工作过程进行描述。
如果通过使用本发明实施例的集成式抽真空器，其目的是将制造半导体、平 面显示器等的设备的处理腔抽成真空，或者将处理腔内产生的气态物质排出以便 得以净化，则当半导体和平面显示器的制造过程结束时，该过程中处理腔内产生 含有大量副产物的气体。
为了将上述气体从处理腔内排出，在控制器30的控制下，主体10内安置的 具有单独排气管路的每个真空单元20开始工作。接着，根据每个真空单元20 的工作，处理腔内产生的气体和副产物经第一排气管21后依次流经真空泵装置 22、收集器24以及净化器26而被净化，然后被排出。
这时，处理腔内产生的未反应气体和夹杂在气体中的副产物经过真空泵装置 22的增压泵22B流入收集器24，并在收集器24中进行化学反应。收集器以最 优的方式制造以便对应收集器24内工艺过程的特性。因此，未反应气体和副产物不会流入低真空泵22A，当由真空泵装置22的低真空泵22A和第二排气管25 流经净化器26时，只有气体被净化并排出。这样，未反应气体和副产物就不会 流入低真空泵22A和净化器26，从而延长了真空泵装置22和净化器26的使用 寿命，使得延长低真空泵22A和净化器26发生故障的平均时间间隔。
同样，处理腔内产生的气体通过每个具有单独排气管路的真空单元20进行 净化后排出，真空单元即真空泵装置22、收集器24和净化器26，因此可以通过 排气的散布而避免设备的过度运转。如果真空单元20发生故障，或者组成真空 单元20的真空泵装置22、收集器24和净化器26发生故障时，排气工作仍然能 够通过另一个真空单元20顺利进行。因此，解决了由于排气无法进行而导致设 备停止工作的问题。
当处理腔内产生的气体通过每个单独排气管路排出而得以净化时，控制器 30对每个真空单元20的真空泵装置22、收集器24和净化器26进行集成控制， 以便在工作中方便地对其进行控制。
净化系统包含每个单独的排气管路，也就是说，每个真空单元20安置在主 体10内对应处理腔，这样减少了组成净化系统的装置的安装空间。
权利要求
1、一种集成式抽真空器，其将制造半导体、平面显示器等的处理腔抽成真空，或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以便将其净化，包括主体；安置在主体内的至少一个真空泵装置，真空泵装置包括低真空泵，用于将所述处理腔内抽成真空或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出，所述真空泵装置通过第一排气管与所述处理腔相连；至少一个净化器，其通过第二排气管与真空泵装置相连，所述净化器安置在主体内，以便对气态物质进行净化；至少一个收集器，其与真空泵装置相连，用于使处理腔内欲流入低真空泵和净化器的未反应气体和夹杂在气体中的副产物分别发生附加化学反应，而使其不会流入低真空泵和净化器，这样就延长了低真空泵和净化器发生故障的平均时间间隔；以及控制器，与所述真空泵装置、净化器、收集器分别相连，以便对它们集成控制。
2、 如权利耍求1所述的集成式抽真空器，其中，所述主体外包围有一个箱体。
3、 一种集成式抽真空器，其将制造半导体、平面显示器等的处理腔抽成真空， 或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以便使其得以净化，包括主体；以及至少一个真空单元，其安覽在主体内，对应于处理腔，包括真空泵装置、净 化器和收集器，其中，所述真空泵装置安置于主体内，包括低真空泵以便将处理 腔内抽成真空或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出，所述真空泵装置通 过第一排气管与处理腔相连；所述净化器通过第二排气管与真空泵装置相连，以 便对真空泵装置排出的气态物质进行净化；所述收集器与真空泵装置相连，用于 使处理腔内欲流入低真空泵和净化器的未反应气体和夹杂在气体中的副产物分 别发生附加化学反应，以便防止其流入低真空泵和净化器，这样就延长了低真空泵和净化器发生故障的平均间隔时间。
4、 如权利要求3所述的集成式抽真空器，还包括控制器，用于对所述真空单元 进行集成控制。
5、 如权利要求4所述的集成式抽真空器，其中，所述真空单元由一个箱体包围， 以便使其得以模块化。
6、 如权利要求1-5任一所述的集成式抽真空器，其中，所述真空泵装置还包括 增压泵，用于提高低真空泵的排气速度。
7、 如权利要求6所述的集成式抽真空器，其中，所述收集器与所述增压泵的前 面相连。
8、 如权利要求6所述的集成式抽真空器，其中，所述收集器连接在所述增压泵 和所述低真空泵之间。
9、 如权利要求6所述的集成式抽真空器，其中，所述收集器连接在所述增压泵 前面、所述增压泵和所述低真空泵之间。
全文摘要
本发明公开了一种集成式抽真空器，其用于将制造半导体、平面显示器等设备的处理腔抽成真空，或者将处理腔内产生的气态物质和副产物排出以便使其净化，制造半导体、平面显示器等的处理腔内产生的气态物质通过每个单独排气管路排出以便得以净化。因此，通过废气的散布，防止净化系统运转过度，由此延长了设备运转的寿命。同时，排气工作可以通过每一个排气管路顺利进行，这样就避免了由于排气无法进行而拖延半导体制造进程，并且在排气过程中很容易将未反应的气体和副产物排走。
文档编号B01D46/00GK101687131SQ200880016395
公开日2010年3月31日 申请日期2008年5月16日 优先权日2007年5月17日
发明者卢明根, 吴兴植, 黄泰璟 申请人:Lot真空股份有限公司