专利名称：半导体废气处理的酸碱中和装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体废气处理的酸碱中和装置，特别是一种针对半导体废气洗 涤塔内洗涤用混合液的酸碱值进行控管及调整的装置技术。
背景技术：
现有技术中用于半导体光电产业的废气净化设备，主要以湿式废气洗涤塔为主， 该湿式废气洗涤塔的种类，概可分为二类，包括填充式洗涤塔与喷雾式洗涤塔。其中，该喷雾式洗涤塔为一密闭结构体，具有一进气端、一出气端及一排放口，且 喷雾式洗涤塔内具有相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽，该反应腔室连通该进气端 与出气端，该循环水槽连通该排放口，且该反应腔室内设有一个或多个喷嘴，净化废气用的 中和液可经由该喷嘴雾化喷出，并充满于该反应腔室内；如此，当废气自进气端进入喷雾式 洗涤塔的反应腔室内时，会接触该雾化的中和液，而使废气中的粉尘或有害物质溶入该雾 化的中和液中，据以分离出污水、污泥与净化的气体，该净化的气体由出气端向外界排放， 该污水或污泥会随着中和液落入下方的循环水槽内，该循环水槽内的中和液接受过滤而可 供继续使用，过滤后的中和液经由排放口排出，经回收而送至反应腔室内，以重复过滤废 气。上述中和液的酸碱值，依据该中和液所欲过滤的废气的酸碱值来决定，且该废气 的酸碱值依据半导体的制程而定；因此，当所欲过滤的废气呈酸性时，提供碱性中和液，当 所欲过滤的废气呈碱性时，提供酸性中和液。惟，上述喷雾式洗涤塔的循环水槽内的中和液，会受到不同半导体制程的废气的 影响，而变成酸性或碱性液体，于该中和液重复使用一段时间后，会导致该中和液的酸碱值 过高的问题，造成该中和液腐蚀洗涤塔及其周边设备的零件的现象，缩短洗涤塔及其周边 设备的使用寿命，同时也会造成维修上的困难与危险，亟需加以改善。
发明内容
为克服上述现有技术中所揭的问题，本发明的目的旨在提供一种半导体废气处理 的酸碱中和装置，尤其是一种能够自动侦测、控管及调整半导体废气洗涤塔内的洗涤用混 合液的酸碱值者，以提升该洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性 与安全性。为实现上述的目的，本发明半导体废气处理的酸碱中和装置，包括一自动吸入器，连接一喷嘴，且该喷嘴延伸至一废气洗涤塔内，该废气洗涤塔内具 相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽，且该喷嘴座落于该反应腔室内；一清水供应端，连接该自动吸入器，以供应清水至该自动吸入器；一中和液供应端，连接该自动吸入器，以供应中和液至该自动吸入器，该中和液供 应端并连接该循环水槽，且该自动吸入器内的该清水与该中和液混合形成一混合液，并排 流至该喷嘴；及
一氮气供应端，连接该喷嘴，以供应氮气加压该混合液呈雾状喷洒至该反应腔室 内，而使该混合液与该反应腔室内的废气反应，并流入该循环水槽内，该中和液供应端间隔 定量供应中和液至该循环水槽内，以中和该循环水槽内的混合液，且该中和液供应端于该 循环水槽内的混合液的酸碱值超过一预设范围时，持续加量供应中和液至该循环水槽内， 以中和该循环水槽内的混合液。据此，该中和液供应端能够间隔定量供应中和液至该循环水槽内，以平衡混合液 的酸碱值，并于混合液的酸碱值过高时，持续供应大量中和液至该循环水槽内与混合液进 行酸碱中和，以达到自动侦测、控管及调整半导体废气洗涤塔内混合液的酸碱值的目的，进 而提升该洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性与安全性。此外，本发明更加包含一酸碱值控制器，该酸碱值的预设范围设定于该控制器内；一酸碱值侦测器，连接该控制器，且该侦测器具一延伸至该循环水槽内的侦测元 件，以侦测该循环水槽内混合液的酸碱值，并提供至控制器，而与该酸碱值的预设范围进行 比对；一第一阀体，串接于该清水供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制，而 启、闭清水供应至该自动吸入器；一第二阀体，串接于该中和液供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制， 而启、闭中和液供应至该自动吸入器；及一第三阀体，串接于该中和液供应端与该循环水槽之间，并接受该控制器控制，而 启、闭中和液供应至该循环水槽。其中，所述清水供应端与该自动吸入器之间串接一调整阀，以调整供应清水至该自动吸 入器的流量。所述中和液供应端与该自动吸入器之间串接一隔膜阀，以调整供应中和液至该自 动吸入器的流量。然而，为能明确且充分揭露本发明，并予列举出较佳实施例，请配合参照图式而详 细说明如后述
图1揭示出本发明较佳实施例的配置示意图；图2揭示出图1的实施状态图。附图标记说明1-废气洗涤塔；11-反应腔室；12-循环水槽；13-进气端；14-出气端；15-排放 口 ；161,162-隔板；17-下水孔；2-自动吸入器；21-喷嘴；210、30、401、402_水管；3-清 水供应端；31-第一阀体；310、410、420、50_气管；32-调整阀；33、44、52_手阀；34、45_流 量计；35,46,53-感测器；36,47-逆止阀；4-中和液供应端；41-第二阀体；42-第三阀体； 43-隔膜阀；5-氮气供应端；51-第四电磁阀；6-控制器；7-酸碱值侦测器；70、80_信号导 线；71-侦测元件；8-高压空气供应端；81-第一电磁阀；82-第二电磁阀；83-第三电磁阀； 9、91-混合液。
具体实施例方式请参阅图1所示，揭示出本发明较佳实施例的配置示意图，说明本发明半导体废 气处理的酸碱中和装置，包括一自动吸入器2、一清水供应端3、一中和液供应端4及一氮气 供应端5 ；该自动吸入器2利用一水管210连接一喷嘴21，且该喷嘴21延伸至一废气洗涤 塔1内，该废气洗涤塔1内设有相通的一上层反应腔室11及一下层循环水槽12，且该喷嘴 21座落于该反应腔室11内；该清水供应端3利用一水管30连接该自动吸入器2，能够供应 清水至自动吸入器2，该中和液供应端4利用二水管401、402分别连接该自动吸入器2及该 循环水槽12，能够分别供应中和液至自动吸入器2及循环水槽12，该氮气供应端5利用一 气管50连接该喷嘴21。本发明半导体废气处理的酸碱中和装置更加包含一酸碱值控制器6、一酸碱值侦 测器7、一第一阀体31、一第二阀体41及一第三阀体42 (如图1所示)；该控制器6在本实 施上可为一可程式控制器(PLC)，且控制器6内部设定有一酸碱值的预设范围，该酸碱值侦 测器7利用一信号导线70连接该控制器6，且该侦测器7具一延伸至该循环水槽12内的酸 碱值侦测元件71，该侦测元件71能提供酸碱值侦测信号至控制器6，而与该酸碱值的预设 范围进行比对。该第一阀体31串接于该清水供应端3与该自动吸入器2之间的水管30上(如图 1所示)，且第一阀体31利用一气管310连接一高压空气供应端8，并于该第一阀体31与 高压空气供应端8之间的气管310上设一第一电磁阀81，且第一电磁阀81利用一信号导 线80连接控制器6，该控制器6可藉由控制第一电磁阀81，以驱动高压空气供应端8的高 压空气启、闭第一阀体31，进而启、闭清水供应至该自动吸入器2。该第二阀体41串接于该中和液供应端4与该自动吸入器2之间的水管401上(如 图1所示)，且第二阀体41利用一气管410连接该高压空气供应端8，并于该第二阀体41 与高压空气供应端8之间的气管410上设一第二电磁阀82，且第二电磁阀82利用该信号导 线80连接控制器6，该控制器6可藉由控制第二电磁阀82，以驱动高压空气供应端8的高 压空气启、闭第二阀体41，进而启、闭中和液供应至该自动吸入器2。该第三阀体42串接于该中和液供应端4与该循环水槽12之间的水管402上(如 图1所示)，且第三阀体42利用一气管420连接该高压空气供应端8，并于该第三阀体42 与高压空气供应端8之间的气管420上设一第三电磁阀83，且第三电磁阀83利用该信号导 线80连接控制器6，该控制器6可藉由控制第三电磁阀83，以驱动高压空气供应端8的高 压空气启、闭第三阀体42，进而启、闭中和液供应至该循环水槽12内。此外，本发明也包括所述废气洗涤塔1为一密闭结构体(如图1所示)，具有一进气端13、一出气端14 及一排放口 15，该反应腔室11与该循环水槽12之间利用若干下水孔17相连通，且该反应 腔室11连通该进气端13与该出气端14，该喷嘴21邻近该出气端14，该进气端13与出气 端14之间的反应腔室11内，间隔有多个相通的隔板161，该循环水槽12连通该排放口 15， 且循环水槽12内也间隔有多个相通的隔板162。所述清水供应端3与该自动吸入器2之间的水管30上串接一调整阀32(如图1 所示)，座落于该第一阀体31与自动吸入器2之间，用以微量调整供应清水至该自动吸入器 2的流量。
所述清水供应端3与该自动吸入器2之间的水管30上也串接有一手阀33、一流量 计34、一感测器35及一逆止阀36 (如图1所示)。所述中和液供应端4与该自动吸入器2之间的水管401上串接一隔膜阀43 (如图 1所示)，座落于该第二阀体41与自动吸入器2之间，用以微量调整供应中和液至该自动吸 入器2的流量。所述中和液供应端4与该自动吸入器2之间的水管401上也串接有一手阀44、一 流量计45、一感测器46及一逆止阀47(如图1所示)。所述氮气供应端5与喷嘴21之间的气管50上也串接有一第四电磁阀51、一手阀 52及一感测器53(如图1所示)。依据上述构件组成，可供据以实施本发明，包括下列步骤(1)使用该酸碱值侦测器7的侦测元件71，(如图2所示)持续于循环水槽12内 进行酸碱值侦测。(2)控制器6开启第一及第二阀体31、41 (如图2所示)，令清水供应端3供应清 水至该自动吸入器2，且令中和液供应端4供应中和液至该自动吸入器2，而使自动吸入器 2内的清水与中和液混合形成一混合液9，并排流至该喷嘴21，同时该氮气供应端5供应氮 气至喷嘴21，以加压该混合液9呈雾化状喷洒至该反应腔室11内，并经由该等下水孔17落 入该循环水槽12内蓄积，该侦测元件71可持续侦测循环水槽12内的混合液91的酸碱值， 并持续提供酸碱值侦测信号至控制器6。(3)控制器6间隔开启第三阀体42 (如图2所示)，令中和液供应端4间隔定量供 应中和液至该循环水槽12内，致使循环水槽12内的混合液91保持在酸碱平衡的状态。(4)该进气端13将半导体制程中所产生的废气导入该反应腔室11内(如图2所 示)，而使该废气沿着隔板161向出气端14流动，且该废气于邻近出气端14的位置与雾化 状的混合液9接触，促使废气中的粉尘或有害物质溶入该雾化的混合液9中，据以分离出污 水、污泥与净化的气体，该净化的气体由出气端14向外界排放，该污水或污泥会随着混合 液9经由该等下水孔17落入下方的循环水槽12内蓄积，而与该循环水槽12内的保持在酸 碱平衡状态的混合液91中和，并接受隔板162过滤而成可供继续使用的混合液，再经由排 放口 15排出，经回收而再次输送至反应腔室11内，以重复过滤废气。(5)当侦测器7侦测出循环水槽12内的混合液91的酸碱值超过该预设范围时(如 图2所示)，控制器6持续开启第三阀体42，令中和液供应端4直接供应大量中和液至该循 环水槽12内，以快速中和该循环水槽12内的混合液91。上述循环水槽12内的混合液91为PH值> 7时，表示该混合液91呈酸性，该中和 液应为碱性溶液；该循环水槽12内的混合液91为PH值< 7时，表示该混合液91呈碱性， 该中和液应为酸性溶液，赖以平衡混合液91的酸碱值。依据上述可知，该中和液供应端4能够间隔定量供应中和液至该循环水槽12内， 以平衡循环水槽12内混合液91的酸碱值，并于混合液91的酸碱值过高时，持续加量供应 中和液至该循环水槽12内，以平衡(也就是中和)混合液91的酸碱值；如此，即可自动侦 测、控管及调整半导体废气洗涤塔1内洗涤用混合液的酸碱值，进而提升该洗涤塔及其周 边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性与安全性。虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保 护范围以权利要求保护范围所界定为准。
权利要求
一种半导体废气处理的酸碱中和装置，其特征在于，包括一自动吸入器，连接一喷嘴，且该喷嘴延伸至一废气洗涤塔内，该废气洗涤塔内具相通的一上层反应腔室及一下层循环水槽，且该喷嘴座落于该反应腔室内；一清水供应端，连接该自动吸入器，以供应清水至该自动吸入器；一中和液供应端，连接该自动吸入器，以供应中和液至该自动吸入器，该中和液供应端并连接该循环水槽，且该自动吸入器内的该清水与该中和液混合形成一混合液，并排流至该喷嘴；及一氮气供应端，连接该喷嘴，以供应氮气加压该混合液呈雾状喷洒至该反应腔室内，而使该混合液与该反应腔室内的废气反应，并流入该循环水槽内，且该中和液供应端于该循环水槽内的混合液的酸碱值超过一预设范围时，供应中和液至该循环水槽内，以中和该循环水槽内的混合液。
2.如权利要求1所述半导体废气处理的酸碱中和装置，其特征在于，更加包含一酸碱值控制器，该酸碱值的预设范围设定于该控制器内；一酸碱值侦测器，连接该控制器，且该侦测器具一延伸至该循环水槽内的侦测元件，以 侦测该循环水槽内混合液的酸碱值，并提供至该控制器，而与该酸碱值的预设范围进行比 对；一第一阀体，串接于该清水供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制，而启、 闭清水供应至该自动吸入器；一第二阀体，串接于该中和液供应端与该自动吸入器之间，并接受该控制器控制，而 启、闭中和液供应至该自动吸入器；及一第三阀体，串接于该中和液供应端与该循环水槽之间，并接受该控制器控制，而启、 闭中和液供应至该循环水槽。
3.如权利要求1或2所述半导体废气处理的酸碱中和装置，其特征在于该清水供应 端与该自动吸入器之间串接一调整阀，以调整供应清水至该自动吸入器的流量。
4.如权利要求1或2所述半导体废气处理的酸碱中和装置，其特征在于该中和液供 应端与该自动吸入器之间串接一隔膜阀，以调整供应中和液至该自动吸入器的流量。
全文摘要
一种半导体废气处理的酸碱中和装置，在一废气洗涤塔的一反应腔室内设一自动吸入器的喷嘴，且自动吸入器连接一清水供应端及一中和液供应端，以供应清水及中和液至自动吸入器混合成一混合液，并排流至喷嘴，以喷洒至反应腔室内，而使混合液与反应腔室内的废气反应，并流入废气洗涤塔的一循环水槽内，且中和液供应端连接循环水槽，于循环水槽内的混合液酸碱值超过一预设范围时，中和液供应端能供应中和液至循环水槽内，以中和循环水槽内的混合液，据以提升洗涤塔及其周边设备的耐久使用寿命，并提升维修上的便利性与安全性。
文档编号B01D53/78GK101890280SQ200910143379
公开日2010年11月24日 申请日期2009年5月22日 优先权日2009年5月22日
发明者冯五良 申请人:东服企业股份有限公司