气化器和半导体处理装置的制作方法

专利名称：气化器和半导体处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于气化液体原料来生成气体原料的气化器，以 及利用它的半导体处理装置。这里，作为半导体处理，意味着为了通 过在晶片或者LCD (液晶显示器(Liquid crystal display))或者FPD (平板显示器(Flat Panel Display))用的玻璃基板等的被处理基板上， 以规定的图案来形成半导体层、绝缘层、导电层等，来在该被处理基 板上制造半导体器件或者包含与半导体器件连接的布线、电极等的构 造物，而实施的各种各样的处理。
背景技术：
通常，作为半导体器件的薄膜形成技术，己经知道CVD(化学气 相成长)法。在制造半导体器件的工序中，在构成电容器的情况下， 为了实现器件的高集成化，对于电介质薄膜要求高介电常数和少的泄 漏电流。为此，在形成这样的电介质薄膜的情况下，使用将有机金属 材料作为原料的成膜技术。在上述成膜技术中，作为是有机金属材料的原料，通常情况下， 使用本来是液体的原料，或者通过适当的溶剂可液化的原料。该原料 在气化器(原料气化器)内气化成雾状，提供给作为成膜装置的反应 室内。在气化器中，有机金属材料需要以不分解的温度充分地气化。 但是，在实际中，或者产生不气化的残留雾，或者有机金属材料的分 解物作为微粒来产生。为此，这些雾或者微粒就成了在反应室中成膜 的薄膜的品质降低的问题所在。这样， 一直以来，已经知道在气化器的出口设置过滤器来除去雾或者微粒的构成(例如，参照特开平7-94426号公报、特开平8-186103 号公报、美国专利第6210485号公报)。另外，也已经知道这样的构 造，对气化原料的流路设置以垂直或者妨碍流路那样的角度来设置的 气化板，在该气化板的内部设置加热器来促进气化(例如，参照特开 平6-310444号公报)。另外，己经知道在气化室内的与原料喷雾方向相对配置的内面部 分，设置与其它气化室的内面可独立地温度控制的气化面的气化器(例 如，参照特开2002-110546号公报，特别是其图7和图8的构造)。设 定该气化面的温度，使得比其它内面温度高。在己有的构造中，在向 与原料的喷雾方向相对配置的内面部分集中喷雾原料时，具有由于该 内面部分的温度降低而产生未气化残渣的可能性。利用该气化器，能 够减少这样的未气化残渣，能够实现气化量的增加。但是，在上述已有的气体原料供给系统中，由于雾和微粒会产生 过滤器的网眼堵塞。由此产生短期的传导性降低，同时气化器的内部 压力上升。为此，气体原料的供给量或气化器的气化效率降低。因此， 为了确保气体原料的供给量和气化效率，必须频繁地进行过滤器的清 扫或交换，这就具有装置的实际作业率降低的问题。另一方面，在使用上述已有的内置加热器的气化板的方法中，如 果为了提高由气化板进行的雾的捕捉率，需要设置使得气体原料的通 气路径广阔地伸出。在这种情况下，具有气化器的气化效率降低这样 的问题。另外，利用这样的气化板，也具有几乎不能期待对微粒的捕 捉效果的问题。此外，在上述己有的设置可独立控制温度的气化面的气化器中， 独立控制与原料的喷雾方向相对配置的内面部分的温度。通过这样， 可提高气化室内的原料的气化效率。但是，对于与该气化面不接触的 雾基本上一点也没有影响。为此，具有这样的问题，不能抑制不经过该气化面而直接向作为气化室的出口的气体导出口排出未气化残渣或 者微粒。发明内容本发明的目的在于，提供一种能够降低气体原料中的雾和微粒的气化器。本发明者在本发明的开发过程中，对该种气化器进行了研究，结 果得到下述的见解。艮P，通过在气化器等的第一气化部中气化生成的气体原料的通过 路径(第二气化部)中配置过滤部件，将该过滤部件加热，使得实际 达到与第一气化部的加热温度相同的温度，由此在捕捉气体原料中所 包含的残留雾的同时，能够再气化。通过这样，能够捕捉气体原料中 残留的雾或者微粒，可提供高纯度的气体原料。另外，由于捕捉的残 留雾通过加热的过滤部件再气化，所以也可降低过滤部件的网眼堵塞。 为此，也可长时间维持气化器内的气化效率，抑制气化器的内部压力 的上升。因此，也能够降低维护的频率，提高装置的实际作业率。但是，作为过滤部件的加热方式，考虑在过滤部件的外部设置 加热部件，从外部加热过滤部件的情况，和在过滤部件的内部设置加 热部件，从过滤器内部进行加热的情况。在前者的情况下，通过辐射 热或者传导热来加热过滤部件，但不能在气体原料的流路中配置加热 部件，所以要求均匀加热过滤器部件的构成。如果过滤器部件的温度 不均匀，捕捉的残留雾的加热温度会产生偏差，具有在过滤部件中产 生局部的网眼堵塞的可能性。例如，即使将作为过滤器部件的安装部 位的外缘部加热使得达到不会导致原料分解的比较高的温度，由于过 滤器的中央部与气体或者雾接触而冷却，温度降低。为此，具有这样 的问题，不能气化雾，导致网眼堵塞。本发明的第一观点在于，提供一种气化原料的供给构造，具有 气化原料的第一气化部；在该第一气化部所气化的气体原料的通过路 径中所设置的第二气化部，在所述第二气化部，具有在所述通过路 径中配置的具有通气性的过滤部件；传热部，与所述过滤部件的外缘 部之外的部位热接触，来传导加热部件所发生的热量。如根据第一观点，通过第一气化部将原料一旦气化后，能够通过 第二气化部再次气化气体原料中残留的雾，所以能够降低气体原料中 的雾。另外，通过传热部，加热部件所发生的热量传导到过滤部件的 外缘部之外的部位，所以能够使得过滤部件的温度均匀，结果，在过 滤部件中，能够更均匀地或者在更宽的面积来气化雾。另外，由于难于产生局部的原料的集中附着，所以能够降低过滤部件的网眼堵塞。 这种情况下，能够抑制气化器内的气化效率的降低或者第一气化部的 内部压力的上升等，所以能够大幅增加气化器的可连续操作时间。另 外，能够使得清扫或者交换等的维护操作变得容易。另外，由于通过 过滤部件能够捕捉第一气化部所发生的雾或者微粒，所以能够进行使 用气体原料的高品质处理。这里，作为过滤部件，能够举出例如具有多空隙(多孔)构造、 具有多个细孔的板构造、压縮纤维状物质的构造、网眼(网孔)构造 等的过滤部件。而且，优选，设置多个与过滤部件的多个部位分别热接触的上述 传热部。通过这样，能够进一步提高过滤部件的温度均匀性。优选， 热接触这些多个传热部的过滤器部件的部位，在上述通过路径的截面(与气体原料的流路方向正交的假想平面)上大致均匀地分散配置。 这里，优选，过滤部件的外缘部也加热。另外，作为上述传热部，可以是下面各个部件中的任何一个在 加热部件或者内置加热部件的部件上所设置的向着过滤部件突出的突 起、在加热部件或者内置加热部件的部件和过滤部件之间所插入的其 它部件、在过滤部件上所设置的向着加热部件或者内置加热部件的部 件突出的突起。另外，优选，设置固定螺钉等固定部件，用于相互固 定加热部件或者内置加热部件的部件、传热部、过滤部件中的至少两 个。这种情况下，优选，基于所述传热部或者所述过滤部件的温度来 进行温度控制。通过基于接收来自加热部件的热量的传热部或者过滤 部件的温度来进行温度控制，能够提高过滤部件的温度控制性。例如， 能够在传热部或者过滤部件的内部配置温度传感器的温度检测点，基 于该温度传感器的输出，通过温度控制电路等来控制加热部件"另外， 也可以在传热部或者过滤部件上，设置区别于腔室的加热部件。这种 情况下，优选，由该加热部件导致的传热部或者过滤部件的温度被控 制，使得变为与腔室相同的温度。本发明的第二观点是气化原料的供给构造，具有气化原料的第 一气化部；在该第一气化部气化的气体原料的通过路径上所设置的第二气化部，在所述第二气化部，包括在所述通过路径上配置的具有 通气性的过滤部件；在该过滤部件的内部所配置的加热部件。如根据第二观点，通过在过滤部件的内部配置加热部件，能够有 效地加热过滤部件，同时能够降低其表面温度的偏差。为此，能够由 过滤部件捕捉雾或者固形物，将附着的残留雾均匀地气化。结果，又 能够防止过滤部件中局部残留的雾堆积而引起网眼堵塞，又能够防止 产生微粒。这里，在第一和第二观点中，第一气化部能够由例如已有的公知气化器来构成。作为该气化器，能够举出具有下列部件的气化器具 有加热的内面的气化室；向该气化室内喷雾原料的喷雾部件。另外， 第二气化部能够由在气化器的下游侧所连接的线路过滤器等所构成。 而且，作为气化原料的供给构造，也可以将上述第一气化部和第二气 化部同时设置在单一的气化器内。本发明的第三观点是反应处理装置(半导体处理装置)，具有 上述任一个所记载的气化原料的供给构造:使由该供给构造所供给的 气体原料反应的反应室。通过这样，能够降低由气化原料的供给构造 所供给的气体原料中的雾或者固形物等微粒的量，所以能够提高反应 室中的处理品质。作为该反应处理装置，广义地包括通过使用热源等 能量在反应室内使气体原料反应所进行各种处理的装置，例如半导体 气相成膜装置、液晶气相成膜装置、化合物半导体气相成膜装置、气 相蚀刻装置等。特别是，在作为气相成膜装置(CVD装置)的情况下， 具有能够高品质形成薄膜的效果。本发明的第四观点是气化器，具有用于气化原料的气化室；向 该气化室喷雾原料的喷雾部件；在所述气化室开口、用于向原料供给 线路送出气体原料的送出部，其特征在于，具有在所述送出部设置 的、具有通气性的过滤部件；传热部，与所述过滤部件的外缘部以外 的部位热接触，传导加热部件所发生的热量。通过这样，在气化器的送出部内所残留的雾再次气化，而固形物 被捕捉。为此，能够降低供给的气体原料中的雾或者固形物的量。这 里，在过滤部件中，通过传热部向外缘部以外的部位传导加热部件的 热量，所以可降低过滤部件的温度偏差。为此，能够得到更均匀的再气化作用，能够降低过滤部件的局部原料堆积(网眼堵塞)。另外， 由于能够捕捉气化室所发生的雾或者微粒，所以能够进行使用气体原 料的高品质处理。这种情况下，优选，基于所述传热部或者所述过滤部件的温度来 进行温度控制。通过基于接收来自加热部件的热量的传热部或者过滤 部件的温度来进行温度控制，能够提高过滤部件的温度控制性。例如， 能够在传热部或者过滤部件的内部配置温度传感器的温度检测点，基 于该温度传感器的输出，通过温度控制电路等来控制加热部件。另外， 也可以在传热部或者过滤部件上，设置区别于腔室的加热部件。这种 情况下，优选，由该加热部件导致的传热部或者过滤部件的温度被控 制为与腔室相同的温度。而且，优选，设置有与过滤部件的多个部位分别热接触的多个上 述传热部。通过这样，能够进一步提高过滤部件的温度均匀性。优选， 这些多个传热部热接触的过滤部件的部位，在上述送出部的截面(与 从气化室向送出部的方向正交的平面)上基本均匀地分散配置。本发明的第五观点是一种气化器，具有用于气化原料的气化室； 向该气化室喷雾原料的喷雾部件；在所述气化室开口的、用于向原料 供给线路送出气体原料的送出部，其特征在于，具有在所述送出部 设置的具有通气性的过滤部件；在该过滤部件的内部配置的加热部件。在第五观点中，优选，在所述气化室的内部和所述过滤部件之间 配置遮挡板。通过配置遮挡板，从气化室进入送出部的雾难于直接接 触过滤部件。为此，能够降低在气化室中没有气化原样直接通过送出 部的残留雾的量。结果，又能够避免在过滤部件上附着雾，不气化地 堆积，又能够避免从过滤部件夺去较多的热量而降低局部温度。另外，优选，所述过滤部件为通过仅卸下或者分解所述送出部可 装卸的构成。通过这样，即使不分解气化器的其它构成部分、例如喷 雾部件或者气化室整体，也能够通过仅卸下或分解送出部，来或卸下 或安装过滤部件。为此，能够容易地进行过滤部件的清扫或交换等维 护操作。本发明的第六观点是一种气化器，具有用于气化原料的气化室； 向该气化室喷雾原料的喷雾部件；在所述气化室开口的、用于向原料供给线路送出气体原料的送出部，其特征在于，具有遮挡板，在邻 近所述气化室的位置配置为确保流通开口部且覆盖所述送出部；传热部，与该遮挡板热接触，传导加热部件所发生的热量。如根据第六观点，在邻近气化室的位置配置遮挡板，使得覆盖送 出部，由此能够防止在气化室没有气化的残留雾或者微粒直接到达送 出部。为此，能够降低到达原料供给线路的残留雾或微粒。另外，由 于通过传热部将加热部件的热量传导到遮挡板，所以能够通过加热的 遮挡板来实现气化作用。为此，通过利用遮挡板气化残留雾，能够提 高气化效率。而且，通过气化室或者遮挡板气化的气体原料，通过上 述流通开口部导入送出部的内部空间，很快向原料供给线路送出。这种情况下，优选，具有与所述遮挡板的外缘部以外的部位热接 触的所述传热部。通过这样，能够提高遮挡板的温度均匀性。另外， 优选，具有温度控制部件，基于所述传热部或者所述遮挡板的温度来 进行温度控制。本发明的第七观点是气化器，具有用于气化原料的气化室；向 该气化室喷雾原料的喷雾部件；在所述气化室开口的、用于向原料供 给线路送出气体原料的送出部，其特征在于，具有在邻近所述气化 室的位置配置的遮挡板，使得确保流通开口部且覆盖所述送出部；在 该遮挡板的内部配置的加热部件。如根据第七观点，通过在邻近气化室的位置配置遮挡板，使得覆 盖送出部，能够防止在气化室没有气化的残留雾或微粒直接到达送出 部。为此，能够降低到达原料供给线路的残留雾或者微粒。另外，由 于在遮挡板的内部配置加热部件，所以通过加热的遮挡板也能够实现 气化作用。为此，通过利用遮挡板来气化残留雾，能够提高气化效率。 而且，由气化室或者遮挡板气化的气体原料，通过上述流通开口部导 入送出部的内部空间，很快向原料供给线路送出。本发明的第八观点是一种气化器，具有具有用于气化原料的气 化面的气化室；向该气化室喷雾原料的喷雾部件；加热所述气化室的 所述气化面的加热部件；在所述气化室开口的、用于向原料供给线路 送出气体原料的送出部，其特征在于，区别于所述气化面、邻近所述 气化室配置遮挡的遮挡板，使得确保从所述气化室向所述送出部的流通开口部且覆盖所述送出部，所述遮挡板通过所述加热部件或者不同 于所述加热部件的加热部件来加热，所述遮挡板的设定温度与所述气 化面的设定温度相同。如根据第八观点，通过将遮挡板的加热温度设定为与气化面相同 的温度，能够在遮挡板处气化雾。为此，通过遮挡板能够阻止向送出 部流入残留雾或者固形物，提高气化效率。这种情况下，优选，在所述送出部分散配置与所述送出部的内面 和所述遮挡板热接触的多个热传导柱。通过在送出部分散配置与其内 面和遮挡板热接触的多个热传导柱，能够捕捉、气化通过流通开口部 进入送出部的残留雾。为此，能够进一步实现气化效率的提高和微粒 的降低。优选，所述遮挡板构成为，不能从所述气化室通过所述流通开口 部直线状地通过所述送出部。通过这样，能够抑制通过流通开口部进 入送出部的雾或者固形物由此向下游侧流出。特别是，通过与送出部 的内面接触而气化进入送出部的雾，能够进一步提高气化效率。本发明的第九观点是一种气化器，具有用于气化原料的气化室； 向该气化室喷雾原料的喷雾部件；在所述气化室开口的、用于向原料 供给线路送出气体原料的送出部，其特征在于，具有在所述送出部 配置的过滤部件；在邻近所述气化室的位置配置的加热的遮挡板，使 得确保流通开口部且覆盖所述过滤部件。如根据第九观点，在送出部设置过滤部件的同时，在邻近气化室 的位置设置遮挡板，使得覆盖过滤部件。通过这样，能够抑制残留的 雾或者微粒直接到达过滤部件，能够降低过滤部件的网眼堵塞。为此， 能够容易进行维护，同时通过加热的遮挡板来气化残留雾，所以能够 提高气化效率。本发明的第十观点是一种气化器，具有具有用于气化原料的气 化面的气化室；向该气化室喷雾原料的喷雾部件；加热所述气化室的 所述气化面的加热部件；在所述气化室开口的、用于向原料供给线路 送出气体原料的送出部，其特征在于，设有在所述送出部配置的过 滤部件；在所述过滤部件的所述气化室侧配置的、区别于所述气化面 的邻近所述气化室的遮挡的遮挡板，使得确保从所述气化室向所述送出部的流通开口部且覆盖所述过滤部件，所述过滤部件和所述遮挡板 通过所述加热部件或者区别于所述加热部件的加热部件来加热，所述 过滤部件和所述遮挡板的设定温度，与所述气化面的设定温度相同。如根据第十观点，通过将过滤部件和遮挡板的加热温度设定为与 气化面相同的温度，能够在过滤部件和遮挡板处气化雾。为此，能够 通过过滤部件和遮挡板阻止向送出部流入残留雾或者固形物，另外， 能够通过遮挡板限制残留雾向过滤部件的到达量，提高气化效率。优选，所述遮挡板构成为，使得从所述气化室导入所述流通开口 部的假象直线不能到达所述过滤部件。通过这样，能够降低从气化室 通过流通开口部进入送出部的残留雾直接通过过滤部件。为此，能够 进一步降低过滤器的网眼堵塞，特别是，能够抑制在过滤器的一部分 上集中堆积物这样的现象。优选，在所述过滤部件和所述遮挡板之间，遍及所述过滤部件的 整个表面设置可通过气体原料的间隔。通过这样，由于从流通开口部 进入送出部的气体原料能够通过过滤部件的整个面，所以能够确保气 体原料的传输。同时，在过滤部件的一部分集中捕捉雾或固形物，在 该一部分，能够降低引起过滤部件网眼堵塞的可能性。这种情况下，优选，过滤部件和遮挡板间的间隔是1 100mm的范围内，特别是， 更优选是l 10mm的范围内，最优选是约5mm。优选，配置所述遮挡板，使得从所述气化室侧来看，覆盖所述过 滤部件的整个面。通过这样，防止了从气化室进入的雾或者固形物直 接面对过滤部件。特别是，更优选遮挡板构成为，在与过滤部件的外 缘相比遍及全周向外周侧进一步伸出。优选，所述过滤部件的外缘部固定在所述送出部的内面。优选，所述流通开口部设置为，遍及所述遮挡板的周围的全周， 与所述气化室和所述过滤部件连通。通过这样，能够将气体原料从流 通开口部向过滤部件顺利地流通气体原料，同时，由过滤部件导致的 雾或者固形物的捕捉位置的偏向也能够降低。这里，优选，上迷间隙 是在从0.5mm到100mm的范围内，特别是，更优选是在10mm以下， 最优选是大约2mm左右。优选，所述流通开口部设置在所述遮挡板的周围。通过这样，能够将遮挡板构成为简单的构造，同时，遮挡板或者流通开口部附近的 清扫等维护变得容易。这种情况下，优选，流通开口部的开口宽度(遮挡板和处于其外周侧的送出部的内面的距离)是0.5mm以上10mm以 下，特别是，更优选的是lmm以上，最优选是大约2mm左右。另外，从气化室到送出部的气体原料的流路，包括由上述连通 开口部的开口宽度所规定的第一流路部；由与该第一流路部连通的过 滤部件和遮挡板的间隔所规定的第二流路部。这种情况下，优选，构 成为，从第一流路部进入的雾或者固形物不能直线进入到达第二流路 部。另外，在过滤部件的外缘部固定的情况下，上述气体原料的流路 包括由遮挡板和过滤部件的外缘部的间隙所规定的第三流路部，该第 三流路部配设为，与第一流路部和第二流路部连通。这种情况下，优 选，构成为，通过形成第三流路部，从第一流路部进入的雾或者固形 物不能直线进入到达第二流路部。优选，所述过滤部件是在气体原料的流路方向设置多个贯通的细 孔的板状材料。通过以这样简单的板状材料来构成过滤部件，能够在 过滤部件中容易地收容配置加热部件。另外，由于也能够提高过滤部 件本身的热传导性，所以也容易提高过滤部件的温度分布的均匀性。 优选，该细孔是贯通距离比开口径大的形状，例如，具有0.1 1.0mm 左右的直径、5 15mm范围内的贯通距离，用于确保残留雾的捕捉率。本发明的第十一观点是反应处理装置，具有上述任何一个所述 的气化器；使从该气化器供给的气体原料反应的反应室。通过这样， 由于能够降低从气化器供给的气体原料中的雾或者微粒的量，所以能 够提高反应室中的处理品质。作为该反应处理装置，是通过在反应室 中以施加热能等的任意形式来使气体原料反应，并进行种种处理的装 置，广义地包括例如半导体气相成膜装置、液晶气相成膜装置、化合 物半导体气相成膜装置、气相蚀刻装置等半导体处理装置。特别是， 在气相成膜装置(CVD装置)的情况下是有效的。


图1是表示本发明的实施方式1的气化器构造的概略截面图。 图2A是表示实施方式1的气化器的送出部的构造的概略内都侧面13图，图2B、 C、 D是表示实施方式l的变更例的内部侧面图。图3A、 B是表示本发明的实施方式2的气化器的主要部分的概略内部侧面图和概略纵截面图。图4A、 B是表示本发明的实施方式3的气化器的主要部分的概略内部侧面图和概略纵截面图。图5A、 B是表示本发明的实施方式4的气化器的主要部分的概略内部侧面图和概略纵截面图，图5C是表示加热部件的变更例的概略截 面图。图6A、 B是表示本发明的实施方式5的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图7A、 B是表示本发明的实施方式6的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图8A、 B是表示本发明的实施方式7的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图9A、 B是表示本发明的实施方式8的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图IOA、 B是表示本发明的实施方式9的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图IIA、 B是表示本发明的实施方式10的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图12A、 B是表示本发明的实施方式11的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图13A、 B是表示本发明的实施方式12的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图14A、 B是表示本发明的实施方式13的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图15是表示本发明的实施方式14的气化器的概略纵截面图。图16是表示沿着图15的A—A线的实施方式14的气化器的横截 面图。图17A、 B是表示本发明的实施方式15和实施方式16的气化器 的概略纵截面图。图18A、 B是表示本发明的实施方式17和实施方式18的气化器的概略纵截面图。图19是表示本发明的实施方式19的气化器的概略纵截面图。 图20A、 B是表示喷雾部件的变更例的概略正面图和概略侧面图。 图20C、 D是表示喷雾部件的其它变更例的概略正面图和概略侧面图。图21是表示本发明的实施方式的反应处理装置(半导体处理装置) 的概略构成图。图22是表示原料供给部的内部构成的概略构成图。图23是表示本发明的其它实施方式的反应处理装置(半导体处理 装置)的概略构成图。图24是表示实施方式2的气化器和已有的气化器进行比较的气化 室的内压随时间变化的曲线图。
具体实施方式
下面，参照附图来说明本发明的实施方式。而且，在下面的说明 中，对于具有大致相同功能和构成的构成元件，赋予相同的符号，仅 在必要的情况下进行重复说明。<实施方式1>图1是表示本发明的实施方式1的气化器的构造的概略截面图。 该气化器100具有相当于第一气化部的气化面110B和构成气化空间 110A的气化室110。为了向气化空间110A喷雾液体原料，配设喷雾 部件120。相当于第二气化部的送出部130相对于气化室IIO可装卸地 安装。为了检测气化空间IIOA的内压，配设安装了压力表(绝对压真 空计未图示)的检测用配管139。在与配管139连通的气化室110 的开口部，安装过滤部件139x。过滤部件139x防止雾或固形物进入到 压力表。过滤部件139x通过安装部件139y相对开口边缘密接固定。气化室IIO具有框体壁111和在框体壁111内设置的加热^等加 热部件112。框体壁111具有安装了喷雾部件120的开口部llla。喷 雾部件120具有原料供给管121,其供给有机金属原料或者在溶剂中溶 解了有机金属原料的原料等液体原料。喷雾部件120还具有供给氩气等喷雾用气体(例如Ar、 Ne、 N2)的喷雾用气体供给管122;.将上 述原料喷雾成雾状的喷雾喷嘴123。喷雾喷嘴123从各个细孔喷出原料 (液体，例如有机金属材料)和喷雾用气体，由此雾状喷出。送出部130是将在气化空间IIOA气化的气体原料向供给线路141 送出的部分。送出部130具有侧壁131，在侧壁131的气化空间110A 侧凹部状地形成内部空间130A。在内部空间130A内配设凸部状突出 的柱状的传热部。在侧壁131内部(收容孔131a，参照图2)配置加 热器等加热部件132。送出部130的内部空间130A与上述气化空间 110A和供给线路141连通。而且，如果送出部130是面对气化空间111A 的位置，也可以配置在气化空间IIOA的任何一侧。在内部空间130A中，配置过滤部件133，使得覆盖向着供给线路 141的送出口 (气体出口) 131SO。作为过滤部件133，能够使用由具 有通气性的过滤板构成的过滤部件。例如，能够举出多孔材料、具有 多个细孔的过滤板、压固纤维的材料、网眼(网孔)材料等所构成的 过滤部件。更具体地说，能够使用将耐高温(例如，18(TC 35(TC左 右，但根据原料的气化温度或者分解温度来适当设定)的金属纤维(例 如不锈钢纤维)固定成无纺布状或者烧结状的过滤材料。例如，上述 金属纤维的直径是0.1 3.0mm左右。特别是，优选，使用热传导性高 的、烧结球状及其它粒状材料构成的烧结材料。作为粒状材料的构成 材料，能够举出陶瓷、石英等非金属材料或者不锈钢、铝、钛、镍等 非铁金属材料和它们的合金材料等。而且，关于过滤部件的构造和材 料的上述方式的范围，在下面所述的全部实施方式中是通用的。图2A是表示从气化空间IIOA侧看上述送出部130的情形的内部 侧面图。过滤部件133的外缘部与周围的侧壁131接触且连接固定， 使得完全覆盖上述内部空间130A的流通截面。更具体地说，过滤部件 133的外缘部通过固定螺钉138等固定到侧壁131上。在过滤部件133 的上述外缘部以外的部位，配设从侧壁131向内侧突出的传热部135、 137。更具体地说，过滤部件133通过传热部135、 137与侧壁i31热 接触。即，传热部135、 137也具有作为支持过滤部件133的支持部件 的功能。传热部135、 137由热传导性好的金属(例如不锈钢等)构成。 传热部135的横截面构成为椭圆形的柱状，传热部137的横截面构成16为圆形的柱状。这些传热部135、 137在图所示的例子中由在侧壁131 内配置的加热器等加热部件来加热。但是，传热部也可以由加热部件 本身构成，另外，在传热部的内部埋入加热部件也没有关系。在过滤部件133的气化空间110A侧配置遮挡板134。遮挡板134 由例如不锈钢等热传导性金属材料所构成。遮挡板134与气化空间 110A面对，使得从喷雾喷嘴123喷雾的原料雾等不直接附着到过滤部 件133上。通过这样，能够抑制过滤部件133的温度降低，将附着的 雾确实地气化，所以可降低过滤部件133的网眼堵塞。这里，配置遮 挡板134使得基本平面地覆盖过滤部件133。在遮挡板134和过滤部件 133之间，遍及过滤部件133的整个面，形成使气化的原料扩散通过的 空间部(或者气体通路部)B0D。空间部130D通过由传热部135、 137 来加热遮挡板134和过滤部件133，来进行加热。在遮挡板134的周围设置流通开口部134b，通过流通开口部134b， 连通气化空间IIOA和内部空间130A，气化的气体原料可高效地送出。 另外，在遮挡板134上，在喷雾喷嘴123侧形成开口部134a。通过开 口部134a加大上述间隙的开口面积，所以，从气化空间110A向配置 有过滤部件133的内部空间130A容易流动气体原料。由于形成开口部 134a，喷雾喷嘴123的喷射角度范围实质上被限定，所以在喷雾喷嘴 123侦lj，从喷雾喷嘴123喷雾的雾难于直接到达送出部130。图2B、 C、 D是表示遮挡板的变更例的内部侧面图。在图2B所示 的遮挡板134'中，在与过滤部件133重合的位置，沿外周连续地、或 者在整个外周地形成开口部134a，。在图2C所示的遮挡板134"中， 沿着外周离散地形成多个开口部134a"，使得与过滤部件133的外周部 对应。而且，在遮挡板上所形成的开口部可以是缝隙状(也包含同心 圆状的情况)。在图2D所示的遮挡板134X中，在其本身不形成开口部，因此遮 挡板134X覆盖过滤部件133的整体。这种情况下，通过遮挡板周围的 流通开口部134b(参照图1和图2A)，气化空间IIOA和内部空间130A 可充分连通。而且，如图2D所示那样，如果遮挡板134X覆盖过滤部 件133的整体，就具有原料的残留雾难于直接附着到过滤部件133上 的优点。遮挡板134与上述过滤部件133 —起通过衬垫136固定到传热部 135上。衬垫136由传热性好的部件、例如Al或者不锈钢等金属、陶 瓷等构成。而且，固定螺钉136a是固定部件，将遮挡板134和衬垫136 固定到传热部135上。也可以使用与此相同的固定部件，用于将过滤 部件133固定到传热部137上。过滤部件133和遮挡板134通过传热 部135和衬垫136，接收从热接触的加热部件132放出的热量，同时， 接收来自邻近气化空间110A的气化室110的框体壁111的内面的辐射 热，由此加热。在该实施方式中，从原料供给管121供给的原料通过喷雾喷嘴123 向气化空间110A喷雾。这里，喷雾的原料的雾， 一部分在飞行中气化， 同时，另一部分通过到达由加热部件112加热的框体壁111的内面， 被加热、气化。为了气化原料，气化室110，特别是框体壁111的内面， 通过加热部件112加热到比原料的分解温度低、比原料的气化温度高 的温度范围。该温度例如是100 35(TC左右。这样，在气化空间IIOA生成的气体原料，从遮挡板134的周围通 过过滤部件133，导入到内部空间130A。在导入到内部空间130A中 的气体原料中，包含在气化空间IIOA中没有气化的细微的残留雾。这 些残留雾，到达过滤部件133，被捕捉，这里利用从加热部件132通过 传热部135、 137传导到过滤部件133的热量来加热，再次气化。优选， 过滤部件133也加热到与上述气化室实质相同的温度范围。而且，优选，上述传热部135、 137在气体原料的流路截面上遍及 过滤部件133的整体基本均匀地分散配置。通过这样，能够更均匀地 加热过滤部件133，能够提高残留雾的气化效率，另外，能够进一步降 低过滤部件的丝网堵塞。在图示的例子中，过滤部件的外缘部与送出部的内面接触(连接 固定)，由此该外缘部也从该内面接收热量而加热。而且，也可以通 过在上述传热部设置加热部件来加热过滤部件。遮挡板134防止从喷雾喷嘴123喷雾的雾直接到达过滤部件133。 为此，防止了这种情况过滤部件133由大量的雾夺去热量，结果导 致气化附着雾的能力在规定位置部分地降低。因此，防止了由于在该 位置引起网眼堵塞，而导致气体原料的送出量降低或者气化室内的压力上升。在上述实施方式中，送出部130构成为，通过从框体壁lll上卸 下侧壁131，能够简单地卸下过滤部件133。因此，在过滤部件133中 发生网眼堵塞等问题时，能够非常容易且迅速地卸下、清扫过滤部件 133，或者交换新的过滤部件。为此，可縮短维护时间，提高装置的实 际作业率，也提高了生产率。在本实施方式中，通过传热部135、 137向遮挡板134传导热量， 也加热遮挡板134。为此，如果气化室110A内的原料雾直接接触遮挡 板134，也在遮挡板134的表面气化雾。但是，如果在遮挡板134上接 触气化雾，由于被夺去气化热量，遮挡板134的温度降低。遮挡板134 的温度降低量与喷雾的液体原料的量相对应，也随着与遮挡板134接 触的雾量变化而变化。通常，遮挡板134的温度相对气化室110的设 定温度要低5 15。C左右。上述过滤部件133也可以配置在相对遮挡板134而位于接近送出 侧的位置。例如，通常，过滤部件133和遮挡板134的间隔130D是l 100mm的范围内，特别是，优选是1 50mm的范围内，更优选的是2 10mm的范围内。典型的，最优选上述距离是约5mm左右。如果上述 距离比上述范围小，气体原料的传输性降低，另外，残留雾对过滤部 件133的实际附着范围也变窄。这种情况下，具有在过滤部件133的 一部分上集中堆积固形物的担心。另外，如果上述距离变大，就提高 了气体原料的传导性，过滤部件133的局部的固形物附着也得到缓和， 但会导致气化器的大型化。优选，作为遮挡板134的外缘和在其外周侧配置的侧壁131之间 的间隔的上述流通开口部134b的开口宽度，在确保气体原料的传导性 的基础上，是0.5mm以上10mm以下，lmm以上更优选。但是，如果 加大上述开口宽度，雾直接到达过滤部件133的危险性就增大，所以 最优选是大约2mm左右。此夕卜，优选遮挡板134的外缘和在其内部空间130A侧配置的过滤 部件133之间的间隙(内部空间130A的流路宽度)是0.5mm 100mm 的范围内，另夕卜，更优选是在0.5mm 10mm的范围内。此外，最优选 该间隔是大约2mm左右。如果该间隔变小，气体原料的传导性降低。相反，如果间隔变大，从流通开口部130B进入的雾容易直接到达过滤 部件133。从气化室IIOA到送出部130的气体原料流路包括由上述连通开 口部134b的开口宽度所规定的第一流路部；与该第一流路部连通的由 过滤部件133和遮挡板134的间隔所规定的第二流路部。这种情况下， 优选，构成为，从第一流路部进入的雾或者固形物不能直线进入到达 第二流路部。在固定过滤部件133的外缘部的情况下，上述气体原料 的流路包括由遮挡板134和过滤部件133的间隔所规定的第三流路部， 该第三流路部配设为，使得与第一流路部和第二流路部连通。这种情 况下，优选，构成为，通过形成第三流路部，从第一流路部进入的雾 或者固形物不能直线进入到达第二流路部。<实施方式2>图3A、 B是表示本发明的实施方式2的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图3A、 B是表示使用送出部150来代替 图1所示的气化器的送出部130的图，其它部分与实施方式1相同。在本实施方式中，送出部150具有侧壁151，在侧壁151的气化空 间侧凹状地形成内部空间150A。在空间150A的内部凸部状地配设从 侧壁151突出的传热部155、 157。在该侧壁的内部(收容孔151a)配 置与上述同样的加热部件152。内部空间150A与送出路径150S连通。 在内部空间150A中配置与上述同样的过滤部件153。过滤部件153与 在侧壁151的内面设置的与实施方式1相同的突起状的传热部155、157 热接触。传热部155是具有椭圆形状等延长的截面形状的柱状部。传 热部157是具有圆形的截面形状的柱状部。该柱状部可以是与过滤部 件153或者遮挡板154面接触、容易传热那样的形状。例如，柱状部 的形状能够是菱形、三角形、星形、长方形、圆形。过滤部件153的 外缘部通过固定螺钉158等固定到侧壁151上。设定传热部155、 157 的个数和配置，使得相对过滤部件153能够均匀地传导热量。在传热部155、 157上，通过衬垫156，利用固定螺钉156a安装固 定遮挡板154。在遮挡板154和过滤部件153之间，遍及过滤部件153 的整个面形成空间部150D。遮挡板154配置在送出部150的邻近气化 室的位置。遮挡板154具有圆形的平面形状。遮挡板154构成为，使得整个表面地覆盖过滤部件153，在遮挡板154的外缘和其周围的侧壁 151之间所设置的圆周状的间隙，成为流通开口部150B。这样，构成 遮挡板154，使得整体平面地覆盖过滤部件153，由此可抑制雾状原料 直接进入过滤部件153，引起网眼堵塞或者堆积物的局部集中。通过这 样，能够抑制气化室的压力上升，同时延长过滤器寿命，且防止了残 留雾或者微粒向下游侧送出。以上说明的各个部分基本构成为与上述实施方式1相同。因此， 过滤部件153构成为，不仅在其外缘部直接从侧壁151接收加热部件 152的热量，而且通过与外缘部以外的部分热接触的传热部155、 157 来接收加热部件152的热量。遮挡板154通过衬垫156，由过滤部件 153和传热部155、 157来加热。在本实施方式中，构成为，在气化室气化的气体原料通过流通开 口部150B，导入送出部150的内部空间150A内，通过过滤部件153 后，从送出路径150S向供给线路送出。这里，上述流通开口部150B构成为，在形成从气化室侧进入流通 开口部150B的任意假想直线时，任意的假想直线不能到达过滤部件 153。 g卩，构成为，即使气化室内残留的雾利用任一直线状飞行路径进 入送出部150，该残留的雾也不直接附着到过滤部件153上。另外，构 成为，雾状原料不直接到达过滤部件153。具体地说，设定流通开口部 150B的直径方向的开口宽度，使得通过流通开口部150B的直线状飞 行路径不能到达过滤部件153的过滤器部分。而且，送出部150的各个部分的参数与实施方式1相同。例如， 流通开口部150B的半径方向的开口宽度是2mm，遮挡板154和过滤 部件153的外缘部的轴线方向的间隔是2mm，遮挡板154和过滤部件 153的过滤部分的轴线方向的间隔是5mm，过滤部件153的外缘部的 半径方向的宽度是4mm，遮挡板154的外缘位置和过滤部件153的实 质外缘位置(即过滤部分的外缘位置)之间的半径方向的距离是2mm。 通过这样，能够降低过滤部件153上的堆积物的量，能够抑制网眼堵 塞或者堆积物的集中。特别是，也能够抑制在过滤部件153的外周部 分集中附着堆积物的现象。在本实施方式中，在具有延长的平面形状的传热部155的内部，配置导入在侧壁151上设置的孔151b的温度传感器(例如热电偶)159 的检测点。通过这样，能够检测传热部155的温度，即与过滤部件153 的温度非常接近的温度。而且，温度传感器159的输出与温度控制电 路CONT等连接，该温度控制电路CONT构成为，基于温度传感器159 的输出来控制加热部件152。优选，该温度控制是这样的，基于温度传 感器159的输出，控制为与气化器的其它加热部件(加热气化室的部 件)相同的温度。而且，也可以构成为，与相对气化室的其它加热部 件112独立地控制，使得传热部155、过滤部件153、框体壁lll的温 度变为相同的温度。通过这样的构成，能够精密地控制过滤部件153 或者遮挡板154的温度。为此，能够降低过滤部件153的网眼堵塞， 可抑制气化室的压力上升。另外，降低残留物或者微粒成为可能。在本实施方式中，检测传热部155的温度，即过滤部件153或者 遮挡板154的温度，来控制加热部件152，所以与实施方式1相比，可 提高遮挡板154的温度控制性。因此，与实施方式1的情况相比，能 够降低遮挡板154的温度下降。这种情况下，优选，加热部件152的 设定温度为与相对气化室的设定温度相同。上述过滤部件153也可以配置在遮挡板154的送出路径150S侧的 附近位置。例如，通常情况下，过滤部件153和遮挡板154的间隔是l 100mm的范围内，特别是，优选，是l 50mm的范围内，更优选的， 是2 10mm的范围内。典型的，最优选上述距离是5mm左右。如果 上述距离比上述范围还小，气体原料的传导性降低，另外，残留雾相 对过滤部件153的实际附着范围也变窄。这种情况下，具有固形物集 中堆积到过滤部件153的一部分上的担心。另外，如果上述距离变大， 就提高了气体原料的传导性，过滤部件153的局部固形物附着也得到 缓和，但会导致气化器的大型化。而且，以上方面在下面所说明的各 个实施方式中也是相同的。优选，作为遮挡板154的外缘和在其外周侧配置的侧壁151的间 隔的上述流通开口部150B的开口宽度，在确保气体原料的传导性的基 础上，是0.5mm以上10mm以下，更优选的是lmm以上。但是，如 果上述开口宽度变大，雾直接到达过滤部件153的危险性增大，所以， 最优选是大约2mm左右。而且，这一点在下面所说明的各个实施方式22中也是相同的。此外，优选，遮挡板154的外缘和在该内部空间150A侧配置的过 滤部件153的外缘部的间隙(内部空间150A的流路宽度)是0.5mm 100mm的范围内，另外，更优选的，是0.5mm 10mm的范围内。此 外，最优选该间隔是大约2mm左右。如果该间隔变小，气体原料的传 导性降低，相反，如果间隔变大，从流通开口部150B进入的雾容易直 接到达过滤部件153。而且，这一点在下面所说明的各个实施方式中也 相同。从气化室到送出部150的气体原料的流路，包括由上述连通开 口部150B的开口宽度所规定的第一流路部；与该第一流路部连通的由 过滤部件153和遮挡板154的间隔所规定的第二流路部(空间部150D)。 这种情况下，优选，构成为，从第一流路部进入的雾或者固形物不能 直线进入到达第二流路部。在过滤部件153的外缘部固定的情况下， 上述气体原料的流路包括由遮挡板154和过滤部件153的外缘部的间 隙所规定的第三流路部，配置该第三流路部，使得连通第一流路部和 第二流路部。这种情况下，优选，构成为，通过配设第三流路部，从 第一流路部进入的雾或者固形物不能直线进入到达第二流路部。而且， 这一点在下面说明的各个实施方式中也是相同的。<实施方式3>图4A、 B是表示本发明的实施方式3的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图4A、 B是表示使用送出部150'来代 替图1所示的气化器的送出部130的图，其它部分与实施方式1相同。 对于该送出部150'中与实施方式2相同的部分赋予相同的符号来表 示。在该实施方式中，在侧壁151'上与使其内部空间150A向反应处 理装置的供给线路所连通的送出路径150S独立地，形成使内部空间 150A与外部(例如反应处理装置的排气线路)连通的排气路径150C。 该排气路径150C从喷嘴看，在最远离开的位置，即在图示下端形成。 排出路径150C与不经过后述的反应处理装置的反应处理部而排气的 旁通线路(排气线路(evacuation line))等排出线路连接。排出路径 150C用于不将气体原料导入反应处理部而排气，直到气体原料的供给状态稳定。在本实施方式中，在对应上述排出路径150C的平面位置，在过滤 部件153'上形成开口部153a，。开口部153'的开口边缘部作为过滤 部件153'的外缘部的一部分而设置，通过固定过滤部件153'的固定 螺钉158'等没有间隙地与排出路径150C连接。在本实施方式中，避开遮挡板154通过流通开口部150B侵入内部 空间150A的气体原料，在与排出路径150C所连接的排出线路中所设 置的阀V2打开的状态，通过上述开口部153a，和排出路径150C直接 排出。此时，与送出路径150S连接的供给线路的阀V1闭锁。因此， 不送到反应处理部的气体原料不通过过滤部件153'，所以能够延长过 滤部件153'的寿命。而且，在向供给线路流动气体原料的情况下，闭锁与排出路径150C 连接的排出线路的阀V2，打开供给线路的阀VI。通过这样，至此使 得从排出路径150C排出的气体原料通过过滤器153'，从送出路径150S 导向供给线路。<实施方式4>图5A、 B是表示本发明的实施方式4的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图5A、 B是表示使用送出部150〃来代 替图1所示的气化器的送出部130的图，其它部分与实施方式1相同。 对于该送出部150"中与实施方式2相同的部分赋予相同的符号来表不o在该实施方式中，在传热部157"与加热部件152〃的前端结合的 状态，插入侧壁151〃的内部(收容孔151a〃 )。传热部157"向内部 空间150A内部突出，与上述各实施方式相同地与过滤部件153和遮挡 板154热接触。加热部件152〃是例如杆状的加热器，构成为，直接与 传热部157"结合，由此能够通过传热部157"有效地进行过滤部件 153和遮挡板154的加热。在本实施方式中也与上述各个实施方式同样地配设具有延长的平 面形状的传热部155〃 。其一部分为这样的状态，上述传热部157〃的 一个从侧壁151〃插入，向内部空间150A突出。即，传热部155〃以 包括传热部157"的一个的形式来构成。24在本实施方式中，在传热部157〃的前端形成螺钉孔。在传热部 157〃的前端顺序重叠过滤部件153、衬垫156和遮挡板154。在这种 状态，通过将固定螺钉156a旋入上述螺钉孔，可将过滤部件153和遮 挡板154固定到传热部157〃上。图5C是表示上述加热部件152〃和与此连接的部件的变更例的 图。图5C所示的加热部件152S〃 ，将螺栓埋入杆状的加热器的前端 部。代替上述衬垫156，准备与上述螺栓螺合的螺母152T"，另外， 准备与螺母152T〃螺合的固定螺钉152U〃 。在加热部件152S〃和螺 母152T〃之间配置过滤部件153，另外，在螺母152T〃和固定螺钉 152U〃之间配置遮挡板154。在该状态下，通过螺母152T"来固定加 热部件152S"和固定螺钉152U〃 。这样，在本实施方式中，能够由加热部件152〃的一部分来构成传 热部157。通过这样，能够更有效地加热过滤部件153或者遮挡板154。 因此，能够进一步减少遮挡板154的温度降低的情况。这种情况下， 优选，加热部件152"的设定温度与对气化室的设定温度相同。<实施方式5>图6A、 B是表示本发明的实施方式5的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图6A、 B是表示使用送出部160来代替 图1所示的气化器的送出部130的图，其它部分与实施方式1相同。送出部160具有侧壁161、在侧壁161的内部(收容孔161a)所 配置的加热部件162。在侧壁161上，从内侧(气化室侧)密合固定遮 挡板164。内部空间160A在侧壁161和遮挡板164之间形成，与送出 路径160S连通。在内部空间160A，通过固定螺钉168等固定过滤部 件163的外缘部。在过滤部件163的外缘部以外的部位，热接触在侧 壁161的内面上突出设置的多个传热部165、 167。在过滤部件163和 遮挡板164之间，通过衬垫166，利用固定螺钉166a来固定传热部165、 166，过滤部件163和遮挡板164。在过滤部件163和遮挡板164之间， 遍及过滤部件163的整个面来形成空间部160D。而且，在过滤部件163 和遮挡板164之间，形成通过气化的气体的空间，通过该空间的气体 在通过过滤器163后，向送出路径160S流动。而且，传热部165具有延长的平面形状，在传热部165的内部，配置与上述各实施方式相同的温度传感器169的温度检测点。在遮挡板164上，形成多个平面形状构成切口状的流通开口部 164A。这些流通开口部164A具有在遮挡板164的厚度方向曲折(典型曲折的弯曲)的形状，构成为，从气化室侧进入的残留雾不直接到 达过滤部件163。 S卩，流通开口部164A构成为，从气化室侧进入流通 开口部164A的全部假想直线不能原样地到达过滤部件163。通过这样， 构成为，残留雾基本上至少与遮挡板164接触一次，以进入到内部空 间160A内。为此，能够确保气体原料的流通，也能够促进由遮挡板导 致的残留雾的气化作用，能够降低过滤部件163的网眼堵塞或者堆积 物的集中。上述流通开口部164A也可以在遮挡板164的平面内平行地 形成多个，也可以同心圆状地形成多个。象上述那样，能够在遮挡板上形成流通开口部。而且，上述流通 开口部可构成为，不存在从气化室侧通过流通开口部直接到达过滤部 件的假想直线。因此，即使不是上述那样的曲折孔形状，只要流通开 口部的相对遮挡板的贯通方向不向着过滤部件，即向着从过滤部件向 外的方位，就能够得到与上面同样的效果。<实施方式6>图7A、 B是表示本发明的实施方式6的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图7A、 B是表示使用送出部160'来代 替图1所示的气化器的送出部130的图，其它部分与实施方式i相同。 对于送出部150'中与实施方式5相同的部分赋予相同的符号来表示。在该实施方式中，在遮挡板164'上形成流通开口部164A'。流 通开口部164A'形成在从平面看与过滤部件163重合的区域向外的区 域，即与过滤部件163相比向外周侧偏离的位置。通过这样，构成为， 从气化室侧进入流通开口部164A'的全部假想直线不能到达过滤部件 163。在图示的例子中，流通开口部164A'具有圆弧状的切口形状。 而且，也可以将多个流通开口部164A'等间隔地形成同心圆状。在形 成多个流通开口部164A'的情况下，也可锯齿状(交错的)形成。而 且构成为，基于温度传感器169的输出来控制加热部件162，能够控制 遮挡板164'的温度，这一点与前面的实施方式相同。在本实施方式中，向遮挡板164'的内部插入由线状加热器等构成的加热部件164H'，直接加热遮挡板164'。加热部件164H'蛇行状 地插入遮挡板164'。在图示的例子中，也可以将加热部件164H'从 外部向遮挡板164'导入，但也可以将加热部件164H'埋入遮挡板164 '中。也可以将线状的加热部件164H'配设为格子状或者螺旋状。此 外，也可以将多个加热部件164H'导入遮挡板164'中。在遮挡板164'的内部，也配置温度传感器164TC'的温度检测 点。通过温度控制电路CONT，基于温度传感器164TC'的检测温度， 控制加热部件164H'，对遮挡板164'进行直接、独立的温度控制。 通过这样，能够将遮挡板164'的温度精密地设定成合适温度，所以能 够稳定由遮挡板164'导致的雾的气化状态。这种情况下，优选，加热 部件164H'的设定温度与对气化室的设定温度相同。象上述那样，通过在遮挡板的内部配置加热部件，可改善遮挡板 的温度控制性。为此，能够更有效地进行原料的气化，能够实现残留 雾或者微粒的降低。<实施方式7>图8A、 B是表示本发明的实施方式7的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图8A、 B是表示能够代替图1所示的气 化器的送出部130所使用的送出部150X的图，其它部分与实施方式1 相同。对送出部150X中与实施方式2相同的部分赋予相同的符号来表 示。在该实施方式中，具有与实施方式2相同的基本构造，但不同之 处在于，更多地设置与实施方式2相同的由传热部155、 157、衬垫156 和固定螺钉156a所构成的热传导柱，它们分散配置在内部空间150A 内。这些热传导柱与实施方式2相同，与过滤部件153X和遮挡板154X 热接触。热传导柱为与侧壁151X的内面和遮挡板154X同时热接触的 状态。在本实施方式中，在送出部分散配置多个上述热传导柱，由此， 从气化室通过流通开口部150B与气体原料同时进入的残留雾容易与 热传导柱接触。残留雾通过热传导柱加热，气化，变为气体原料，所 以能够提高气化效率。<实施方式8>图9A、 B是表示本发明的实施方式8的气化器的主要部分的概略 内部侧面图和概略纵截面图。图9A、 B是表示能够代替图1所示的气 化器的送出部130所使用的送出部150Y的图，其它部分与实施方式1 相同。对送出部150Y中与实施方式2相同的部分赋予相同的符号来表 示。在本实施方式中，在侧壁151Y上形成多个柱状的传热部157Y, 通过固定螺钉156a将遮挡板154Y固定到传热部157Y上。在该实施 方式中，不设置过滤部件，取而代之，由多个传热部157Y所构成的热 传导柱分散配置在侧壁151Y的内面和遮挡板154Y之间。在本实施方 式中，热传导柱具有与过滤器相同的功能，构成为使得从流通开口部 150B进入内部空间150A的残留雾和微粒被捕捉、再次气化。艮口，配设遮挡板154Y,使得覆盖向送出路径150S的送出口 (气 体出口) 150SO，在遮挡板154Y和送出路径150S之间，形成连接气 化室110 (参照图1)和送出口 150SO的气体通路部(进一步还气化原 料)。在该气体通路部，传热部157Y的热传导柱具有作为流体挡板的 功能，它代替过滤器的功能。而且，除了该构成外，还能够配设过滤 部件。在该实施方式中，传热部157Y以从流通开口部150B进入的残留 雾不直接向送出路径150S流出的形式来排列。即传热部157Y构成为， 使得从流通开口部150B进入内部空间150A的全部假想直线到达传热 部157Y。特别是，相对原料气体的流动方向大致正交地排列多个传热 部157Y，使得从内部空间150A内的流通开口部150B侧的外周部向着 送出路径150S侧的内周部，不能引出不通过传热部157Y的假想直线。 例如，传热部157Y配置成锯齿状。<实施方式9>图IOA、 B是表示本发明的实施方式9的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图IOA、 B是表示能够代替图1所示 的气化器的送出部130来使用的送出部150Z的图，其它部分与实施方 式1相同。对于送出部150Z中与实施方式2相同的部分赋予相同的符 号来表示。在该实施方式中，在侧壁151Z上从内侧(气化室侧)安装固定传具有与侧壁151Z直接热接触的外框部；从 该外框部向内侧伸出的多个梁部157Za。过滤部件153Z的外缘部相对 外框部固定。过滤部件153Z的外缘部以外的部位与多个梁部157Za热 接触。遮挡板154Z通过衬垫156利用固定螺钉156a固定到过滤部件 153Z上。在本实施方式中，通过梁部157Za、衬垫156和固定螺钉156a， 过滤部件153Z和遮挡板154Z在外缘部以外的部位相互连接固定。在上述侧壁151Z的内面和梁部157Za之间设置间隙。通过这样， 构成为，使得通过流通开口部150B向内部空间150A导入的气体原料 在通过过滤部件153Z之后，梁部157Za不妨碍地向供给线路送出。在上述传热框157Z的内部导入加热部件157H，加热部件157H通 过梁部157Za的内部。在图示的例子中，线状的加热部件157H构成为， 使得顺序蛇行状通过多个梁部157Za。不言而喻，也可以构成为，使得 多个加热部件157H分别插入各个梁部157Za，也可以在各梁部157Za 的内部内置各个加热部件。在传热框157Z的内部，特别是梁部157Za的内部，配置温度传感 器157TC的温度检测点。而且，温度控制电路CONT基于温度传感器 157TC的检测温度，控制上述加热部件157H的发热量。通过这样，区 别于侧壁151Z，能够独立进行传热框157Z的温度控制。这样，通过 温度传感器157TC能够检测传热部157Za的温度，控制加热部件157H， 所以可提高遮挡板154Z的温度控制性。因此，能够减少遮挡板154Z 的温度降低的情况。这种情况下，优选，加热部件157H的设定温度与 相对气化室的设定温度相同。而且，在该实施方式中，上述梁部157Za也可以由杆状加热器等 加热部件构成。也可以构成为，在传热框157的外框部内配置加热部 件。象上面那样，也可以将传热部构成为梁状，另外，也可以在该传 热部的内部配置加热部件，此外，也可以将传热部本身作为加热部件。 <实施方式10>图IIA、 B是表示本发明的实施方式10的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图UA、 B是表示能够代替图1所示 的气化器的送出部130来使用的送出部170的图，其它部分与实施方29式1相同。该送出部170具有这样的构造，在侧壁171的内侧，从内侧嵌合 固定具有加热功能的板部件172。板部件172的内端面172a邻近气化 室，具有与上述遮挡板同样的功能。而且，在内端面172a和其周围的 侧壁171之间所设置的间隙成为流通开口部170B。在板部件172上， 在处于其内端面172a的相反侧的、与侧壁171相对的部分上排列多个 柱状的传热部172p。这些传热部172p与侧壁171的内面热接触。在板部件172的内部，配置加热器等加热部172H和温度传感器 172TC的温度检测部。板部件172的一部分向侧壁171的外侧突出， 在这里，配设与加热部172H连接的供电端子172e和温度传感器172TC 的检测端子172f。送出部170的内部空间170A，作为由侧壁171和板 部件172所包围的区域，与送出路径170S连通。内部空间170A构成 为环状(环状)。在内部空间170A中，相对原料气体的流动方向大致正交地分散配 置多个传热部172p,构成为，通过这些传热部172p，而具有与过滤器 同样的功能，即具有捕捉可从气化室迸入的残留雾或者微粒的功能。 这些传热部172p为这样的状态，在侧壁171的内面和构成具有与遮挡 板同样的功能的内端面172a的板部件172的部分之间，作为热传导柱 热接触。通过这样，残留雾与传热部172p接触、气化，提高了气化效 率，同时可抑制微粒的发生。在内部空间170A内也能够配设环状的过 滤部件，通过这样，能够除去残留雾或者微粒等固形物。艮P，面对气化室IIO(参照图1)的板部件172的表面与气化室110 的其它内面同样具有作为气化液体原料的气化面的功能。另外，配设 板部件172，使得覆盖向送出路径170S的送出口 (气体出口) 170SO， 在板部件172和送出路径170S之间，形成连接气化室110和送出口 170SO的气体通路部。利用该气体通路部，传热部172p的热传导柱具 有作为流体挡板的功能，它代替了过滤功能。在本实施方式中，上述传热部172p配置为，使得从气化室恻进入 流通开口部170B的全部假想直线不能不通过传热部172p就到达送出 路径170S。排列多个传热部172p，使得不形成从配置它们的内部空间 170A内的流通开口部170B侧(图示外周侧)向送出路径170S侧(内周侧)不通过传热部172p的假想直线。通过这样，构成为，使得残留 雾的大部分至少与传热部172p接触一次，之后进入送出路径170S。为 此，能够确保气体原料的流通，又防止了微粒的排出，而且能够促进 残留雾的气化作用。此外，由于不使用过滤部件，所以没有由网眼堵 塞导致的气化室内的压力上升现象，能够长期使用。板部件172的温度控制通过温度控制电路CONT，基于温度传感 器172TC的检测温度，与气化室的温度控制独立地来进行。因此，能 够减少相当于遮挡板的内端面172a的温度降低的现象。这种情况下， 优选，板部件172的设定温度与对气化室的加热部件的设定温度相同。 而且，在侧壁171的内部设置其它加热部件也没有关系。<实施方式11〉图12A、 B是表示本发明的实施方式11的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图12A、 B是表示能够代替图1所示 的气化器的送出部130来使用的送出部170'的图，其它部分与实施方 式1相同。对送出部170'中与实施方式IO相同的部分赋予相同的符号来表示。在该实施方式中，具有相对侧壁171'从内侧嵌合固定板部件172 '的构造。在板部件172'的内端面172a和其周围的侧壁171'之间 形成流通开口部170B'。在侧壁171'和板部件172'之间设置与上 述流通开口部170B'连通的环状(环状)的内部空间170A'，也与 送出路径170S'连通。在该实施方式中，在内部空间170A'内，配置环状构成的过滤部 件173。过滤部件173的外缘部相对侧壁171'的内面固定。过滤部件 173的外缘部以外的部位，与从侧壁171'突出的柱状传热部171p'和 从板部件172'突出的柱状传热部172p'热接触。具体地说，成为通 过传热部171p'和172p'夹持过滤部件173的状态。在该实施方式中，在侧壁171'的内部(收容孔171a')也配置 其它的加热部件172〃 。因此，构成过滤部件173，使得通过各个传热 部171p'和172p'从板部件172'的加热部172H和加热部件172〃两 者接收热量。因此，过滤部件173能够通过这些传热部接收大量的热 量。这种情况下，能够更有效地进行气化，同时，能够通过过滤部件除去残留雾或者微粒等固形物。<实施方式12>图13A、 B是表示本发明的实施方式12的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图13A、 B是表示能够代替图1所示 的气化器的送出部130来使用的送出部180的图，其它部分与实施方 式1相同。在该实施方式中，在侧壁181上以从外侧插入的状态安装多个加 热部件182。在这些加热部件182的前端，分别结合从侧壁181的内面 突出的柱状传热部185。在使得与送出路径180S连通所构成的、在侧壁181的内部形成的 内部空间180A中，配置其内侧(气化室侧)打开的容器状的过滤部件 183。过滤部件183的外缘部通过固定螺钉188等固定在侧壁181的内 面上。过滤部件183的外缘部以外的部分与在侧壁181上所设置的柱 状支持突起181c或者上述传热部185热接触。在内部空间180A的邻近气化室的位置(比过滤部件183的还位于 内侧的位置)配置遮挡板184。遮挡板184成为相对过滤部件183通过 衬垫186热接触的状态，通过固定螺钉186a相对传热部185来固定。 在遮挡板184和处于其周围的侧壁181部分之间设置间隙，该间隙成 为流通开口部180B。在该实施方式中，过滤部件183构成为将轴线方向设为深度方向 的容器形状。为此，在过滤部件183上也存在沿着轴线方向伸出的侧 面部分，所以能够加大该过滤器面积。结果能够延长过滤部件183的 寿命。构成热传导柱的上述传热部185、衬垫186和固定螺钉186a与 加热部件182直接热接触。为此，能够有效地加热过滤部件183和遮 挡板184。<实施方式13>图14A、 B是表示本发明的实施方式13的气化器的主要部分的概 略内部侧面图和概略纵截面图。图14A、 B是表示能够代替图1所示 的气化器的送出部130所使用的送出部190的图，其它部分与实施方 式1相同。在该实施方式中，在侧壁191的内部(收容孔191a)配置加热部件192。在侧壁191上，构成内侧(气化室侧)打开的内部空间190A， 其与送出路径190S连通。在内部空间190A配置过滤部件193，其外缘部通过固定螺钉198 等固定到侧壁191上。过滤部件193的外缘部以外的部位，与从侧壁 191的内面突出的柱状多个传热部197热接触。在过滤部件193的内侧， 邻近气化室的遮挡板194通过衬垫196由固定螺钉196a固定到传热部 197上。在遮挡板194的周围，在与侧壁191之间设置间隙，该间隙成 为流通开口部190B。在遮挡板194和过滤部件193之间，遍及过滤部 件193的整个面上形成空间部190D。在侧壁191上设置孔191b，在孔191b中配置温度传感器199。温 度传感器199的温度检测点配置在上述传热部197的附近或者其内部。在该实施方式中，在过滤部件193的内部配置加热部件193H。具 体地说，加热部件193H是线状的加热器，它蛇行状地通过过滤部件 193的内部。在过滤部件193的内部还配置温度传感器193TC。而且， 通过温度控制电路CONT,基于温度传感器193TC的检测温度，来控 制加热部件193H的发热量，过滤部件193构成为，直接独立地进行温 度控制。在该实施方式中，在过滤部件193的内部配置加热部件193H，所 以可直接加热过滤部件193,同时能够独立地温度控制过滤部件193。 因此，能够精密地控制过滤部件193的温度，同时能够提高其温度均 匀性。为此，能够抑制过滤部件193的网眼堵塞或堆积物的局部集中， 能够抑制气化室内的压力上升，同时延长过滤器寿命。<实施方式14> ' 图15是表示本发明的实施方式14的气化器的概略纵截面图。图 16是表示沿着图15的A—A线的实施方式14的气化器的横截面图。 该实施方式的气化器具有与上述实施方式1相同的构成气化面210B和 气化空间210A的气化室210。为了向气化空间210A喷雾液体原料， 配设喷雾部件120。相对气化室210可装卸地安装相当于第二气化部的 送出部220。这里，上述喷雾部件120的构成(原料供给管121、喷雾 用气体供给管122和喷雾喷嘴123)、气化室210的侧壁211和加热部 件212，与上述实施方式l相同。在送出部220，侧壁221、加热部件33222、过滤部件223、遮挡板224、传热部225、衬垫226和固定螺钉 226a具有与实施方式1相同的功能。关于在送出部220设置的内部空 间220A、在遮挡板224的周围所设置的流通开口部22B、送出路径 220S，也与实施方式l相同。在本实施方式中，如图16所示那样，气化室210具有在喷雾喷嘴 123的轴线周围弯曲的内面形状。具体地说，气化室210构成为圆筒状。 这里，气化室210的形状也可以是以喷雾喷嘴123的轴线为中心的圆 锥形，或者是以喷雾喷嘴123的轴线为直径的一个球形。而且，上述 过滤部件223和遮挡板224具有沿着上述那样在喷雾喷嘴123的轴线 周围弯曲的内面的弯曲形状。这里，过滤部件223的外缘部通过固定 螺钉228等固定到侧壁221上。在过滤部件223和遮挡板224之间形 成空间部220D。象上述那样，在本实施方式中，遮挡板224具有沿着气化室210 的内面形状的形状。为此，能够极大地确保过滤面积，同时能够紧凑 地构成气化器。在本实施方式中，构成为使得气化室210内的雾或者 气体原料的流动难于由于送出部220的存在而受到影响。在图示的例 子中，气化室210为在喷雾喷嘴123的轴线周围大致均等的形状(旋 转体形状)。通过这样，能够稳定气化室210内的温度分布或气化面 210B和遮挡板224的内面的温度分布。为此，能够防止固形物的向特 定部位的集中堆积。通过将过滤部件223设为具有沿着遮挡板224的 面形状，能够将过滤部件223和遮挡板224的间隔构成为一定。为此， 能够有效使用过滤部件223的整个面，能够有效地捕捉残留雾或者固 形物。在本实施方式中，象上述那样，气化室210形成为具有在喷雾喷 嘴123的轴线周围弯曲的内面的形状，但气化室的形状没有任何限定。 因此，气化室的形状是立方体(6面体)等多面体形状也没有关系。这 种情况下，优选，上述遮挡板和/或过滤部件，与上述一样，形成沿着 气化室的内面的形状，使得构成多面体形状的一部分。这种情况下， 也可以形成遮挡板和/或过滤部件，使得构成上述多面体形状中的2面 以上。此外，气化室也可以具有曲面和平坦面组合的内面形状。在本实施方式中，与实施方式1相同，形成与安装压力表(未图示)的检测用配管219连通的开口部，使得邻近气化室210A。而且， 在该开口部，配设过滤部件213、在过滤部件213的气化室210A侧配 置的遮挡板214。过滤部件213与从侧壁211的内面突出的传热部215 接触。传热部215相对通过衬垫216由固定螺钉216a固定的遮挡板214， 通过这些衬垫216和固定螺钉216a热接触。在遮挡板213和侧壁211 之间设置开口部，通过该开口部，相对气化室210A连通过滤部件213 的配置空间。另外，该开口部通过过滤部件213连通检测用配管219 的内部。实施遮挡板214使得从气化室210A侵入的残留雾或者固形物难于 到达过滤部件213。为此，能够缓和过滤部件213的网眼堵塞，实现过 滤部件213的长寿命化。过滤部件213和遮挡板214通过传热部215 在其外缘部以外的部分与侧壁211热接触。为此，可与气化室210A的 内面基本一样地加热，所以在附着残留雾时，能够气化该残留雾。<实施方式15>图17A是表示本发明的实施方式15的气化器的概略纵截面图。这 里，送出部230以外的构成与图1所示的实施方式相同。送出部230 具有侧壁231;在侧壁231和气化空间IIOA之间配置的蜂窝状的过 滤部件232;在过滤部件232内部所配置的加热器等加热部件233。在 侧壁231上，形成向供给线路送出气体原料的气体原料送出路径231a。 这里，为了防止通过过滤部件232后的气体温度降低，也可以利用其 它方法设置由于加热侧壁231的加热部件。该加热部件能够设置在侧 壁231的内部或者外表面上等。过滤部件232可由板状材料构成，其由热传导性好的金属(例如 不锈钢等)或者A1N、 SiC等陶瓷构成。在过滤部件232的内部，在与 气体原料的流路方向(图示向右方向)交叉(在图示的例子中是正交) 的方向，形成收容孔(或者收容腔，下面相同)232a。在收容孔232a 中收容上述加热部件233。这里，加热部件233也可以遍及过滤部件 232的内部整体来配置。这种情况下，能够进一步提高热效率。在过滤 部件232上，与气体原料的流路方向基本平行地形成多个贯通的微小 的细孔232b。而且，细孔232b也可以相对原料气体的流动方向大致正 交地形成，使得残留雾或者固形物碰到过滤部件再气化。这些细孔232b构成为其贯通距离(长度)与直径相比较大的形状。 细孔232b的长度(在图示例子中与过滤部件232的厚度一致)设计为 使得在气化空间110A中发生的微小残留雾的捕捉率充分高。具体地 说，细孔232b的直径是0.01 1.0mm左右，贯通距离是5 15mm左右。而且，也可以构成为使得收容加热部件233的收容孔232a和一部 分细孔232b交叉。或者构成为使得在与收容孔232a交叉的位置不形 成细孔232b。<实施方式16>图17B是表示本发明的实施方式16的气化器的概略纵截面图。在 该实施方式16中，在侧壁231和蜂窝状过滤部件232之间，配置过滤 部件234。过滤部件234相对侧壁231通过固定部件235来连接固定。 在过滤部件232和过滤部件234之间，遍及这些过滤面整体来形成空 间部230D。除此之外，即关于过滤部件232和加热部件233，与图17A 所示的实施方式15相同。在该构成例子中，通过在蜂窝状过滤部件232的下游侧配置过滤 部件234，得到这样的效果，导入供给线路的雾或者微粒量能够进一步 降低。而且，优选，过滤部件234构成为使得与过滤部件234相比能 够捕捉更细小的残留雾。例如，能够使用与实施方式1所示的过滤部 件133相同的过滤部件。在图示例子中，过滤部件234通过侧壁231， 或者利用来自过滤部件232的辐射热间接地加热。与图1所示实施方 式的过滤部件133同样，通过传热部235 (衬垫)将加热部件的热量传 导到过滤部件234。而且，使用固定部件235a，将过滤部件234固定 到传热部235和侧壁231上。这里，可以与实施方式15的过滤部件232 同样，在其内部配置加热部件。也可以在侧壁231内设置加热部件。 优选，在任何一种情况下，将该加热的过滤部件234控制为与气化室 的气化面(内面)相同的温度。在该实施方式中，构成为使得通过过滤部件232捕捉气化比较大 的残留雾，通过过滤部件234捕捉比较小的残留雾。因此，能够提高 雾的除去效率，同时，能够降低各个过滤部件232、 234的网眼堵塞。<实施方式17>图18A是表示本发明的实施方式17的气化器的概略纵截面图。在 该实施方式17中，送出部330以外的构造也与上述实施方式1相同。在该实施方式中，在送出部330，具有外壁33K在外壁331的内 侧面对气化空间110A的内壁332。在外壁331上形成气体原料送出路 径331a。在内壁332上，形成使气化空间IIOA、送出部330的内部空 间330A连通的连通孔332a。在内壁332的内部，配置加热器等加热 部件333。内部空间330A由外壁331和内壁332形成。在内部空间330A中 配置过滤部件334。过滤部件334为在其外缘部以外的部位通过传热部 335来热接触的状态。传热部335构成为，使得从内壁332接收由加热 部件333发生的热量，传送到过滤部件334的外缘部以外的部位。过 滤部件334通过传热部335分别连接固定到内壁332上。更具体地说， 通过固定部件335a将过滤部件334固定到传热部335和内壁332上。 即，传热部335也具有作为支持过滤部件334的支持部件的功能。在该实施方式中，在气化空间110A中所生成的气体原料通过连通 孔332a，导入到内部空间330A。导入到内部空间330A中的气体原料， 通过过滤部件334,从气体原料送出路径331a送出。这里，过滤部件 334通过传热部335由加热部件333加热，所以即使附着气体原料中存 在的细微的残留雾，也能够确实地气化。在图示例子中，在过滤部件 334上，多个传热部335与外缘部以外的分散配置部位热接触。为此， 通过更均匀地加热过滤部件334整体，能够减少温度的偏差，防止局 部的网眼堵塞等。在这种情况下，优选，该加热的过滤部件334控制 为与气化室的气化面(内面)相同的温度。在该实施方式中，送出部330的内壁332配置为面对气化室110 的气化空间UOA。而且，由于在内壁332的内部配置加热部件333， 所以加热部件333也有助于气化空间110A内的原料的气化作用。而且，在内壁332上设置的上述连通孔332a在向喷雾部件(喷雾 喷嘴未图示)侧偏离的位置形成。通过这样，可减少这种情况，在 气化空间110A喷雾的雾直接通过连通孔332a由过滤部件334捕捉。<实施方式18>该实施方式的送出部430中，在侧壁431的内部收容配置加热部件432。 而且，在侧壁431的内侧配置过滤部件433。过滤部件433为其外缘部 以外的部位与在侧壁431上突出形成的传热部434 (衬垫)热接触的状 态。传热部434分别连接固定到过滤部件433和侧壁431上。更具体 地说，通过固定部件434a将过滤部件433固定到传热部434和侧壁431 上。即，传热部434也具有作为支持过滤部件433的支持部件的功能。 在这种情况下，优选，该加热的过滤部件434也控制为与气化室的气 化面(内面)相同的温度。 <实施方式19>图19是表示本发明的实施方式19的气化器的概略纵截面图。该实施方式的气化器500具有原料气化部510;喷雾部件520;送出部530。原料气化部510具有侧壁511;形成侧壁510的内面的气化面 511A;在其内部配置的加热器等加热部件512。在喷雾部件520上配 设原料供给管521;喷雾用气体供给管522;喷雾喷嘴523。喷雾喷嘴523以喷雾用气体的压力来喷雾原料。构成为使得利用 喷雾喷嘴523，向其内部分别导入原料和喷雾用气体，该原料从多个(在 图示例子中是3个)喷雾口 523a通过喷雾用气体喷雾。更具体地说， 导入的原料通过原料扩散室523s向多个原料供给路径523v分流。这 些原料供给路径523v与上述喷雾口 523a连通。喷雾用气体通过喷雾 用气体扩散室523t向原料供给路径523v和同轴形成的路径分流，将由 各原料供给路径523v供给的原料在喷雾口 523a喷雾。这样，通过多 个喷雾口 523a喷雾原料，由此能够增加原料供给量，增大雾量。另外， 使得即使增加喷雾量，也能够喷雾均匀直径的雾。因此，能够提高原 料的气化效率，同时能够降低残留雾或者微粒。而且，在图示的例子中，仅描述了一个向喷雾喷嘴523供给原料 的原料供给管521，但能够根据需要设置多个原料供给管521。这种情 况下，通过多个原料供给管521供给的多种原料在喷雾喷嘴523内在 即将喷雾之前混合，将该混合物与喷雾用气体同时由多个喷雾口 523a 分担来喷雾(矩阵喷雾)。 '在上述喷雾喷嘴523的喷雾方向配置的作为上述侧壁511'的内面 的气化面511A，构成为大致球面(半球)状。通过这样，无论雾的喷38雾方向如何，从喷雾口 523a到气化面5UA的距离基本上是一定的。 由于喷到该气化面511A上的雾量在球面上大致均匀等理由，能够有效 地气化从喷雾喷嘴523喷雾的雾。在本实施方式的送出部530，配设侧壁531;在侧壁531的内侧 配置的蜂窝状的过滤部件532。在侧壁531上形成气体原料送出路径 531a。在过滤部件532上，设置在与气体原料的流路方向交叉的方向 所形成的收容孔(或者收容腔，下面相同)532a。而且，收容孔532a 也可以相对原料气体的流动方向大致正交地形成，使得残留雾或者固 形物碰到过滤部件再次气化。在收容孔532a中，由加热器等构成的加 热部件533配置在外周侧。在过滤部件532上，形成沿着气体原料的 流路方向贯通的多个细孔532b。这些细孔532b与气化空间510A和送 出部530的内部空间530A连通。在本实施方式中，过滤部件532相对气化空间510A配设在喷雾喷 嘴523侧。更具体地说，在喷雾喷嘴523的周围配置过滤部件532，使 得与气化面511A相对包围喷雾喷嘴523。在与喷雾喷嘴523的喷雾方 向相反一侧(背后)形成送出部530的内部空间530A。另夕卜，气体原 料送出部531a还在其背后形成。通过这样的构成，可防止从喷雾喷嘴 523喷雾的雾直接附着到过滤部件523上。这种情况下，不必象实施方 式1那样设置遮挡板134。过滤部件532通过在其内部配置的加热部件533大致一样地加热。 因此，与通过气化面511A在气化空间510A内生成的气体原料同时流 动的细微残留雾，附着到过滤部件532上，在这里再次气化。气体原 料通过细孔532b，导入到内部空间530A中，最终通过气体原料送出 路径531a送出。在过滤部件532中形成的细孔532b，设计成与实施方 式2同样的尺寸。在本实施方式中，优选，在内部空间530A (过滤部件532和气体 原料送出路径531a之间)，设置由图中虚线表示的过滤部件534。过 滤部件534能够与实施方式1或者实施方式15的过滤部件同样地使用。 优选，与实施方式l一样，热接触过滤部件534的外缘部以外的部位， 固定到从侧壁531突出形成的传热部上。这种情况下，构成该传热部， 使得从过滤部件532向过滤部件534传导热量。而且，也可以在侧壁531中内置加热部件，相对侧壁531安装传热部，使该传热部与过滤部 件534热接触。图20A、 B是表示喷雾部件的变更例的概略正面图和概略侧面图。 在该喷雾部件620上，配设多个(在图示例子中是3个)原料供给管 621、喷雾用气体供给管622、喷雾喷嘴623。从这些多个原料供给管 621供给的各原料，在各个喷雾喷嘴623内事先混合，从多个喷雾口 623a的各个与和各个分别对应的喷雾用气体同时喷雾。该构成适用于 供给例如3种气体原料(Pb、 Zr和Ti的电介质(有机金属化合物))， 来形成PZT (钛酸锆酸铅)的情况。这种情况下，向上述喷雾部件620 中导入这些3种原料，由此各原料在喷雾喷嘴623内混合。然后，3 种原料和与来自各个专用喷雾口 623a的、与各个喷雾口 623a对应的 喷雾用气体同时喷雾。喷雾部件620具有与上述实施方式19的喷雾部件520同样的效果。 此外，通过对每种原料形成专用的喷雾口 623a，具有能够分别调整原 料的喷雾形式(原料的喷雾量、混合的喷雾用气体量、喷雾压力等) 的优点。图20C、 D是表示喷雾部件的其它变更例的概略正面图和概略侧 面图。该喷雾部件720上，配设多个原料供给管721;喷雾用气体供 给管722;喷雾喷嘴723。在喷雾喷嘴23上，配设与多个原料供给管 721对应连通的气体原料导入块723B D。从多个原料供给管721分 别供给的原料，在喷雾喷嘴723的内部，在气体原料导入块723D、723C、 723B中顺序导入与喷雾口 723a连通的管路中并混合。然后，多种原料 与通过喷雾用气体扩散室723A同轴导入的喷雾用气体同时从喷雾口 723a喷雾。在喷雾部件720中，能够均匀地混合多种原料。为此，在气化空 间内气化混合原料，供给成膜室内，由此，具有提高膜的组成比的再 现性的效果。图21是表示本发明的实施方式的反应处理装置(半导体处理装置) 的概略构成图。该反应处理装置是例如用于使用气体原料来形成薄膜 的CVD装置。该反应处理装置具有原料供给部200;气化由原料供 给部200供给的原料的气化器100 (500);使用由气化器生成的气体原料来进行处理的反应处理部300。图22是表示原料供给部200的内部构成的概略构成图。在原料供 给部200，设置收容原料A C的原料容器202A 202C，原料A C 从原料容器202A 202C通过传送线路204A 204C，以控制的流量向 气化器100 (500)供给。在原料容器202A 202C中，作为半导体装 置的材料，例如分别使用成膜铁电体薄膜的Pb、 Zr、 Ti (PZT)或Pb、 Zr、 Ti、 Nb (PZTN)，成膜高电介质薄膜的Ba、 Sr、 Ti等有机金属 化合物，还使用成膜超导薄膜的Bi、 Sr、 Cu等。这里，原料和原料容 器的个数不限于图示例子，根据需要设置任意个数。设置溶剂容器 202D，该容器内准备的溶剂通过送液线路204D供给。此外，设置与 各原料容器202A 202C和溶剂容器202D的各送液线路204A 204D 连接的排放线路203，配设与排放线路203连接的排放容器202E。送液线路204A 204D,配设在其一端侵入各原料容器202A 202C和溶剂容器202D的液体中的位置。在延伸到各个下游侧的途中 配设流体流量调节部件(例如质量流量计等流量控制计)205A 205D。 送液线路204A 204D从流体流量调节部件还向下游侧延伸，向气化 器IOO (500)输送各原料。流体流量调节部件205A 205D从各个控 制器(未图示)接收控制信号，调节流量。原料供给部200具有从导入非活性气体等的气体导入线路206分 支的气体供给线路206A 206D。通过由气体供给线路206A 206D进 行的气体供给所产生的压力，原料A C和溶剂向各个送液线路 204A 204D送出。在供给溶剂的送液线路204D和供给原料的各送液 线路202A 202C和气体供给线路206A 206C之间，连接溶剂供给线 路207。此外，与排气装置(未图示)连接的真空线路208与排放容器 202E连接。在气体供给线路206A 206D中插入逆止阀CH，另外，在全部线 路中在图示那样的适当位置插入开闭阀DV (隔膜阀)。此外，优选， 在原料供给线路的液体流量调整部件205A 205D的上游位置插入分 离器(separator)(脱气器未图示)。再返回到图21，在气化器IOO (500)中，在气化室IIO (510)中 气化的原料，通过送出部130(150、 150' 、 150〃 、 160、 160' 、 150X、150Y、 150Z、 170、 170' 、 180、 190、 230、 330、 430、 530)送到原 料供给线路140。在原料供给线路140中，配设原料供给路径141和与排气系统(例 如真空泵)连接的排气路径143、 144。在原料供给路径141中，配设 具有上述过滤部件(133、 153、 153' 、 163、 153X、 153Z、 173、 183、 193、 232、 334、 433、 532)的气体原料再气化过滤器142。这些再气 化过滤器142具有与上述送出部(130、 150、 150' 、 150" 、 160、 160 '、150X、 150Y、 150Z、 170、 170' 、 180、 190、 230、 330、 430、 530)同样的构造。即，上述气体原料供给部可作为任何气化器的一部 分来配设，与此相对，尽管再气化过滤器142具有与上述送出部相同 的构成，但在与气化器单独地配置这一点是不同的。这里，作为气化 原料的供给构造，上述送出部和再气化过滤器142仅设置一个也没有 关系。为了在处理部300载置半导体晶片等被处理基板，其具有配设基 座304的反应室301。在反应室301内，相对基座304，配设气体导入 部(喷淋头)303。从喷淋头303，由气化器IOO (500)供给的气体原 料(与适当的载气同时导入)导入反应室301中。而且，从喷淋头303 将从其它途径的气体导入管305供给的反应气体(例如氧气等氧化性 气体)导入到反应室301内。在反应室301中，为了对反应室301内 排气，连接排气管306。在上述反应处理装置中，通过气化器的送出部(130、 150、 150'、 150" 、 160、 160' 、 150X、 150Y、 150Z、 170、 170' 、 180、 190、 230、 330、 430、 530)或再气化过滤器142，能够大幅降低导入到反应 室301中的雾或微粒的量。为此，能够提高在反应室301内进行的处 理(例如成膜处理)的品质。在上述送出部或再气化过滤器中，在其 内部配置的过滤部件可更均匀地加热，由此能够提高气化效率，防止 网眼堵塞。为此，能够维持供给线路的传导性，降低维护频率。图23是表示本发明的其它实施方式的反应处理装置(半导体处理 装置)的概略构成图。在该构成例子中，从原料供给部200向气化器 100 (500)供给原料，从气化器100 (500)向原料供给路径141供给 气体原料，供给到处理部300，这一点与上述相同。但是，不同之处在42于，导入向原料供给路径141供给Ar气等非活性气体的净化线路145， 这一点不同。在该构成例子中，不设置再气化过滤器142和排气路径 143。在该构成例子中，尽可能縮短从气化器100 (500)到反应室301 的距离(原料供给路径141的长度)，由此减少原料供给路径内残留 的气化气体量。通过这样，能够抑制原料供给系统中微粒的发生，所 以能够提高反应室301中成膜的膜的品质。图24是表示实施方式2的气化器和已有的气化器(以已有的方式 来单独设置过滤部件的气化器)进行比较的关于气化室的内压随时间 变化(内压的原料供给时间依赖性)的曲线图。在己有的气化器中，如线L2所示那样，在原料供给时间达到100 小时之前就超过了上限压力。为此，要一面加热一面进行流动N2等非 活性气体的净化处理，来暂时降低内压，但在之后短时间内再次超过 上限(而且，在图中省略了净化处理期间来表示)。考虑到这是由于 在过滤部件上大量附着固形物，传导性降低的原因。与此相反，在实施方式2的气化器中，象线L1所示那样，即使原 料供给时间超过600小时，也远远没有达到上限压力，可理解，与已 有情况相比，可大幅抑制传送性的降低。而且，在实施方式2中，几 乎不发生上述那样的传送性的降低，过滤部件一定发挥了功能。在实 施方式2中，实验确认与现有的构造相比，反应室内流动的微粒量反 而降低到一半以下。特别是，在现有构造的情况下，通过在下游侧连接的串联过滤器， 可大大减少反应室内流动的微粒量，但在实施方式2的情况下，可知 道，即使卸下在下游侧连接的串联过滤器(在线过滤器)，到达反应室的 微粒量也基本上没有变化。认为这这种结果显示了在实施方式2的气 化器中所发生的微粒量减少到因串联过滤器的有无导致的变化基本上 没有出现的程度。为此，在图24所示的内压变化的测量中，在原料供给时间大约达 到170小时的时刻(图示的虚线)，卸下在下游侧连接的串联的过滤 器，继续进行测量。结果，曲线的内压值在170小时以后稍微降低一 些。这样，证明了在实施方式2中，能够大幅度抑制由过滤部件的网眼堵塞导致的传导性降低，同时大幅度降低向下游侧流动的微粒。而且，本发明的气化原料的供给构造、气化器和反应处理装置， 不仅限于上述图示例子，在不脱离本发明的宗旨的范围内还能够进行 各种改变，这不用说。例如，上述任何一个实施方式所示的侧壁、内 部空间、加热部件、过滤部件、遮挡板、传热部(热传导柱)、流通 开口部的各个特征点，能够分别独立地用于其它实施方式，各个实施 方式所示的其它构成和组合也不限定。 产业上的可利用性如根据本发明，能够提供一种可降低气体原料中的雾或者微粒的 气化器。
权利要求
1.一种气化器，其特征在于，具有气化室，气化液体原料来形成气体原料；喷雾部，向所述气化室喷雾所述液体原料；送出部，从所述气化室向气体出口送出所述气体原料；和加热部，加热所述气化器，所述送出部具有板部件，在确保流通开口部的状态，有间隔地覆盖所述气体出口和其周围的壁面，在所述板部件和所述壁面之间，形成连接所述气化室和所述气体出口的气体通路部；在所述气体通路部中配设的具有作为流体挡板功能的多个柱；和加热在所述气体通路部中流动的所述气体原料的加热器。
2. 根据权利要求1所述的气化器，其特征在于， 所述加热器埋设到所述板部件内。
3. 根据权利要求2所述的气化器，其特征在于， 面对所述气化室的所述板部件的表面，提供了气化所述液体原料的气化面。
4. 根据权利要求1所述的气化器，其特征在于， 还具有将所述加热器的热量传导到所述板部件的传热部件:所述传热部件与所述板部件的外缘部以外的部位热接触。
5. 根据权利要求4所述的气化器，其特征在于， 所述多个柱也具有作为所述传热部件的功能。
6. 根据权利要求1所述的气化器，其特征在于， 还具有温度控制部，基于所述板部件的温度来进行所述加热部的温度控制。
7. 根据权利要求1所述的气化器，其特征在于， 在所述气体出口和所述板部件之间，还具有过滤部件，使所述气体原料通过地覆盖所述气体出口 。
8. —种对被处理基板进行半导体处理的装置，其特征在于，具有 收容所述被处理基板的处理室；和 向所述处理室内供给处理气体的气体供给系统， 所述气体供给系统具有权利要求1所述的气化器。
全文摘要
本发明提供一种气化器和具有该气化器的半导体处理装置，该气化器的特征在于，具有气化室，气化液体原料来形成气体原料；喷雾部，向所述气化室喷雾所述液体原料；送出部，从所述气化室向气体出口送出所述气体原料；和加热部，加热所述气化器，所述送出部具有板部件，在确保流通开口部的状态，有间隔地覆盖所述气体出口和其周围的壁面，在所述板部件和所述壁面之间，形成连接所述气化室和所述气体出口的气体通路部；在所述气体通路部中配设的具有作为流体挡板功能的多个柱；和加热在所述气体通路部中流动的所述气体原料的加热器。
文档编号H01L21/31GK101255551SQ20071019982
公开日2008年9月3日 申请日期2004年5月11日 优先权日2003年5月12日
发明者饭塚八城 申请人:东京毅力科创株式会社