本发明属于催化剂生产设备领域,具体涉及一种生产有机物处理催化剂的沉淀反应器。
背景技术:
催化剂沉淀法生产时常用金属盐类和沉淀剂需在沉淀反应器中进行,为了理想的沉淀粒子,在沉淀过程中必须使物料保待一定温度,并不断搅拌,保证混合、分散均匀。沉淀操作大多为间歇式。加料方式可为分步法或并流法,若用并流法,几股物料同时进入带搅拌的成胶罐,连续操作,然后进入老化罐,待收集到一定体积的物料,经一定温度、时间老化后再进入下一道工序,老化罐间歇操作。
沉淀反应器一定要满足工艺需要,便于操作,加热方便,通风良好,同时可随时用肉眼观察沉淀过程中溶液颜色、胶体稠度的变化,便于ph值的测量等。目前间歇性沉淀反应器存在加热不均,容易在反应器中出现明显的温差的情况,同时物料容易因温差而产生“挂壁”现象,在反应器内壁产生大量的残留,难以清理,而上述缺点,会直接影响生产出的催化剂的性能和均质程度,大大降低了产品的质量,同时还提高了维护费用。
技术实现要素:
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种加热均匀,能够消除罐内温差,并且设有除垢器进行罐内辅助清洁的生产有机物处理催化剂的沉淀反应器。
本发明所采用的技术方案为:
一种生产有机物处理催化剂的沉淀反应器,包括电机、罐体、顶盖、中转轴、支架和底座,所述电机安装于中转轴伸出顶盖上端,所述顶盖上设置有人口和进液管,所述中转轴竖直设置,中转轴位于罐体内的部分,正中间安装有水平设置的搅拌器,所述中转轴下端处设置有罐体的出料口,所述支架置于罐体下部,并固定于底座上,所述罐体内还设有除垢器,所述除垢器水平安装于中转轴上并随中转轴转动,同时自由端与罐体内壁接触,所述罐体侧壁外侧包裹有旋转控温罩,所述旋转控温罩通过对称设置的两根连接杆连接于中转轴并能够随中转轴围绕罐体转动。
作为进一步改进的技术方案,所述顶盖与罐体闭合相接处设有密封圈。
作为进一步改进的技术方案,所述人口处设置有伸入罐体内部的检测棒,所述检测棒分有两个分别测试ph值和温度的检测头。
作为进一步改进的技术方案,所述连接杆与旋转控温罩连接处设有缓冲套。
作为进一步改进的技术方案,所述连接杆与中转轴连接处设有轴套。
本发明的有益技术效果如下:
本发明提供了一种加热均匀,能够消除管内温差,并且设有除垢器进行罐内辅助清洁的生产有机物处理催化剂的沉淀反应器。
(1)采用旋转控温罩,从而能够保证反应器内的加热程度相同,即能保证加热均匀,有效消除了反应器内的温差,防止了物料反应的“挂壁”现象,加热效果更好,物料反应更好。
(2)设有除垢器,进一步解决了沉淀反应器底部容易残留反应物的问题,实现了清洁生产,维修方便,简单冲洗就可以保持反应器内壁的干净,降低了人工清理和维护的成本。
(3)结构简单,使用方便,整个沉淀反应器的安全性高,设计合理,性能良好。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明的俯视结构示意图;
附图标记:1、电机;2、罐体;3、顶盖;4、中转轴;5、密封圈;6、人口;7、出料口;8、底座;9、支架;10、旋转控温罩;11、连接杆;12、进液管;13、搅拌器;14、除垢器;15、检测棒;16、缓冲套;17、轴套。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的阐述和说明。
如图所示的一种生产有机物处理催化剂的沉淀反应器,包括电机1、罐体2、顶盖3、中转轴4、支架9和底座8,所述电机1安装于中转轴4伸出顶盖3上端,所述顶盖3上设置有人口6和进液管12,所述中转轴4竖直设置,中转轴4位于罐体2内的部分,正中间安装有水平设置的搅拌器13,所述中转轴4下端处设置有罐体2的出料口7,所述支架9置于罐体2下部,并固定于底座8上,所述罐体2内还设有除垢器14,所述除垢器14水平安装于中转轴4上并随中转轴4转动,同时自由端与罐体2内壁接触,所述罐体2侧壁外侧包裹有旋转控温罩10,所述旋转控温罩10通过对称设置的两根连接杆11连接于中转轴4并能够随中转轴4围绕罐体2转动。
所述顶盖3与罐体2闭合相接处设有密封圈5。
所述人口6处设置有伸入罐体2内部的检测棒15,所述检测棒15分有两个分别测试ph值和温度的检测头。
所述连接杆11与旋转控温罩10连接处设有缓冲套16。
所述连接杆11与中转轴4连接处设有轴套17。
使用时,电机1带动中转轴4和外部的旋转控温罩10转动,旋转控温罩10根据需要调节合适的温度对反应器内部进行加热,物料从进液管12进入沉淀反应器内进行反应,同时可以通过检测棒15和人口6对反应器内的情况进行监视,从而实时调整加热的温度等,底部的除垢器14有效的防止了因重力作用还有流量梯度引起的,反应器底部沉淀,保证了其良好的清洁性和反应性能。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。