一种用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置的制作方法

文档序号:21283489发布日期:2020-06-30 19:43阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,该用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,包括支撑柜(1)、上部对顶压砧头(2)、下部对顶压砧头(3)、支撑脚座(4)、对顶压砧砧头夹具盘结构(5)、催化剂垫片结构(6)、液压机连接夹具结构(7)、上部防护箱(8)、上部气动液压机(9)、下部气动液压机(10)、支撑板(11)、控制箱(12)、触控屏(13)、中央处理器(14)、电源开关(15)和探测线(16),所述的上部对顶压砧头(2)和下部对顶压砧头(3)分别安装在对顶压砧砧头夹具盘结构(5)内;所述的支撑脚座(4)分别螺纹连接在支撑柜(1)的下表面四角位置;所述的对顶压砧砧头夹具盘结构(5)安装在液压机连接夹具结构(7)上;所述的催化剂垫片结构(6)安装在上部防护箱(8)的内壁后表面中间位置;所述的液压机连接夹具结构(7)分别安装在上部气动液压机(9)和下部气动液压机(10)的输出端;所述的上部防护箱(8)螺栓连接在支撑柜(1)的上表面中间位置;所述的上部气动液压机(9)分别螺栓连接在上部防护箱(8)的内部上表面左右两侧位置;所述的下部气动液压机(10)分别螺栓连接在支撑板(11)的上表面左右两侧位置;所述的支撑板(11)横向螺栓连接在支撑柜(1)的内部后表面上部中间位置;所述的控制箱(12)螺钉连接在上部防护箱(8)的右侧中间位置;所述的触控屏(13)镶嵌在控制箱(12)的正表面上部中间位置;所述的中央处理器(14)镶嵌在控制箱(12)的内部中间位置;所述的电源开关(15)镶嵌在控制箱(12)的正表面中间位置;所述的对顶压砧砧头夹具盘结构(5)包括夹具盘体(51)、顶紧螺栓(52)、液压机连接孔(53)、砧头卡槽(54)、顶紧盘(55)和射线穿孔(56),所述的顶紧螺栓(52)分别螺纹连接在夹具盘体(51)的外侧四角位置;所述的液压机连接孔(53)分别开设在夹具盘体(51)的内壁外侧四角位置;所述的砧头卡槽(54)开设在夹具盘体(51)的内部中间位置;所述的射线穿孔(56)开设在夹具盘体(51)的内部中间位置并位于砧头卡槽(54)的内部中间位置;所述的顶紧盘(55)螺钉连接在顶紧螺栓(52)的顶端。

2.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的催化剂垫片结构(6)包括合金垫片(61)、通孔(62)、氧化铈催化剂主体(63)和红宝石颗粒(64),所述的通孔(62)开设在合金垫片(61)的中间位置;所述的氧化铈催化剂主体(63)和红宝石颗粒(64)填充在合金垫片(61)的内部。

3.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的液压机连接夹具结构(7)包括连接夹具盘(71)、连接套管(72)、锁紧螺栓(73)、支撑螺杆(74)和夹紧螺母(75),所述的连接套管(72)分别螺钉连接在连接夹具盘(71)的上表面左右两侧位置;所述的锁紧螺栓(73)螺纹连接在连接套管(72)的正表面;所述的支撑螺杆(74)分别螺纹连接在连接夹具盘(71)的下表面四角位置;所述的夹紧螺母(75)螺纹连接在支撑螺杆(74)的外表面。

4.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的上部对顶压砧头(2)和下部对顶压砧头(3)分别采用具有平头的锥形的单晶碳化硅砧头或烧结金刚石砧头;所述的上部对顶压砧头(2)和下部对顶压砧头(3)的平面直径设置在一厘米至十厘米。

5.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的上部对顶压砧头(2)和下部对顶压砧头(3)的最高压强可达到20gpa。

6.如权利要求2所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的合金垫片(61)具体采用钛铝合金片。

7.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的上部气动液压机(9)和下部气动液压机(10)的施加精度为0.3gpa。

8.如权利要求1所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的支撑柜(1)具体采用长方形的不锈钢柜;所述的支撑柜(1)的正表面铰链合页连接有不锈钢柜门。

9.如权利要求3所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的连接套管(72)分别套接在上部气动液压机(9)和下部气动液压机(10)的输出端并用锁紧螺栓(73)顶紧固定。

10.如权利要求3所述的用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,其特征在于,所述的支撑螺杆(74)与液压机连接孔(53)一一对应设置;所述的支撑螺杆(74)贯穿液压机连接孔(53);所述的一个夹紧螺母(75)和另一个夹紧螺母(75)分别夹紧在夹具盘体(51)的上表面和下表面。


技术总结
本实用新型提供一种用于提高纳米氧化铈催化剂高活性暴露面比例的高压强对顶压砧装置,包括支撑柜、上部对顶压砧头、下部对顶压砧头、支撑脚座、对顶压砧砧头夹具盘结构、催化剂垫片结构、液压机连接夹具结构、上部防护箱、上部气动液压机、下部气动液压机、支撑板、控制箱、触控屏、中央处理器、电源开关和探测线。本实用新型通过触控屏和中央处理器控制上部气动液压机和下部气动液压机设定高压施加,对纳米氧化铈催化剂进行特定高压强下(利用红宝石标样定压)的小幅增、减压循环,循环次数为100‑1000次量级,即可通过可控地引入碎裂,有效增加{100}或{110}高活性暴露面的比例,提高氧化铈催化剂催化性能。

技术研发人员:邓昱;王翔;赵赟雷;粟宇聪;陈传露;李朵;朱吉慧
受保护的技术使用者:南京宁智高新材料研究院有限公司
技术研发日:2019.10.09
技术公布日:2020.06.30
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