混合盘的制作方法

本发明主要涉及矿物浆料的研磨处理。特别地，本发明涉及圆盘元件、圆盘元件的用途、用于研磨浆料的装置以及用于研磨矿物浆料的方法。

背景技术：

研磨处理已经在陶瓷、颜料、油漆、纸和药品行业中使用了半个多世纪。在这种处理中，将粗浆料颗粒引入指定的装置中，在所述装置中，通常在存在如陶瓷研磨珠的研磨介质的情况下对粗浆料颗粒进行研磨，以便获得更细的浆料产品粒度。通过使用安装在腔室内磨机轴上的研磨盘来混合引入的浆料与研磨珠或研磨介质从而实施矿物浆料的研磨。特别地，矿物浆料被输送通过所述腔室，并且在腔室内的输送期间研磨浆料中的粗颗粒，以便在腔室的出口处获得精制的矿物浆料。这种用于研磨浆料的装置也被称为磨机。然而，传统的磨机不允许使用其上安装有圆盘的转子的总潜在功率，因此只能获得较低的功率输入和较低的进给速度。此外，非常需要延长转子盘的使用寿命。特别地，部件使用寿命取决于应用类型和作用在转子盘上的应力。搅拌介质的磨机的功率输入直接受搅拌器每分钟转数的影响。最佳速度设置将有助于延长转子盘的使用寿命。可能特别需要以较低速度运行的转子盘，从而有效地减小盘和研磨介质之间的剪切力。此外，可能需要节省用于操作这种用于研磨浆料的磨机或装置的大量的材料和劳动力。尤其重要的是，就维护和服务需求而言需要提供一种更便宜的盘。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种改进的矿物浆料的研磨方法。

该目的通过独立权利要求的主题来实现。根据从属权利要求和以下描述，其他示例性实施例是显而易见的。

根据本发明的第一方面，提供了一种圆盘元件。圆盘元件包括至少两个梁元件，每个梁元件沿着平行于圆盘元件的径向方向的延伸方向延伸超过圆盘元件的外周。所述延伸方向也可以相对于圆盘元件径向延伸，即，所述延伸方向与所述径向方向一致。圆盘元件还包括至少两个孔，所述至少两个孔沿着纵向方向延伸穿过圆盘元件，所述纵向方向基本上垂直于所述至少两个梁元件的延伸方向中的每个。例如，所述纵向方向基本上垂直于圆盘元件的径向方向。特别地，所述至少两个孔可以在纵向旋转对称的轴向方向上延伸穿过圆盘元件，所述纵向旋转对称的轴向方向基本上垂直于所述至少两个梁元件的延伸方向中的每个。所述至少两个梁元件相对于圆盘元件的圆周方向彼此等距地间隔开，所述圆周方向对应于圆盘元件的外周。

可以沿着圆盘元件的圆周测量所述圆周方向。沿着该圆周方向，所述至少两个梁元件以等距方式彼此间隔开。这意味着在两个梁元件的情况下，每个梁元件之间的角度为180°。在三个梁元件的情况下，每个梁元件之间相对于圆周方向的角度为120°。然而，在优选实施例中，圆盘元件包括正好四个梁元件，使得每个梁元件之间相对于圆周方向的角度为90°。根据本发明的其他实施例，圆盘元件包括五个或更多个并且最多十二个梁元件，即五到十二个梁元件。

圆盘元件也可以被称为混合盘，这是因为延伸超出圆盘元件的外周的梁元件以可调节的方式连接到圆盘元件。在搅拌介质的磨机(例如在下文将要描述的用于研磨浆料的装置)中的这样的混合盘提供了具有更高功率输入和增强的浆料产量的可能性。例如，可以有利地使用本发明的圆盘元件研磨湿的矿物浆料，特别是碳酸钙浆料。基于这样的圆盘元件，将减少旁通流，并且另外地由于较少的保留物(例如粗颗粒)残留在研磨浆中因此将提高产品质量。此外，本发明的圆盘元件提供较少的再循环、在磨机内的圆盘元件(多个圆盘元件)的较低转速下获得较高的功率汲取(powerdraw)，以及提高的搅拌介质的磨机(例如用于研磨包含研磨介质(如陶瓷研磨珠)的浆料的装置)的运行效率。

圆盘元件可以例如被附接到所述磨机的腔室内的旋转轴，该磨机在下文中也被定义为用于研磨浆料的装置。混合盘，例如圆盘元件是中心盘部分和搅拌臂的组合。搅拌臂被定义为梁元件，所述梁元件延伸超过圆盘元件的外周。中心盘部分定义为圆盘元件本身。通过中心盘部分(例如圆盘元件)可以减少沿旋转轴的意外的旁通流。由于高功率输入，混合盘可以较低的转速运行。结果，本发明的圆盘元件允许改善立式磨机的操作并使搅拌的介质磨机内的浆料的产量最大化。

混合盘的中心盘部分，例如圆盘元件包括至少两个梁元件，所述至少两个梁元件可以通过键连接或键接头连接到圆盘元件(例如，中心盘)。圆盘元件的外周可以具有在径向方向上限制圆盘元件的圆形形状。圆盘元件可以具有扁平的形状，其中圆盘元件的厚度远小于圆盘元件沿着径向方向的横向延伸量。换句话说，术语“扁平的圆盘元件”应被理解为这样的圆盘元件，其中沿圆盘元件的径向方向测量的直径远大于圆盘元件在纵向方向上的厚度。例如，直径与厚度之间的比率在20和120之间，优选在25和30之间。

至少两个孔，特别是通孔在纵向方向上延伸穿过圆盘元件。所述至少两个孔可以布置在圆盘元件上，以使得这些孔相对于圆盘元件的圆周方向彼此等距地间隔开。所述至少两个孔与圆盘元件的中心点之间可能存在空间或距离。然而，在圆盘元件的中心处、在圆盘元件内可以存在另外的孔，其用于接收下文所述的用于研磨浆料的装置的旋转轴。延伸穿过圆盘元件的所述至少两个孔可以例如是确保磨机稳定运行所需要的蒸汽孔。特别地，可以使由于研磨区域中的研磨介质条件的不均匀而导致的干扰研磨操作的蒸汽气泡远离主研磨区域。

可以想象成扁平圆盘的圆形盘元件可以具有在圆盘元件的圆周处形成凹部的切割部分或切口部分。在这些切口部分中，梁元件可以被附接到圆盘元件。在附图的描述中将更详细地描述该方面。

梁元件具有平行于圆盘元件的径向方向的延伸方向，其中，所述径向方向始于圆盘元件的中心点。换句话说，在梁元件的延伸方向与圆盘元件的径向方向之间存在偏移。然而，术语“平行”也确实包括梁元件的延伸方向与圆盘元件的相应的径向方向一致。特别地，梁元件还可以在圆盘元件的径向方向上延伸超过圆盘元件的外周。在这种情况下，在梁元件的延伸方向和圆盘元件的径向方向之间没有偏移。

在本说明书和权利要求书中使用术语“包括”的情况下，其不排除具有主要或次要功能重要性的其他的未指定元件。为了本发明的目的，术语“由...组成”被认为是术语“包含”的优选实施例。如果在下文中将组限定为包括至少一定数量的实施例或元件，则还应理解为公开了这样一种组，其优选地仅由这些实施例或元件组成。

每当使用术语“包含”或“具有”时，这些术语就意味着等同于如上所定义的“包括”。

当提到单数名词时使用不定冠词或定冠词，例如除非特别指出，否则“一”，“一个”或“该”包含该名词的复数形式。

诸如“可获得的”或“可限定的”以及“获得的”或“限定的”之类的术语能够互换地使用。这例如表示：除非上下文另有明确规定，否则术语“获得的”并不表示例如实施例必须通过术语“获得的”之后的步骤顺序获得，尽管作为优选实施例的术语“获得的”或“限定的”始终包括这种受限的理解。

梁元件和孔应当被布置成使圆盘处于平衡状态(最好避免任何不平衡)。因此，根据本发明，优选的是，延伸的梁元件的数量“n”是偶数且至少为4(n＝2、4、6、8、10等)，而孔的数量“m”与梁元件的数量“n”相关，其中m＝k*0.5n，k为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者延伸的梁元件的数量“n”是非偶数(n＝3、5、7、9、11等)，而孔的数量“m”与梁元件的数量“n”相关，其中m＝k*n，k为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；或者梁元件“n”的数量为2，而孔的数量“m”与梁元件的数量“n”相关，其中m＝k*n，k为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10。例如，本发明的盘可以具有4个延伸的梁元件和2、4、6、8、10以及最多20个孔，例如6个梁单元以及3或6个(或更多个)孔，或者3个梁元件与3、6、9个或更多个孔。根据本发明的实施例，延伸的梁元件的数量等于延伸穿过圆盘元件的孔的数量。

在优选的实施例中，四个梁元件被附接到圆盘元件并且延伸超过圆盘元件的外周。在该优选实施例中，在圆盘元件上还定位有四个孔，使得这四个孔在纵向方向上延伸穿过圆盘元件。根据本发明的其他实施例，圆盘元件可以包括五个或更多个、优选地为五到八个并且最多十二个梁元件，即五到十二个梁元件。对应的五到十二个、优选地五到八个梁元件可以对应地具有五到十二个、优选地五到八个孔，所述孔位于圆盘元件上，使得这些孔在纵向方向上延伸穿过圆盘元件。所述孔的轴线可以平行于圆盘元件的轴线，圆盘元件的所述轴线穿过圆盘元件的中心点。

根据本发明的另一实施例，所述至少两个孔和所述至少两个梁元件相对于所述圆周方向以交替的方式布置在圆盘元件上。

这意味着在圆盘元件处具有四个梁元件和四个孔的情况下，相对于圆周方向，每个梁元件之间的角度为90°，每个孔之间的角度也为90°。在两个延伸的梁元件之间，相对于圆周方向在圆盘元件上布置一个孔。类似地，相对于圆周方向，在圆盘元件上的两个孔之间布置一个延伸的梁元件。

根据本发明的另一实施例，所述至少两个孔中的每个都相对于圆周方向等距地布置在所述至少两个梁元件之间。

这意味着在具有四个孔和四个延伸的梁元件的情况下，每个孔之间的角度相对于圆周方向为90°，并且每个延伸的梁元件之间的角度相对于圆周方向为90°。此外，在具有四个孔和四个延伸的梁元件的情况下，梁元件与相邻孔之间的角度在圆周方向上为45°。然而，在优选实施例中，所述孔和所述延伸的梁元件相对于圆周方向以交替方式布置在圆盘元件上。在对附图的描述中将更详细地描述该方面。

根据本发明的另一实施例，所述至少两个梁元件在纵向方向上的延伸大于圆盘元件在纵向方向上的延伸。换句话说，所述至少两个梁元件具有沿纵向方向测量的这样的厚度，所述厚度大于同样沿所述纵向方向测量的圆盘元件的厚度。这意味着所述至少两个梁元件在延伸的梁元件与圆盘元件重叠的区域中(例如在其中延伸的梁元件不延伸超过圆盘元件的外周的区域中)从圆盘元件的抵接表面突出。特别地，可以存在延伸的梁元件的两个部分，其中在延伸的梁元件的第一部分中，延伸的梁元件不延伸超过圆盘元件的外周并且因此与圆盘元件重叠，而在延伸的梁元件的第二部分中，延伸的梁元件延伸超过圆盘元件的外周并且因此在圆盘元件的延伸方向或径向方向上突出超过圆盘元件的外周。

根据本发明的另一实施例，所述至少两个梁元件在纵向方向上的延伸是可调节的。

特别地，所述至少两个梁元件在纵向方向上是高度可调节的。可以通过手动改变所述至少两个梁元件来调节所述至少两个梁元件在纵向方向上的延伸。然而，也可以通过附接到圆盘元件的所述至少两个梁元件的形状的变化来调节所述至少两个梁元件在纵向方向上的延伸。如果梁元件形成盘的一部分(例如如果圆盘元件和梁元件由铸铁制造而成)则尤其是这种情况。换句话说，术语“可调节的”并不一定意味着立即的调节，而是也指这样的调节：其是通过生产具有不同梁形状的圆盘元件而实现。

梁元件和圆盘元件可以一体地制造。然而，梁元件和圆盘元件也可以被分开制造，其中梁元件可释放地连接到圆盘元件。

根据本发明的另一实施例，圆盘元件还包括由弯曲的配合表面限定的内周，其中，圆盘元件通过压配合连接或形状配合连接而能够附接到旋转轴。

这样的压配合连接或形状配合连接可以提供圆盘元件在旋转轴上的可靠配合。例如，圆盘元件可以借助于配合键附接到旋转轴。但是，圆盘元件也可以通过熔焊或钎焊连接而附接到旋转轴。然而，优选的是，圆盘元件通过可释放连接附接到旋转轴。

圆盘元件还可以包括在内周的区域中的套筒元件或套筒，其中，套筒元件在纵向方向上从圆盘元件的抵接表面突出。特别地，位于圆盘元件的内周处的套筒元件比圆盘元件的其余区域更厚，使得可以实现与旋转轴更好的压配合连接或形状配合连接。特别地，可以实现与旋转轴的这种连接的更好的稳定性。

根据本发明的另一个实施例，至少两个梁元件延伸超过圆盘元件的外周的长度是可调节的。

特别地，梁元件的所述第二部分(例如梁元件的延伸超出圆盘元件的外周的部分)是可调节的。可以通过手动改变梁元件的长度来进行该调节，例如通过将梁元件移动到另一位置。但是，也可以通过制造具有不同梁长度的梁元件来进行该调节。

根据本发明的另一实施例，延伸穿过圆盘元件的至少两个孔的直径是可调节的。可以通过将指定的板附接到圆盘元件来执行对所述至少两个孔的直径的调节，其中所述指定的板各自具有直径不同的孔。以这种方式，可以手动调节圆盘元件中的所述至少两个孔的直径。该方面也将在附图的描述中更详细地描述。

根据本发明的另一实施例，所述至少两个梁元件通过从压配合连接、形状配合连接、键连接、粘合剂连接、熔焊连接和钎焊连接构成的组中选择的连接而附接到圆盘元件。

在优选的实施例中，所述至少两个梁元件通过键连接或键接头附接到圆盘元件。特别地，优选实施例包括四个梁元件，所述四个梁元件通过键连接附接至圆盘元件。该连接，特别是键连接可以位于圆盘元件的切口部分处。切口部分(梁元件在该切口部分处被安装到圆盘元件)可以在圆盘元件的外周上形成凹部。

根据本发明的另一实施例，圆盘元件包括三个，四个，五个，六个，七个或八个梁元件。根据本发明的另一实施例，圆盘元件包括三个，四个，五个，六个，七个或八个孔。然而，在本发明的优选实施例中，圆盘元件包括正好四个梁元件和正好四个孔，它们如上所述以交替方式布置。

根据本发明的另一方面，提供了上述圆盘元件在研磨过程中作为研磨设备的用途。根据本发明的“研磨设备”是支持研磨过程的设备，即，支持在存在研磨珠的情况下研磨例如矿物浆料的设备。

特别地，在研磨浆料，特别是湿矿物浆料的装置中使用上述圆盘元件。可以将本发明的圆盘元件和其它具有不同形状的研磨盘的组合用作研磨过程中的研磨设备。特别地，包括本发明的圆盘元件的不同类型的研磨盘可用作研磨过程中的研磨设备。研磨过程可以描述为如下过程：其中将湿矿物浆料供给到如本文所述的研磨设备中，从而产出具有较低或减小的粒度的颗粒浆料。矿物浆料可以例如是碳酸钙浆料。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于研磨浆料的装置。该装置包括细长的腔室，该细长的腔室具有在所述细长的腔室内的第一端和第二端之间延伸的旋转轴。至少一个上述的圆盘元件被附接到所述腔室的所述第一端与所述第二端之间的所述旋转轴，使得当浆料从所述腔室的所述第一输送送至所述第二端时，在所述腔室内研磨所述浆料。

特别地，用于研磨浆料的装置(例如搅拌介质的磨机)被供给有研磨介质，所述研磨介质特别是陶瓷珠，所述研磨介质的尺寸根据所需的产品细度介于0.3mm至3.0mm之间的范围。圆盘元件的梁元件搅拌并加速所述腔室内的介质或珠。研磨主要在所述珠与所述腔室的内壁或内表面之间、以及在所述珠自身之间进行。然而，与不具有梁元件、仅具有扁平盘相比，所述梁元件提供了对介质或珠的更有效的加速。这进而提供了通过所述腔室的矿物浆料的改进的产量。此外，圆盘元件减小了在纵向方向上沿轴(例如沿所述轴的轴向方向)的旁通流。以这种方式，可以减少产品中粗颗粒的数量。这进而提供了改善的产品质量。

待研磨的浆料在细长的腔室的底部处被引入优选竖直布置的所述细长的腔室。之后，引入的浆料沿向上的方向被输送通过细长的腔室，使得经研磨的浆料可以在细长的腔室的顶部处被从细长的腔室排出。在浆料被输送通过细长的腔室期间，浆料的粗颗粒被精制，使得例如精制后的浆料的产品可以在细长的腔室的顶部处被排出。在所述细长的腔室内，旋转轴旋转，以使得附接到所述旋转轴的一个或多个圆盘元件也旋转。具有延伸的梁元件的旋转圆盘元件在旋转的同时使珠加速并且减少沿轴的旁路流。所需的产品粒度可以通过调节进料速度、浆料浓度、研磨介质或珠的量和/或磨机轴的速度来获得。

可以使用本发明的圆盘元件和旋转轴上的其它旋转盘的组合来研磨细长的腔室内的浆料。

根据本发明的实施例，多个圆盘元件被附接到所述腔室的所述第一端与所述第二端之间的旋转轴，使得当将浆料从所述腔室的所述第一端输送到所述第二端时，在所述腔室内研磨浆料。

特别地，本发明的圆盘元件在所述细长的腔室内并置或以连续的方式布置。因此，引入的待研磨的浆料通过布置在细长的腔室内的多个圆盘元件中的若干个、特别是全部圆盘元件。所述多个圆盘元件可以在细长的腔室内与具有不同形状的多个其它圆盘元件相组合。

应当理解，所述细长的腔室的所述第一端包括腔室的入口，在所述入口中待研磨的浆料被供给到所述细长的腔室中，所述第二端包括腔室的出口，在所述出口中经研磨的浆料或精制的浆料被从所述细长的腔室排出。

根据本发明的另一个实施例，多个突出元件附接到所述腔室的内表面，其中所述多个突出元件中的每个均突出到细长的腔室中，以使得所述多个突出元件中的每个突出元件的一部分布置在两个相应的圆盘元件之间。

特别地，在细长的腔室内实现突出元件和圆盘元件的交替布置。所述突出元件也可以具有盘的形状，所述盘具有中心通孔，用于研磨浆料的装置的旋转轴延伸穿过所述中心通孔。然而，突出元件和旋转轴未连接。而是在它们之间存在一定距离，这允许浆料输送通过所述腔室。因此，突出元件通过其外周附接到细长的腔室的内壁或表面中。因此，旋转的圆盘元件附接到旋转轴，其中突出元件附接到细长的腔室。突出元件垂直于旋转轴的纵向方向或圆盘元件的纵向方向突出到细长的腔室中。可以存在圆盘元件(尤其是圆盘元件的梁元件)的一区域，在所述区域中当沿纵向方向观察时，这些梁元件与突出元件重叠。换句话说，所述多个突出元件中的每个突出元件的一部分布置在两个相应的圆盘元件之间，例如，布置在延伸超过圆盘元件的外周的两个相应梁元件之间。然而，在梁元件和突出元件之间没有直接连接。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于研磨矿物浆料的方法。在该方法的步骤中，将浆料供给到细长的腔室，所述细长的腔室具有在所述细长的腔室的第一端和第二端之间延伸的旋转轴。在第二步骤中，使至少一个如上所述的圆盘元件在细长的腔室内旋转，其中该至少一个圆盘元件附接到在所述腔室的所述第一端和所述第二端之间延伸的旋转轴。在该方法的另一步骤中，当将浆料从所述腔室的所述第一端输送到所述第二端时，在所述腔室内研磨浆料。

圆盘元件，特别是圆盘元件的延伸的梁元件使得所述腔室内的浆料加速，以使得浆料的珠与所述腔室的内表面或内壁相互作用，从而精制矿物浆料。此外，在将浆料输送通过腔室期间，珠和浆料本身之间的相互作用也导致对浆料的精制。在所述腔室内研磨浆料之后，将所述浆料从所述腔室的所述第二端排出，特别地从布置在所述腔室的顶部的腔室的出口处将所述浆料排出，以使得排出的经研磨的浆料可以被用于进一步处理。

附图说明

图1示意性地示出了根据本发明的实施例的圆盘元件。

图2示意性地示出了具有两个根据本发明的实施例的圆盘元件的用于研磨浆料的装置的一部分。

图3示出了根据本发明实施例的不具有延伸的梁元件的圆盘元件的俯视图。

图4示出了根据本发明实施例的圆盘元件的等距视图。

图5示出了根据本发明实施例的圆盘元件的俯视图。

图6示出了根据本发明实施例的梁元件的侧视图。

图7示出了根据本发明实施例的不具有延伸的梁元件的圆盘元件的横截面图。

图8示出了根据本发明另一实施例的圆盘元件的等距视图。

图9示出了根据本发明另一实施例的圆盘元件的俯视图。

图10示出了根据本发明另一实施例的圆盘元件的侧视图。

图11示出了具有多个根据本发明实施例的圆盘元件的旋转轴的等距视图。

图12示出了具有常规盘元件和根据本发明实施例的圆盘元件的组合的旋转轴。

图13示出了根据本发明的实施例的用于研磨浆料的装置。

图14示出了穿过根据本发明实施例的圆盘元件的横截面图。

图15示出了根据本发明的实施例的用于研磨矿物浆料的方法。

具体实施方式

图1示出了具有延伸的梁元件20的圆盘元件10，其中，延伸的梁元件20延伸超过圆盘元件10的外周11。圆盘元件10还包括孔30，所述孔特别是通孔，所述通孔延伸穿过圆盘元件10。圆盘元件10还包括另外的孔或中心孔14，其用于接收未在图1中示出的旋转轴。换句话说，圆盘元件10包括内周12，所述内周12限定中心孔14。因此，圆盘元件10在圆盘元件10的内周12处包括具有圆形形状的弯曲配合表面13。

孔30可以具有蒸汽孔的功能，该蒸汽孔被布置成距圆盘元件10的中心一定距离处。在图1中，每个孔30均与圆盘元件10的中心间隔开相同的距离。

梁元件20以使得延伸的梁元件20延伸超过圆盘元件10的外周11的方式附接至圆盘元件10。特别地，延伸的梁元件20可以分为两部分，其中，梁元件20的第一部分与圆盘元件10重叠，而另一部分，例如具有延伸的梁元件20的长度21的第二部分延伸超过圆盘元件10的外周11并且因此不与圆盘元件10重叠。

延伸的梁元件20相对于圆盘元件10的圆周方向120以等距方式彼此间隔开。图1的实施例示出了六个延伸的梁元件20的布置，所述六个延伸的梁元件附接至圆盘元件10。在这种情况下，延伸的梁元件20中的每个之间相对于圆周方向120的角度为60°。

在延伸的梁元件20中的每个之间，布置一个孔30。换句话说，孔30和梁元件20以交替的方式布置在圆盘元件10上。每个孔30和每个梁元件20之间在圆周方向120上的角度可以相同。因此，孔30和延伸的梁元件20相对于圆周方向120以交替的方式等距地布置在圆盘元件10上。

延伸的梁元件20在径向方向上延伸，其中径向方向与梁元件20的延伸方向100一致。因此，图1示出了本发明的圆盘元件10的最简单的实施例，其中梁元件20沿圆盘元件10的径向方向延伸。

图2示出了在旋转轴40上的两个圆盘元件10的布置，其中，圆盘元件10通过压配合连接或形状配合连接附接到旋转轴40。优选地，通过配合键连接将圆盘元件10附接到旋转轴40。

图2还示出了用于研磨浆料的装置的腔室2的一部分，其中，突出元件3突出到细长的腔室2中。在图2中仅示出了其一部分的细长的腔室2沿纵向方向110延伸。此外，旋转轴40还沿着纵向方向110延伸，使得圆盘元件10并置地附接到旋转轴110。

突出元件3可以被想象成圆盘元件，所述圆盘元件经由其外周附接到腔室2。换句话说，突出元件3附接至静止的腔室2，并且圆盘元件10附接至旋转轴40。因此，圆盘元件10在静止的腔室2内旋转，以便加速待输送通过腔室2的珠。例如，在图2中还示出了浆料的移动路径51，例如浆料的珠的移动路径。也被称为搅拌臂的圆盘元件10的梁元件20使得腔室2内的珠加速，从而可以通过珠自身之间以及珠与腔室2的内壁或内表面之间的相互作用来实现珠的精制。在图2中还示出了研磨区52。该研磨区52示出了借助于延伸的梁元件20、腔室2的内壁和突出元件3来对珠进行研磨或精制的区域。

图3示出了不具有梁元件20的圆盘元件10的俯视图。该图阐明了圆盘元件10在其外周处包括切口部分15，例如切割部分，其中切口部分15提供了用于接收未在图3中示出的延伸的梁元件20的区域。在优选实施例中，圆盘元件10正好包括四个切口部分15以用于正好接收四个延伸的梁元件20。

圆盘元件10包括外周11，该外周限制圆盘元件本身的外径。圆盘元件10的直径可以介于260mm和300mm之间。优选地，圆盘元件10的直径为大约280mm。圆盘元件10包括中心孔14，其中中心孔14由内周12限定。然而，内周12由弯曲的配合表面13限定，该弯曲的配合表面适于接收未在图3中示出的旋转轴40。圆盘元件10包括套筒元件16，该套筒元件布置在圆盘元件10的内周12处，并且该套筒元件形成相对于纵向方向比圆盘元件10的其余部分更厚的区域。在图7中可以看到该方面，其示出了套筒元件16在圆盘元件10的纵向方向110上具有比圆盘元件10的其余部分更大的延伸。

圆盘元件10包括径向方向101，该径向方向的原点在圆盘元件10的中心点。特别地，圆盘元件10具有多个径向方向101，所述多个径向方向的径向原点均在圆盘元件10的中心点。沿着圆盘元件10的外周11测量圆周方向120。

通孔30位于圆盘元件10上。孔30可以具有可调节的直径31。孔30相对于圆周方向120以等距的方式布置在圆盘元件10上。类似地，位于圆盘元件10的外周11处的切口部分15也相对于圆周方向102以等距的方式布置在圆盘元件10处。

图4示出了圆盘元件10的等距视图，该圆盘元件在圆盘元件10的切口部分15的区域中具有四个延伸的梁元件20。延伸的梁元件20延伸超过圆盘元件10的外周11。此外，在圆盘元件10上布置有四个孔30。梁元件20沿圆周方向120彼此等距地间隔开，并且孔30也在圆盘元件10上彼此等距地间隔开。图4中的等距视图还示出在圆盘元件10的内周12处的套筒元件16具有比圆盘元件10的其余部分更大的厚度。套筒元件16在其内周12处提供弯曲的配合表面13，该弯曲的配合表面适于接收未在图4中示出的旋转轴40。因此，圆盘元件10在套筒元件16的区域中提供中心孔14，该中心孔沿着纵向方向110穿过圆盘元件10。与圆盘元件10的中心点间隔开的孔30也在纵向方向110上延伸或平行于圆盘元件10的中心轴线。

图5示出了图4所示的圆盘元件10的俯视图。从图5可以看出，可以识别孔30相对于圆周方向120的等距布置。类似地，在图5中也可以识别出延伸的梁元件20相对于圆周方向120的等距布置。

与图1所示的实施例相反，梁元件20的延伸方向100与圆盘元件10的径向方向101间隔开。然而，梁元件20的延伸方向100布置成与圆盘元件10的径向方向101平行。在这个方面中，图5所示的圆盘元件10与图1所示的实施例不同。然而，图5所示的圆盘元件10同样包括孔30和梁元件20相对于圆盘元件10的圆周方向120的交替布置。

图5还示出了延伸的梁元件20在第一部分中与圆盘元件10重叠并且在第二部分中延伸超过圆盘元件10的外周11。延伸的梁元件20在梁元件20的所述第一部分的区域中(即在梁元件20与圆盘元件10的重叠区域中)通过键连接22连接到圆盘元件10。

图5还示出了附接设备35，所述附接设备例如呈孔30附近的附接孔的形式。这些附接设备35可以被构造成用于将板附接至圆盘元件10，其中所述板在图5中未示出。图8和图9中描述的板可以被构造成适配圆盘元件10上的孔30的直径。

图6示出了梁元件20的侧视图，该梁元件20适于连接至图6中未示出的圆盘元件10。梁元件20包括凹部26，该凹部被构造成接收圆盘元件10的连接部分，特别是用于通过键连接22或键接头将梁元件20连接到圆盘元件10。梁元件20还包括呈细长孔形式的、具有半径27的狭槽25。半径27例如为约13mm。狭槽25在延伸的梁元件20的延伸方向100上延伸。狭槽25构造成用于接收紧固元件，例如螺钉，如将在图8和图9中更详细地描述。

图7示出了穿过图3中所示的圆盘元件的横截面a﹣a。图7的横截面图示出套筒元件16具有比圆盘元件10的其余部分更大的厚度。套筒元件16适于利用其弯曲的圆形配合表面13接收图7中未示出的旋转轴40。特别地，图7中未示出的旋转轴40被圆盘元件10的中心孔14接收。沿纵向方向110的套筒元件16的增加的厚度提供了旋转轴40和圆盘元件10之间的合适连接。图7还示出了圆盘元件的外周11。

图8示出了根据本发明另一实施例的圆盘元件10的等距视图。其中，圆盘元件10的延伸的梁元件20各自包括延伸元件28，该延伸元件通过紧固元件29(特别是通过螺钉连接件)而紧固到梁元件20。图8示出了延伸元件28通过两个螺钉固定至相应的梁元件20。紧固元件29(例如螺钉)延伸穿过梁元件20的细长孔25，以便紧固延伸元件28。延伸元件可以具有长方体的形状。延伸元件28在至少两个边缘处可以被倒角，当延伸元件28被紧固到梁元件20上时，该至少两个边缘指向梁元件20。

图8还示出了板36，所述板附接到圆盘元件10的抵接表面上。板36具有孔30，并且特别地提供用于适配孔30的直径的设备。特别地，可以提供具有不同尺寸或直径的板36并将其紧固在圆盘元件10的抵接表面上，以便适配孔30的直径。可以通过紧固元件37将板36紧固到圆盘元件10上，所述紧固元件对应于图5中所示的紧固孔35。

图9示出了图8所示的圆盘元件10的俯视图。该图清楚地示出了延伸的梁元件20各自具有与圆盘元件10的径向方向101平行的延伸方向100。图9还示出了延伸的梁元件20相对于圆周方向120以等距的方式附接到圆盘元件10。圆盘元件10的直径18可以介于260mm和300mm之间。优选地，圆盘元件10的直径18约为280mm。圆盘元件10的中心孔14的直径可以介于60mm和100mm之间。优选地，中心孔14的直径17约为80.3mm。

延伸元件28通过紧固元件29附接至梁元件20中的每个。紧固元件29可以是螺钉，其延伸穿过未在图9中示出的梁元件20的细长孔25。例如螺钉的紧固元件29垂直于纵向方向110延伸穿过梁元件20，以便将延伸元件28紧固到梁元件20。图9示出了一种构造，在所述构造中，正好两个螺钉将延伸元件28附接到梁元件20。

图9还示出了板36在圆盘元件10的抵接表面上的布置，以便适配圆盘元件10中的孔30的直径。紧固元件37也用于将板36紧固到圆盘元件10。图9示出了板36相对于圆周方向102在圆盘元件10上彼此等距地间隔开。

图9示出了在圆盘元件10的切口部分15的区域中正好布置了四个梁元件的构造，每个梁元件均具有延伸元件28。图9还示出了其中正好四个孔30布置在圆盘元件10上的构造，每个孔的直径能够通过板36内的孔来调节，所述板能够安装到圆盘元件10的抵接表面。在图9所示的构造中，孔30相对于圆盘元件10的圆周方向120彼此等距地间隔开，其中每个孔30之间的角度等于90°。所述构造还示出了孔30和梁元件20在圆盘元件10上的交替布置。

图10示出了图9中所示的圆盘元件10的侧视图。图10清晰地示出例如螺钉的紧固元件29延伸穿过梁元件20的细长孔25。细长孔25在延伸元件28和延伸的梁元件20之间提供可调节的连接。换句话说，延伸元件28延伸超过圆盘元件的外周11的长度可以通过在细长孔25内移动延伸元件28来调节。应该理解，延伸元件28可以是梁元件20的一部分。然而，延伸元件28也可以被认为是相对于梁元件20的独立部分。

图11示出了旋转轴40的等距视图，所述旋转轴上安装有具有延伸的梁元件20的多个圆盘元件10。图11还示出了延伸元件28被安装到多个圆盘元件10中的每个圆盘元件10的相应的延伸的梁元件20上。

图12示出了具有延伸的梁元件20和安装在其上的延伸元件28的本发明的圆盘元件10与用于研磨浆料的常规旋转盘200的组合。不同类型的研磨盘的布置的不同实施例是可行的。

图13示出了用于研磨浆料的装置，该装置包括细长的腔室2，该细长的腔室具有安装在细长的腔室2内的旋转轴40。旋转轴40在细长的腔室2内的第一端2a和第二端2b之间延伸。多个本发明的圆盘元件10在底部的区域中(例如在腔室2的第一端2a处)安装在旋转轴40上。这些本发明的圆盘元件10与其它旋转盘200组合，所述其它旋转盘在顶部(例如在腔室2的第二端2b)处安装到旋转轴40。

具有待研磨的颗粒材料的浆料50在第一端2a处被引入到腔室2中，并且被输送通过腔室2到顶部(例如到腔室2的第二端2b)，在所述顶部处，研磨后的浆料被从腔室2排出。在其从腔室2的第一端2a到第二端2b的途中，浆料被研磨并且因此借助于圆盘元件10、腔室2内的研磨介质(如陶瓷研磨珠)和细长的腔室2的内壁或内表面4而被精制。此外，突出元件3安装在腔室2的内壁或内表面4上，其中突出元件3垂直于纵向方向110突出到腔室2中。浆料50的流动路径51也在图13中示出。通过圆盘元件10(其加速研磨介质(珠))与腔室2的内壁或内表面4以及与伸入腔室2中的突出元件3的相互作用来执行对浆料中的颗粒材料的研磨。突出元件3可以具有盘形状，所述盘形状经由它们的外周附接到腔室2的内壁4上。特别地，突出元件3提供了与圆盘元件10相对的盘，而一个突出元件可以布置在圆盘元件10的至少一部分之间，特别是布置在圆盘元件10的梁元件20的至少一部分之间。

可能只有80％的圆盘元件(例如混合盘)与这些相对的盘(例如突出元件3)结合在一起。例如，在顶部2b处的圆盘元件10的10％和在底部2a处的圆盘元件10的10％可能不与相对的盘相互插入。换句话说，布置在用于研磨浆料的装置1内的圆盘元件10中的仅80％在它们之间布置有突出元件3，而另外20％的圆盘元件10在它们之间没有布置突出元件3。

图14示出了根据本发明实施例的圆盘元件10的横截面视图。特别地，图14示出了除腔室2之外的图13的横截面b﹣b。图14的截面b﹣b示出了穿过具有四个梁元件20的圆盘元件10的横截面，所述梁元件带有安装在其上的延伸元件28。延伸元件28通过紧固元件29，特别是通过螺钉而紧固至梁元件20。图14进一步示出了孔30的布置，所述孔在纵向方向上延伸穿过圆盘元件10。此外，示出了用于接收图9的紧固元件37的紧固孔35。

图14还示出了圆盘元件10通过配合键43而连接到旋转轴40。

图15示出了用于研磨矿物浆料的方法。在该方法的第一步骤s1中，将浆料50供给到细长的腔室2中，所述腔室具有在细长的腔室2的第一端2a和第二端2b之间延伸的旋转轴40。在第二步骤s2中，使至少一个如上所述的圆盘元件10旋转，其中，该至少一个圆盘元件10附接到在腔室2的第一端2a和第二端2b之间延伸的旋转轴40。在另一步骤s3中，当将浆料50从腔室2的第一端2a输送到第二端2b时，在腔室2内研磨浆料50。特别地，通过浆料50与腔室内的研磨介质(研磨珠)、颗粒材料本身的相互作用以及浆料50与腔室2的内壁4和伸入到腔室2中的突出元件3之间的相互作用来研磨所述浆料。搅拌臂(例如圆盘元件10的梁元件20)可以被构造为用于加速腔室2内的研磨介质/珠和浆料50。

尽管已经在附图和前述描述中详细示出和描述了本发明，但是这样的示出和描述应被认为是说明性和示例性的而非限制性的；本发明不限于所公开的实施例。通过研究附图、公开内容和所附权利要求，本领域技术人员可以理解和实现所公开的实施例的其他变体方案并且实践要求保护的发明。在权利要求中，术语“包括”不排除其他元件，并且不定冠词“一”或“一个”不排除多个。在互不相同的从属权利要求中记载的某些措施的事实并不表示不能有利地使用这些措施的组合。权利要求中的任何附图标记都不应被解释为限制保护范围。