一种单晶硅片抛光液回收过滤装置的制作方法

本实用新型涉及单晶硅片相关领域，具体为一种单晶硅片抛光液回收过滤装置。

背景技术：

熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。单晶硅具有准金属的物理性质，有较弱的导电性，其电导率随温度的升高而增加，有显著的半导电性。单晶硅的制法通常是先制得多晶硅或无定形硅，然后用直拉法或悬浮区熔法从熔体中生长出棒状单晶硅。单晶硅主要用于制作半导体元件。硅结晶型的硅是暗黑蓝色的，很脆，是典型的半导体，化学性质稳定；在常温下，除氟化氢以外，很难与其他物质发生反应。

单晶硅片是通过单晶硅切片加工而成，在切割加工后需要通过抛光液对切割部位进行抛光，使用后的抛光液中含有部分杂质，需要处理后回收利用。目前对于抛光液的回收过滤装置基本是直接通过滤网进行过滤，但抛光液中部分大粒径杂质在过滤时会堵塞滤网的部分滤孔，随着过滤时间的增加，抛光液的过滤速度越慢，回收过滤效率逐渐降低；因此市场急需研制一种单晶硅片抛光液回收过滤装置来帮助人们解决现有的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种单晶硅片抛光液回收过滤装置，以解决上述背景技术中提出的目前抛光液直接通过滤网进行过滤时，部分大粒径杂质会逐渐堵塞滤网的滤孔，过滤速度减慢，回收过滤效率逐渐降低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种单晶硅片抛光液回收过滤装置，包括防护壳体，所述防护壳体内壁的内部设置有抛光液静置腔，抛光液静置腔设置为u形，所述防护壳体一侧的上端安装有抛光液进管，抛光液进管的一端延伸至抛光液静置腔的内部，所述防护壳体另一侧的上端安装有清液输入管，清液输入管的一端延伸至抛光液静置腔的内部，所述防护壳体下端的两侧分别安装有第一排渣管和第二排渣管，第一排渣管和第二排渣管对称设置，第一排渣管和第二排渣管的一端均延伸至抛光液静置腔的内部；所述防护壳体的内部设置有过滤腔，所述过滤腔的中间安装有旋转滤筒，旋转滤筒与防护壳体通过轴承转动连接，所述防护壳体一侧沿清液输入管的下端安装有回收管，回收管的一端延伸至过滤腔的内部。

优选的，所述防护壳体上端的一侧安装有输送泵，清液输入管的另一端与输送泵的输入端连接，所述输送泵的输出端连接有清液输出管。

优选的，所述清液输出管的下端安装有输液管，输液管延伸至旋转滤筒的内部，所述输液管上安装有输液头。

优选的，所述防护壳体的下端安装有驱动电机，所述抛光液静置腔内部的中间设置有中间连接块，中间连接块与防护壳体内壁固定连接，驱动电机的输出轴穿过中间连接块与旋转滤筒通过键槽固定。

优选的，所述防护壳体下端沿驱动电机的两侧焊接固定有支脚。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、该实用新型中，在防护壳体的内部设置有抛光液静置腔，抛光液进管进入的抛光液直接进入抛光液静置腔中，而大粒径的杂质在抛光液静置腔中逐渐沉淀，清液输入管延伸至抛光液静置腔的内部，静置得到的清液进入清液输送管中，由于抛光液进管和清液输入管位于两个方向，抛光液静置腔设置为u形，输送至清液输入管内的抛光液静置液中仅含有粒径小的悬浊杂质，大粒径杂质沉淀至抛光液静置腔的下端，通过第一排渣管排出，仅含有粒径小悬浊杂质的抛光液清液到达下一回收过滤程序，因此解决了目前抛光液直接通过滤网进行过滤时，部分大粒径杂质会逐渐堵塞滤网的滤孔，过滤速度减慢，回收过滤效率逐渐降低的问题。

2、该实用新型中，在防护壳体内部过滤腔的中间设置有旋转滤筒，抛光液清液到达旋转滤筒内部，通过驱动电机带动旋转滤筒的转动从而扰动内部水流转动，受离心力作用，水流能够通过旋转滤筒表面的滤孔排出，杂质被截留于旋转滤筒的内部，从而完成最后的回收过滤，由于开始对抛光液的静置沉淀，再进入旋转滤筒内部过滤时不会有大粒径杂质堵塞滤孔的情况。

3、该实用新型中，静置后的抛光液清液通过输送泵输送至清液输出管，再进入输液管内，通过输液头进入旋转滤筒的内部，在旋转滤筒转动对抛光液清液进行离心过滤时，输液头输出水流能够扰动内部的水流，从而冲刷旋转滤筒的内表面，减轻部分悬浊杂质堵塞滤孔的情况。

附图说明

图1为本实用新型的一种单晶硅片抛光液回收过滤装置的内部结构图；

图2为本实用新型的防护壳体的剖视图；

图3为本实用新型的旋转滤筒的内部结构示意图。

图中：1、防护壳体；2、支脚；3、抛光液进管；4、清液输出管；5、输送泵；6、清液输入管；7、回收管；8、驱动电机；9、第一排渣管；10、第二排渣管；11、旋转滤筒；12、过滤腔；13、抛光液静置腔；14、中间连接块；15、输液管；16、输液头。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

请参阅图1-3，本实用新型提供的一种实施例：一种单晶硅片抛光液回收过滤装置，包括防护壳体1，防护壳体1内壁的内部设置有抛光液静置腔13，抛光液静置腔13设置为u形，防护壳体1一侧的上端安装有抛光液进管3，抛光液进管3的一端延伸至抛光液静置腔13的内部。抛光液不直接进行过滤步骤，而是进入抛光液静置腔13的内部的内部进行静置沉淀。防护壳体1另一侧的上端安装有清液输入管6，清液输入管6的一端延伸至抛光液静置腔13的内部，清液输入管6的安装高度低于抛光液进管3的安装高度，加上u形抛光液静置腔13的设置，抛光液进管3持续进入抛光液的情况下，u形抛光液静置腔13依旧对其内部的大粒径杂质有静置效果，大粒径杂质被沉淀。防护壳体1下端的两侧分别安装有第一排渣管9和第二排渣管10，通过清液输入管6的抛光液中不含有大粒径的杂质，仅有悬浊沉淀和部分小粒径沉淀。第一排渣管9和第二排渣管10对称设置，第一排渣管9和第二排渣管10的一端均延伸至抛光液静置腔13的内部，抛光液静置腔13下端底板向第一排渣管9和第二排渣管10位置略微倾斜。

进一步，防护壳体1的内部设置有过滤腔12，过滤腔12的中间安装有旋转滤筒11，旋转滤筒11与防护壳体1通过轴承转动连接，防护壳体1一侧沿清液输入管6的下端安装有回收管7，回收管7的一端延伸至过滤腔12的内部。

进一步，防护壳体1上端的一侧安装有输送泵5，清液输入管6的另一端与输送泵5的输入端连接，输送泵5的输出端连接有清液输出管4。

进一步，清液输出管4的下端安装有输液管15，输液管15延伸至旋转滤筒11的内部，旋转滤筒11与输液管15之间通过轴承连接，使输液管15位置固定不动，输液管15上安装有输液头16，输液头16、输液管15和清液输出管4连通。

进一步，防护壳体1的下端安装有驱动电机8，抛光液静置腔13内部的中间设置有中间连接块14，中间连接块14宽度小于抛光液静置腔13的宽度，因此不会阻挡抛光液静置腔13内部抛光液的流动，避免驱动电机8的输出轴与抛光液之间摩擦，中间连接块14与防护壳体1内壁固定连接，驱动电机8的输出轴穿过中间连接块14与旋转滤筒11通过键槽固定。

进一步，防护壳体1下端沿驱动电机8的两侧焊接固定有支脚2。

工作原理：使用时，抛光液通过抛光液进管3进入直接进入抛光液静置腔13中，大粒径的杂质在抛光液静置腔13中逐渐沉淀，由于抛光液进管3和清液输入管6位于两个方向，且抛光液静置腔13为u形，即使不停的进入抛光液，到达清液输入管6的抛光液清液中仅含有粒径小悬浊杂质。输送泵5通过清液输入管6将抛光液清液抽出，通过清液输出管4进入输液管15内，输液管15上输液头16将抛光液清液喷淋于旋转滤筒11内部。旋转滤筒11在驱动电机8的驱动下慢速转动，旋转滤筒11内部的抛光液清液受离心力作用贴于旋转滤筒11的内壁，从而通过旋转滤筒11上滤孔进行过滤，而输液头16在旋转滤筒11旋转过滤的同时喷淋出抛光液清液对旋转滤筒11内部水流扰动。过滤的抛光液通过回收管7排出，抛光液静置腔13内部静置的大杂质沉淀通过第一排渣管9和第二排渣管10排出，旋转滤筒11内部的沉淀通过打开旋转滤筒11上固定的拉门清理出。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。