一种脱硫废液吸收塔用再分布装置的制作方法

1.本发明涉及脱硫废液处理技术领域，尤其涉及一种脱硫废液吸收塔用再分布装置。


背景技术：

2.脱硫，作为净化工序的第一步，在生产过程中尤为重要；脱硫废液处理过程中，对于吸收塔的选择大多仍是采用传统的填料塔；填料塔是以塔内的填料作为气液两相间接触构件的传质设备，液体在初始分布后，经填料层向下流动时，有逐渐向塔壁集中的趋势，使得塔壁附近的液流量逐渐增大，这种现象称为壁流，壁流效应造成气液两相在填料层中分布不均，从而使传质效率下降。
3.因此如何设计一种能够使溶液分布均匀，避免造成偏流从而影响脱硫效率和效果的再分布装置是目前仍需解决的问题。


技术实现要素：

4.为了克服现有技术的缺陷，本发明所要解决的技术问题在于提出一种使液体均匀分布、防止流壁的同时保证气液两相的接触，从而提高传质效率的再分布装置。
5.为达此目的，本发明采用以下技术方案：
6.本发明提供的一种脱硫废液吸收塔用再分布装置，包括设置于吸收塔内壁的集料盘，所述集料盘的出口端连接有导入通道，所述导入通道底侧设置有接料盘；
7.所述导入通道内壁滑动连接有分布件，所述导入通道外壁的凹槽内滑动设置有复位组件，所述接料盘顶侧设置有接料槽，所述接料槽底侧均匀设置有若干组布液孔，所述布液孔底侧安装有布液管，所述布液管底侧设置有布液装置，液体经过三次再分布，提高液体与气体之间的接触面积，此时液体被分散成多组，对气体向上流动的阻力减小，且液体保持均匀分布的同时能够防止液体流壁，保证气液两相的接触，从而提高传质效率。
8.本发明优选地技术方案在于，所述分布件包括与所述导入通道内壁滑动连接的活动板，所述活动板顶侧设置有若干组分隔板，所述分隔板将活动板分隔成若干组分布区，通过液体的第一次再分布，实现液体分布的均匀性，防止偏流。
9.本发明优选地技术方案在于，所述复位组件包括设置于所述导入通道外壁的l型框架，所述l型框架内壁滑动连接有工字杆，且包覆于工字杆外侧，所述工字杆与l型框架的横向端之间设置有复位弹簧，为下一次液体的再分布提供准备基础，保证液体的均匀分布。
10.本发明优选地技术方案在于，所述布液装置包括设置于所述布液管底侧的布液腔，所述布液腔外壁四周设置有导流口，所述布液腔内腔底部设置有导流凸起，实现与气体的充分接触，提高气液两相的传质效率。
11.本发明优选地技术方案在于，所述导流凸起顶部为圆滑的弧形面，且四周与所述导流口的端口底侧相连接，被多次分散的液体在流向吸收塔时，减少对气体的阻力，并增大了与气体的接触面积。
12.本发明优选地技术方案在于，所述分隔板一端通过滑杆与所述导入通道内壁的滑槽滑动连接，所述滑杆一侧与工字杆底端的横向端连接，并带动工字杆沿导入通道外壁的凹槽滑动，随着工字杠带动滑杆向上移动而上移，将分布出口进行隔断，为下一次液体再分布提供保障，保证液体分散的均匀。
13.本发明优选地技术方案在于，所述导入通道底部外壁四周均匀设置有若干组分布出口，所述分布出口与所述接料槽相连通，当分布件向下移动过程中，使一次再分布的液体经过分布出口流向接料槽，实现二次再分布。
14.本发明优选地技术方案在于，所述接料槽的槽壁上对应布液孔设置有阻挡块，提高液体分布的速度，从而提高后期气液两相之间传质的效率。
15.本发明优选地技术方案在于，所述分布出口与位于所述导入通道外壁底侧的凹槽之间相互连通，提高液体二次再分布的分布速度，快速将液体进行再次分散，防止流壁的同时减小对气体流向的阻力。
16.本发明的有益效果为：本发明通过集料盘对液体进行收集后，流向导入通道，在分布件的分隔板的作用下，对液体进行第一次再分布，完成第一次再分布后的液体在分布件带动复位组件下移的过程中，经过分布出口流向接料槽，均匀从布液孔流向布液管，完成液体的第二次再分布，液体从布液管流向布液腔，在导向凸起的作用下，使液体均匀的流向四周的导流口，并经过导流口流向吸收塔内部，完成第三次再分布，提高液体与气体之间的接触面积，此时液体被分散成多组，对气体向上流动的阻力减小，且液体保持均匀分布的同时能够防止液体流壁，保证气液两相的接触，从而提高传质效率。
17.本发明提供的一种使液体均匀分布、防止流壁的同时保证气液两相的接触，从而提高传质效率的再分布装置。
附图说明
18.图1是本发明具体实施方式中提供的再分布装置结构示意图；
19.图2是本发明具体实施方式中提供的分布件结构示意图；
20.图3是本发明具体实施方式中提供的接料盘结构示意图；
21.图4是本发明具体实施方式中提供的图1中a处结构放大示意图。
22.附图中，各标号所代表的部件列表如下：
23.1、集料盘；2、导入通道；21、滑槽；22、凹槽；23、分布出口；3、接料盘；31、接料槽；32、布液孔；33、布液管；34、阻挡块；4、分布件；41、活动板；42、分隔板；43、分布区；44、滑杆；5、复位组件；51、l型框架；52、工字杆；53、复位弹簧；6、布液装置；61、布液腔；62、导流口；63、导流凸起。
具体实施方式
24.下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
25.一种脱硫废液吸收塔用再分布装置，包括设置于吸收塔内壁的集料盘1，所述集料盘1的出口端连接有导入通道2，所述导入通道2底侧设置有接料盘3，所述导入通道2内壁滑动连接有分布件4，所述导入通道2外壁的凹槽22内滑动设置有复位组件5，所述接料盘3顶侧设置有接料槽31，所述接料槽31底侧均匀设置有若干组布液孔32，所述布液孔32底侧安
装有布液管33，所述布液管33底侧设置有布液装置6，所述导入通道2底部外壁四周均匀设置有若干组分布出口23，所述分布出口23与所述接料槽31相连通，当液体从填料层的空隙中流出时，通过集料盘1对液体进行进行收集后，经过导入通道2流向分布件4进行第一次再分布，将液体均匀分布于分布件4上，当液体逐渐进入导入通道2流向分布件4的过程中，分布件4带动复位组件5下移，当分布件4移动至与分布出口23相连通时，液体经过分布出口23进入与之连通的接料槽31内进行第二次再分布，使导入通道2中的液体经过分布出口23均匀流向接料盘3，再次将液体进行分散处理，接料盘3顶侧的布液孔32均匀设置于分布出口23的下方两侧，使二次分散后的液体均匀流向布液孔32，并经过布液管33流入布液装置6，在布液装置6的作用下对液体进行第三次再分布，提高液体与气体之间的接触面积，此时液体被分散成多组，对气体向上流动的阻力减小，且液体保持均匀分布的同时能够防止液体流壁，保证气液两相的接触，从而提高传质效率。
26.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述分布件4包括与所述导入通道2内壁滑动连接的活动板41，所述活动板41顶侧设置有若干组分隔板42，所述分隔板42将活动板41分隔成若干组分布区43，液体进入导入通道2流向分布件4，在分隔板42的作用下将液体进行均匀分布，使液体均匀落于活动板41的分布区43上，完成对液体的第一次再分布，实现液体分布的均匀性，防止偏流。
27.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述复位组件5包括设置于所述导入通道2外壁的l型框架51，所述l型框架51内壁滑动连接有工字杆52，且包覆于工字杆52外侧，所述工字杆52与l型框架51的横向端之间设置有复位弹簧53，随着分布件4的向下移动带动复位组件5下移，当分布件4上的液体完全流向接料盘3时，由于复位组件5失去向下的压力，在复位弹簧53的作用下带动工字杆52上移，同时分布件4随着复位组件5向上移动，分布出口23断开与分布区43之间的连通，为下一次液体的再分布提供准备基础，保证液体的均匀分布。
28.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述布液装置6包括设置于所述布液管33底侧的布液腔61，所述布液腔61外壁四周设置有导流口62，所述布液腔61内腔底部设置有导流凸起63，二次再分布的液体经过布液管33进入布液腔61，在导流凸起63的作用下，使液体均匀流向四周的导流口62，并从导流口62向吸收塔内流出，实现与气体的充分接触，提高气液两相的传质效率。
29.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述导流凸起63顶部为圆滑的弧形面，且四周与所述导流口62的端口底侧相连接，在导流凸起63的作用下，液体流经导流凸起63表面时，液体向四周飞溅喷射，且与导流口62端部连接，使液体被均匀分散后，从四周的导流口62流出，完成液体的第三次再分布，被多次分散的液体在流向吸收塔时，减少对气体的阻力，并增大了与气体的接触面积。
30.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述分隔板42一端通过滑杆44与所述导入通道2内壁的滑槽21滑动连接，所述滑杆44一侧与工字杆52底端的横向端连接，并带动工字杆52沿导入通道2外壁的凹槽22滑动，分隔板42随着液体的增加带动滑杆44向下移动，工字杆52随着滑杆44向下移动，当液体完成二次再分布后，分隔板42由于复位弹簧53的作用，随着工字杆52带动滑杆44向上移动而上移，将分布出口23进行隔断，为下一次液体再分布提供保障，保证液体分散的均匀。
31.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述接料槽31的槽壁上对应布液孔32设置有阻挡块34，液体二次再分布后流向接料槽31的过程中，部分液体会流向阻挡块34，在阻挡块34的缓冲和反冲击的作用下使液体流向布液孔32，提高液体分布的速度，从而提高后期气液两相之间传质的效率。
32.作为本方案的一种可能的实施方式，优选的，所述分布出口23与位于所述导入通道2外壁底侧的凹槽22之间相互连通，提高液体二次再分布的分布速度，快速将液体进行再次分散，防止流壁的同时减小对气体流向的阻力。
33.本发明是通过优选实施例进行描述的，本领域技术人员知悉，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本发明不受此处所公开的具体实施例的限制，其他落入本技术的权利要求内的实施例都属于本发明保护的范围。