一种涂布头的制作方法

文档序号:26932132发布日期:2021-10-09 17:42阅读:82来源:国知局
一种涂布头的制作方法

1.本实用新型属于液体涂布设备技术领域,特别涉及一种涂布头。


背景技术:

2.随着钙钛矿太阳电池效率的逐步攀升,其商业化的进程也越发加快了。在现有的制备钙钛矿太阳电池工艺中,涂布的好坏对钙钛矿太阳电池的影响非常大。现有的涂布设备大多是溶液通过涂布磨头涂在基板上,好的涂布液弯月面不仅能提高涂布质量,还能提升涂布速度。


技术实现要素:

3.本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种涂布头,改善涂布液的弯月面,从而提高涂布的质量,提高涂布效率。
4.本实用新型是这样实现的,提供一种涂布头,在涂布头的顶部设置进液口,在涂布头的底部设置出液口,在涂布头的内部设置容纳涂布液的储液槽,储液槽分别与进液口、出液口相连通,在涂布头内还设置真空腔室以及分别与真空腔室连通的真空接口和真空吸口,真空吸口设置在靠近出液口位置,且位于出液口的后侧。
5.进一步地,所述真空吸口的长度大于出液口的长度。
6.与现有技术相比,本实用新型的涂布头,在涂布头内设置负压腔,并在出液口的后侧设置负压腔的真空吸口,利用真空吸口的负压改善出液口的涂布液的弯月面,使涂布过程更加顺畅,从而提高涂布的质量,提高涂布效率,提升钙钛矿太阳电池的效率。
附图说明
7.图1为本实用新型涂布头一较佳实施例的立体示意图;
8.图2为图1另一角度的立体示意图;
9.图3为图1的主视图;
10.图4为图3的左视图。
具体实施方式
11.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
12.请同时参照图1至图4所示,本实用新型涂布头的较佳实施例,在涂布头1的顶部设置进液口2,在涂布头1的底部设置出液口3,在涂布头1的内部设置容纳涂布液的储液槽4。储液槽4分别与进液口2、出液口3相连通。
13.在涂布头1内还设置真空腔室5以及分别与真空腔室5连通的真空接口6和真空吸口7。真空吸口7设置在靠近出液口3位置,且位于出液口3的后侧。出液口3的前侧与涂布头1
的移动方向一致,如图4箭头所示方向为移动方向。
14.所述真空吸口7的长度大于出液口3的长度,使得从出液口3流出的涂布液的后侧面都受到真空吸口7的抽吸气体的影响,涂布液的弯月面的圆心向下,改变了弯月面的形状,使溶液流出更加顺畅。由于在同样的涂布速度下,涂布液弯月面形状改善后可以提高涂布头1的出液口3与涂敷基板的距离,直至边破缺陷产生。因此,在涂布头1的出液口3与涂敷基板的距离一定的情况下,有了真空腔室5的存在,可以适当地提高涂布速度,直至边破缺陷产生,提高涂布效率。
15.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征:
1.一种涂布头,在涂布头的顶部设置进液口,在涂布头的底部设置出液口,在涂布头的内部设置容纳涂布液的储液槽,储液槽分别与进液口、出液口相连通,其特征在于,在涂布头内还设置真空腔室以及分别与真空腔室连通的真空接口和真空吸口,真空吸口设置在靠近出液口位置,且位于出液口的后侧。2.如权利要求1所述的涂布头,其特征在于,所述真空吸口的长度大于出液口的长度。

技术总结
本实用新型涉及一种涂布头,在涂布头的顶部设置进液口,在涂布头的底部设置出液口,在涂布头的内部设置容纳涂布液的储液槽,储液槽分别与进液口、出液口相连通,其特征在于,在涂布头内还设置真空腔室以及分别与真空腔室连通的真空接口和真空吸口,真空吸口设置在靠近出液口位置,且位于出液口的后侧。本实用新型改善涂布液的弯月面,从而提高涂布的质量,提高涂布效率。高涂布效率。高涂布效率。


技术研发人员:ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者:杭州纤纳光电科技有限公司
技术研发日:2021.01.18
技术公布日:2021/10/8
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