一种使用于配液罐体的曝气盘机构的制作方法

本技术涉及曝气盘，具体为一种使用于配液罐体的曝气盘机构。

背景技术：

1、曝气盘是一种常用于溶液处理系统中的气体分散装置，在药液加工过程中，曝气盘主要作用是将溶液所需的气体均匀地分散到溶液中，以促进溶液反应，气体压缩机将气体压缩并送入微孔气盘中，如图8所示，微孔曝气盘10上开设有微小孔洞，空气从这些孔洞中释放出来，形成小气泡，然后将这些小气泡送入药液中，由于小气泡的表面积比大气泡更大，气泡能更加均匀地分布到水中，并有效提高水中气体浓度。

2、在配液罐体时，往往因为曝气盘的鼓气量不足，曝气作用范围小，物料容易从孔洞进入曝气管道堵塞进气管道孔洞，进入曝气管道内的物料难以排出，不易进行清理，需要频繁的检查曝气管路以及更换检查测试管道，操作麻烦，且曝气管路残留的物料会发生变性，若残留的物料与下一次配液反应的物料混合，会导致污染产生有害的细菌，使得药液受到污染。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种使用于配液罐体的曝气盘机构，解决了上述背景中提到的问题。

2、本实用新型提供如下技术方案：一种使用于配液罐体的曝气盘机构，包括：曝气支撑架，所述曝气支撑架的表面开设有进气口，所述曝气支撑架的顶端和底端均安装有过滤组件，所述曝气支撑架的顶端和底端均螺纹连接有固定件，所述固定件的内壁与过滤组件的表面相贴；

3、过滤组件包括过滤盘和第一密封圈，所述第一密封圈的表面与曝气支撑架的内壁连接，所述第一密封圈的内壁与过滤盘的表面连接，所述第一密封圈的顶部与固定件内壁的顶部连接。

4、优选的，所述曝气支撑架的顶端和底端均开设有安装限位槽，所述第一密封圈的表面与安装限位槽的内壁相贴。

5、优选的，所述第一密封圈的横截面呈c形。

6、优选的，所述曝气支撑架的表面对称开设有嵌槽，所述嵌槽的内壁设置有第二密封圈，且第二密封圈的表面与固定件的表面相贴。

7、优选的，所述曝气支撑架的表面对称设置有限位部，所述限位部的表面与第二密封圈的表面相贴。

8、优选的，所述第二密封圈的横截面呈矩形。

9、优选的，所述过滤盘为石英砂颗粒板过滤盘。

10、与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

11、该使用于配液罐体的曝气盘机构，通过设置曝气支撑架、过滤盘、第一密封圈、固定件和第二密封圈，曝气支撑架和固定件上下夹着过滤组件，第一密封圈包裹住过滤盘，第一密封圈对过滤盘与曝气支撑架之间的缝隙进行密封，第二密封圈对固定件与曝气支撑架之间的缝隙进行密封，避免了固定件、过滤盘与曝气支撑架之间的缝隙进入物料颗粒杂质，消除清洗死角，第一密封圈和第二密封圈，使曝气支撑架从内部到外部都保持了较好的密封性能，物料不能进入曝气盘机构的内部，方便进行清理，且物料不会残留在曝气盘机构上，避免污染后续加工的药液。

技术特征：

1.一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，包括：曝气支撑架(1)，所述曝气支撑架(1)的表面开设有进气口(2)，所述曝气支撑架(1)的顶端和底端均安装有过滤组件，所述曝气支撑架(1)的顶端和底端均螺纹连接有固定件(4)，所述固定件(4)的内壁与过滤组件的表面相贴；

2.根据权利要求1所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述曝气支撑架(1)的顶端和底端均开设有安装限位槽(5)，所述第一密封圈(32)的表面与安装限位槽(5)的内壁相贴。

3.根据权利要求2所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述第一密封圈(32)的横截面呈c形。

4.根据权利要求1所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述曝气支撑架(1)的表面对称开设有嵌槽(6)，所述嵌槽(6)的内壁设置有第二密封圈(7)，且第二密封圈(7)的表面与固定件(4)的表面相贴。

5.根据权利要求2所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述曝气支撑架(1)的表面对称设置有限位部(8)，所述限位部(8)的表面与第二密封圈(7)的表面相贴。

6.根据权利要求5所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述第二密封圈(7)的横截面呈矩形。

7.根据权利要求1所述的一种使用于配液罐体的曝气盘机构，其特征在于，所述过滤盘(31)为石英砂颗粒板过滤盘(31)。

技术总结
本技术涉及曝气盘技术领域，且公开了一种使用于配液罐体的曝气盘机构，包括：曝气支撑架，所述曝气支撑架的表面开设有进气口，曝气支撑架的顶端和底端均安装有过滤组件。该使用于配液罐体的曝气盘机构，通过设置曝气支撑架、过滤盘、第一密封圈、固定件和第二密封圈，曝气支撑架和固定件上下夹着过滤组件，第一密封圈对过滤盘与曝气支撑架之间的缝隙进行密封，第二密封圈对固定件与曝气支撑架之间的缝隙进行密封，避免了固定件、过滤盘与曝气支撑架之间的缝隙进入物料颗粒杂质，消除清洗死角，使曝气支撑架保持了较好的密封性能，物料不能进入曝气盘机构的内部，方便进行清理，且物料不会残留在曝气盘机构上，避免污染后续加工的药液。

技术研发人员：杨小燕
受保护的技术使用者：上海东富龙制药设备制造有限公司
技术研发日：20230809
技术公布日：2024/3/27