电场单元及高效电场装置的制作方法

本发明属于环保领域，涉及一种电场单元及高效电场装置。

背景技术：

1、目前，受板式静电除尘电场结构的限制，首先，它的生产方式受限：生产效率低，且需要用到众多不同种类的零件和绝缘材料，导致生产成本居高不下。

2、其次，现有的结构很多地方要为装配零件、绝缘材料留出空间，而这些空间往往没有除尘效果，导致其除尘效率大打折扣。

3、最后，位置度对电场效率有极大影响，传统的结构、生产工艺难以保证精确的位置度。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种电场单元及高效电场装置，以提高除尘电场装置的气体净化效率。

2、为了解决上述问题，本发明提供如下技术方案：

3、本发明的一个方面，提供了一种电场单元，用于对气体进行电场处理，包括第一极部和第二极部，所述第二极部的至少一部分设置在所述第一极部内，其中，所述第一极部具有多个平行且间隔设置的第一极，相邻的两个所述第一极之间的距离是相同的，所述第二极部具有多个平行且间隔设置的第二极，相邻的两个所述第二极之间的距离是相同的，所述第一极和所述第二极均为金属平板，多个所述第一极和多个所述第二极平行交错设置，相邻的所述第一极与所述第二极之间的距离是相同的，所述第一极的至少一端呈尖端和/或所述第二极的至少一端呈尖端。

4、进一步，所述第一极和所述第二极之间形成让所述气体通过以及进行所述电场处理的气体流道，所述第一极的两端呈尖端和/或所述第二极的两端呈尖端，所述尖端沿所述气体流道方向设置。

5、进一步，所述尖端呈刀刃形。

6、进一步，在一个示例中，多个所述尖端分别均匀设置在所述第一极和/或第二极的端部，其中，相邻的所述第一极的多个所述尖端交错布置，一块所述第一极上的所述尖端位于相邻的所述第一极上的两个所述尖端的中部，或，相邻的所述第二极的多个所述尖端交错布置，一块所述第二极上的所述尖端位于相邻的所述第二极上的两个所述尖端的中部。

7、进一步，所述尖端呈矩形、梯形或三角形。

8、进一步，当所述尖端呈梯形时，梯形端部设有内凹的缺口。

9、进一步，所述尖端呈三角形时，所述尖端的夹角为5-10度，所述尖端的长度为2-10mm。

10、进一步，所述第二极部还包括丝状的第三极，平行于所述第一极，所述第三极设置在所述第二极的沿所述气体流道方向的延长线上且位于相邻的两个所述第一极的中央。

11、进一步，所述第三极位于所述第二极的一端或两端且与所述第二极具有距离。

12、进一步，所述第一极和所述第二极用于形成电场，所述电场为直流电场，所述第一极与零电位相连，所述第二极与电源正极或负极相连。

13、本发明的第二方面，提供一种高效电场装置，包括沿气体流向依次设置的第一电场单元和第二电场单元，所述第二电场单元为上述的电场单元，所述第一电场单元为上述的电场单元，其中，所述第一电场单元中的第三极位于第二极的一端且靠近所述第二电场单元。

14、本发明的第三方面，提供了一种高效电场装置，包括沿气体流向依次设置的两个第一电场单元，所述第一电场单元为上述的电场单元，其中，所述第一电场单元中的第三极位于第二极的一端且远离另外一个第一电场单元。

15、本发明提供的电场单元及高效电场装置，采用电场对气体进行净化处理，有效去除气体中的颗粒物，包括但不限于粉尘、细菌、病毒等颗粒物，净化后气体中检测不到50纳米以上的颗粒物，除尘效率显著；其中，电极板的尖端结构提高了电场除尘性能；丝与板的间距都能够保证间距高度一致，电离效果好，不仅可以提高电场除尘性能，还可以提高装配精度，从而生产成本更低，效率更高。

技术特征：

1.一种电场单元，用于对气体进行电场处理，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的电场单元，其特征在于：

3.根据权利要求1所述的电场单元，其特征在于：

4.根据权利要求1-3任一项所述的电场单元，其特征在于：

5.根据权利要求1-4任一项所述的电场单元，其特征在于：

6.根据权利要求1-5任一项所述的电场单元，其特征在于：

7.根据权利要求1-6所述的电场单元，其特征在于：

8.根据权利要求7所述的电场单元，其特征在于：

9.根据权利要求7或8所述的电场单元，其特征在于：

10.一种高效电场装置，其特征在于，包括：

11.一种高效电场装置，其特征在于，包括：

技术总结
根据本发明的电场单元及高效电场装置，电场单元包括第一极部和第二极部，所述第二极部的至少一部分设置在所述第一极部内，其中，所述第一极部具有多个平行且间隔设置的第一极，相邻的两个所述第一极之间的距离是相同的，所述第二极部具有多个平行且间隔设置的第二极，相邻的两个所述第二极之间的距离是相同的，所述第一极和所述第二极均为金属平板，多个所述第一极和多个所述第二极平行交错设置，相邻的所述第一极与所述第二极之间的距离是相同的，所述第一极的至少一端呈尖端和/或所述第二极的至少一端呈尖端。

技术研发人员：奚勇,王赞
受保护的技术使用者：上海必修福企业管理有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/8