技术总结
本发明公开了一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置，包括加压夹持单元、供雾扩散单元和风淋加工单元；所述的风淋加工单元位于加压夹持单元与供雾扩散单元之间。本发明采用漏斗形收集构件与加工介质扩散腔相配合的方式使得在传输过程中形成的大尺度液滴得到了有效的回收，避免其对晶体材料加工区域的影响，同时改善了雾化颗粒的均匀性和流动性。本发明的带孔磨抛板实现了雾化颗粒与晶体工件加工表面的有效接触，在加工运动轨迹的配合下有效提高了晶体工作加工表面水溶解的均匀性。本发明的微孔采用“倒置漏斗”结构，使得雾化颗粒在流经带孔磨抛板时，在重力的作用下逆流至加工介质扩散腔，进而保证了加工区域雾化颗粒的均匀性及稳定性。
技术研发人员：高航;刘子源;郭东明
受保护的技术使用者：大连理工大学
文档号码：201611018695
技术研发日：2016.11.14
技术公布日：2017.07.21