二维自组装的M1/M2-VO2同质结纳米片及其制备方法与流程

文档序号:21444869发布日期:2020-07-10 17:34阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

(1)将v2o5粉末和nacl颗粒混合获得气相沉积反应源;

(2)将所述气相沉积反应源放置于容器内,并将云母衬底倒扣在所述容器的开口处;

(3)将所述容器置于预定温度氛围内,使得所述v2o5粉末裂解为vo2前驱体,进而所述vo2前驱体在所述云母衬底上沉积形成二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片。

2.如权利要求1所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:所述v2o5粉末的质量大于等于所述nacl颗粒的质量。

3.如权利要求1所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:所述容器为石英舟;所述石英舟上方倒扣有所述云母衬底。

4.如权利要求1所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:所述预定温度为760℃~800℃,在该预定温度下保温20min~40min。

5.如权利要求1所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:所述容器为石英舟,将所述石英舟放置于高温管式炉的中心区域,所述v2o5粉末裂解为vo2前驱体,所述vo2前驱体在所述云母衬底上沉积形成二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片,其中采用氩气作为保护性气体和载气。

6.如权利要求5所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:所述中心温区以30℃/min的速率升温至760℃~800℃,并保温30min,保温后采用的降温方式为随炉冷却至室温。

7.如权利要求5所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法,其特征在于:氩气的气体流量为50sccm。

8.一种二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片,其特征在于:所述m1/m2-vo2同质结纳米片是采用权利要求1-7任一项所述的二维自组装的m1/m2-vo2同质结纳米片的制备方法制备而成的。


技术总结
本发明属于二维材料制备相关技术领域,其公开了一种二维自组装的M1/M2‑VO2同质结纳米片及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)将V2O5粉末和NaCl颗粒混合获得气相沉积反应源;(2)将所述气相沉积反应源放置于容器内,并将云母衬底倒扣在所述容器的开口处;(3)将所述容器置于预定温度氛围内,使得所述V2O5粉末裂解为VO2前驱体,进而所述VO2前驱体在所述云母衬底上沉积形成二维自组装的M1/M2‑VO2同质结纳米片。本发明降低了反应温度,且避免了衬底发生破坏,同时缩短了气态前驱体输运距离,引入了界面应力调控材料晶相分布,因而尤其适用于高熔点的二维晶体材料晶相可控制备之类的应用场合。

技术研发人员:甘霖;冉濛;翟天佑
受保护的技术使用者:华中科技大学
技术研发日:2020.03.05
技术公布日:2020.07.10
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