1.一种多腔式微型原子气室的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，每个气室通孔与气源凹槽之间连通的直角状微通道长度相等；
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述垂直通道为深硅刻蚀或激光刻蚀；
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的制备方法，其特征在于，步骤s6所述划片处理的划片位置避开原子气室、水平通道和熔融封堵后的垂直通道。
5.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述深硅刻蚀为先进行涂胶，用光刻的方法进行图形转移，形成对应的掩膜；用反应离子刻蚀；
6.根据权利要求1-3中任意一项所述的制备方法，其特征在于，步骤s3所述碱金属叠氮化物包括叠氮化铷与叠氮化铯中的至少一种；
7.根据权利要求1-3中任意一项所述的制备方法，其特征在于，步骤s5所述扩散后的碱金属蒸汽浓度为1×1010/cm3-5×1015/cm3，压力为0.13-13kpa。
8.如权利要求1-7任一项所述制备方法制得的多腔式微型原子气室。
9.根据权利要求8所述的多腔式微型原子气室，其特征在于：所述原子气室的压力为0.13-13kpa。
10.根据权利要求8或9所述的多腔式微型原子气室，其特征在于：所述原子气室为毫米、百微米或亚微米级别。