一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，通过在每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，绑带的宽度为1～3mm，绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2～20mm，绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈，滚筒内的钕铁硼薄片环形产品之间由于绑带的阻隔作用，两片钕铁硼薄片环形产品的各端面之间不会贴合，电镀液从两者端面之间由于绑带而形成的间隙内进入将两片钕铁硼薄片环形产品分开，钕铁硼薄片环形产品表面形成均匀的电镀层；优点是滚筒电镀可以达到200片/滚筒，大大提高了生产效率，由于克服了贴片现象，产品的合格率也显著提高，合格率可达98％以上。
【专利说明】一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种电镀工艺，尤其是涉及一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺。
【背景技术】
[0002]钕铁硼产品由于其优越的磁性能而广泛的应用于电子和电机等领域。钕铁硼环形产品是目前常用的一种钕铁硼产品，随着科技的发展，钕铁硼环形产品的尺寸逐步向小型化和轻薄化发展。目前，外径(直径)为30?140mm，内径(直径)为5?100mm，厚度为0.3?2mm的钕铁硼环形产品被称为钕铁硼薄片环形产品。
[0003]为了提高钕铁硼薄片环形产品的防腐性能，通常需要对其进行电镀处理。现有的钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺主要两种:第一种是滚筒式电镀工艺，该滚筒式电镀工艺是将钕铁硼薄片环形产品装入电镀用滚筒中，然后将滚筒放入电镀槽内滚动，滚筒透水性良好，电镀槽内的电镀液进入滚筒实现钕铁硼薄片环形产品的电镀；第二种是悬挂式电镀工艺，该悬挂式电镀工艺是将钕铁硼薄片环形产品悬挂在挂具的挂钩上，然后将挂具放入电镀槽内使钕铁硼薄片环形产品被电镀液淹没，通过上下或左右晃动挂具来实现钕铁硼薄片环形产品的电镀。
[0004]滚筒式电镀工艺一次性电镀产品数量可达200片，生产效率较高，但是由于钕铁硼薄片环形产品厚度薄且光洁度高，滚筒内的钕铁硼薄片环形产品由于镀液的张力而容易相互吸附，产生贴片现象，因而吸附在一起的两片钕铁硼薄片环形产品的吸附面无法形成镀层而造成报废，电镀合格率仅在40%左右。悬挂式电镀工艺虽然不会产生贴片现象，但是挂具的装载量小，一次性电镀产品数量仅为30?50片，生产效率较低，并且由于钕铁硼薄片环形产品比较轻薄，在电镀液浮力作用和挂具晃动作用下，部分钕铁硼薄片环形产品在电镀过程中会脱离挂钩而出现断电现象，由此导致电镀层与钕铁硼薄片环形产品基体之间的结合力不良，合格率也不高。
[0005]鉴此，提供一种生产效率较高，且合格率较高的钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺具有重要意义。
【发明内容】
[0006]本发明所要解决的技术问题是提供一种生产效率较高，合格率较高的钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺。
[0007]本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，包括以下步骤:
[0008]①钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理；
[0009]②将电镀前处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，所述的绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，所述的绑带的宽度为I?3mm，所述的绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2?20mm，所述的绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结；
[0010]③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中；
[0011]④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理:将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理；
[0012]⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为2?6um ;
[0013]⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为2?1um ；
[0014]⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为2?10um。
[0015]所述的非导电性材料为聚丙烯材料或者聚酰胺材料。该材料可使绑带具有良好的耐酸、腐蚀和绝缘性，不易老化、承受力强，可在操作温度为_20°C到+80°C内长时间工作，在电镀过程中使用寿命长，可以反复使用，减少材料浪费和环境污染。
[0016]所述的首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为200?400g/L，氯化镍的浓度为20?70g/L，硼酸的浓度为20?70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5?5.0，温度在40?60°C。该工艺作为预镀工艺，可以使钕铁硼薄片环形产品基体与预镀层和预镀之后的铜镀层之间具有良好的结合力。
[0017]所述的电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的焦磷酸铜溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为200?400g/L，焦磷酸铜的浓度为20?70g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.5?9.0，温度在30?50°C。该工艺中采用的焦磷酸铜溶液成分简单、镀液稳定、电流效率高、均镀能力和深度能力好，且其镀层结晶细致，对提高镀层的耐腐蚀性能有较好的效果。
[0018]所述的再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为150?350g/L，氯化镍的浓度为20?70g/L，硼酸的浓度为20?70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5?5.0，温度在40?60°C。该工艺中得到的镀层具有光泽的外观，且硬度高。
[0019]与现有技术相比，本发明的优点在于通过在每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，绑带的宽度为I?3mm，绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2?20mm，绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈，在滚筒滚动电镀的过程中，位于滚筒内的各片钕铁硼薄片环形产品之间由于绑带的阻隔作用，彼此相邻且靠近的两片钕铁硼薄片环形产品的各端面之间不会贴合，不会产生贴片现象，电镀液从两者端面之间由于绑带而形成的间隙内进入将两片钕铁硼薄片环形产品分开，由此在滚筒的滚动翻转电镀过程中，各片钕铁硼薄片环形产品各个端面依次形成均匀的电镀镍内层、电镀铜中间层和电镀镍外层，滚筒电镀可以达到200片/滚筒，大大提高了生产效率，由于克服了贴片现象，产品的合格率也显著提高，合格率可达98%以上。
【具体实施方式】
[0020]以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。
[0021]实施例一:一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，包括以下步骤:
[0022]①钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理，首次电镀前处理依次包括:除油、超声波清洗和吹干固化；钕铁硼薄片环形产品的外径(直径)50mm，内径(直径)为20mm，厚度为0.6mm ；
[0023]②将电镀处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，绑带的宽度为1_，绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2mm，绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结；
[0024]③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中；
[0025]④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理:将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理；
[0026]⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为3um ;
[0027]⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为3um ；
[0028]⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为6um。
[0029]本实施例中，非导电性材料为聚丙烯材料。
[0030]本实施例中，首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为280g/l，氯化镍的浓度为30g/l，硼酸的浓度为40g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为4.6，温度为40°C。
[0031]本实施例中，电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为200g/L，焦磷酸铜的浓度为30g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.5，温度在40°C。
[0032]本实施例中，再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为180g/l，氯化镍的浓度为35g/l，硼酸的浓度为65g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为3.6，温度为50°C。
[0033]将采用本实施例的电镀工艺得到的钕铁硼薄片环形产品在3倍放大镜下进行外观检测，产品无漏镀、氧化腐蚀现象，一次合格率达到99.5%,0.5%的不合格品为黄斑等其他电镀不良。
[0034]实施例二:一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，包括以下步骤:
[0035]①钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理，首次电镀前处理依次包括:除油、超声波清洗和吹干固化；钕铁硼薄片环形产品的外径(直径)80mm，内径(直径)为30mm，厚度为0.8mm ；
[0036]②将电镀处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，绑带的宽度为1.5_，绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2_，绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结；
[0037]③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中；
[0038]④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理:将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理；
[0039]⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为3um ；
[0040]⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为5um ；
[0041]⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为6um。
[0042]本实施例中，非导电性材料为聚酰胺材料。
[0043]本实施例中，首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为250g/l，氯化镍的浓度为35g/l，硼酸的浓度为35g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为4.6，温度为40°C。
[0044]本实施例中，电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为230g/L，焦磷酸铜的浓度为35g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.8，温度在40°C。
[0045]本实施例中，再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为200g/l，氯化镍的浓度为35g/l，硼酸的浓度为60g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为3.6，温度为50°C。
[0046]将采用本实施例的电镀工艺得到的钕铁硼薄片环形产品在3倍放大镜下进行外观检测，产品无漏镀、氧化腐蚀现象，一次合格率达到99%，1%的不合格品为黄斑等其他电镀不良。
[0047]实施例三:一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，包括以下步骤:
[0048]①钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理，首次电镀前处理依次包括:除油、超声波清洗和吹干固化；钕铁硼薄片环形产品的外径(直径)100_，内径(直径)为60_，厚度为1.2mm ；
[0049]②将电镀处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，绑带的宽度为2_，绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为5mm，绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结；
[0050]③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中；
[0051]④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理:将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理；
[0052]⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为4um ；
[0053]⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为6um ；
[0054]⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为7um。
[0055]本实施例中，非导电性材料为聚酰胺材料。
[0056]本实施例中，首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为300g/l，氯化镍的浓度为35g/l，硼酸的浓度为35g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为4.4，温度为40°C。
[0057]本实施例中，电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为230g/L，焦磷酸铜的浓度为35g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.8，温度在40°C。
[0058]本实施例中，再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为200g/l，氯化镍的浓度为35g/l，硼酸的浓度为60g/l，所述的硫酸镍溶液的PH为3.6，温度为50°C。
[0059]将采用本实施例的电镀工艺得到的钕铁硼薄片环形产品在3倍放大镜下进行外观检测，产品无漏镀、氧化腐蚀现象，一次合格率达到98.5%, 1.5%的不合格品为黄斑等其他电镀不良。
【权利要求】
1.一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于包括以下步骤: ①将钕铁硼薄片环形产品进行首次电镀前处理； ②将电镀处理后的每片钕铁硼薄片环形产品上捆上一圈绑带，所述的绑带的材料为耐酸碱、耐高温和抗压的非导电性材料，所述的绑带的宽度为I?3mm，所述的绑带与钕铁硼薄片环形产品之间的空隙为2?20mm，所述的绑带沿钕铁硼薄片环形产品的内侧面、上端面、外侧面和下端面围绕一圈后打结； ③将捆好绑带的钕铁硼薄片环形产品放入电镀用滚筒中； ④将装入滚筒内的钕铁硼薄片环形产品进行再次电镀前处理:将滚筒依次放入除油槽内进行除油处理、除锈槽内进行除锈处理和活化槽内进行活化处理； ⑤将滚筒放入第一电镀池内进行首次电镀镍处理，镀层厚度为2?6um; ⑥将滚筒放入第二电镀池内进行电镀铜处理，镀层厚度为2?1um; ⑦将滚筒放入第三电镀池内进行再次电镀镍处理，镀层厚度为2?10um。
2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的非导电性材料为聚丙烯材料或者聚酰胺材料。
3.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的首次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为200?400g/L，氯化镍的浓度为20?70g/L，硼酸的浓度为20?70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5?5.0，温度在40?60°C。
4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的电镀铜处理过程中使用的电镀溶液为焦磷酸铜溶液，所述的焦磷酸铜溶液由焦磷酸钾、焦磷酸铜和水混合而成，其中焦磷酸钾的浓度为200?400g/L，焦磷酸铜的浓度为20?70g/L，所述的焦磷酸铜溶液的PH为7.5?9.0，温度在30?50°C。
5.根据权利要求1所述的一种钕铁硼薄片环形产品的电镀工艺，其特征在于所述的再次电镀镍处理过程中使用的电镀溶液为硫酸镍溶液，所述的硫酸镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸和水混合而成，其中硫酸镍的浓度为150?350g/L，氯化镍的浓度为20?70g/L，硼酸的浓度为20?70g/L，所述的硫酸镍溶液的PH为3.5?5.0，温度在40?60°C。
【文档编号】C25D7/04GK104480506SQ201410734542
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年12月5日 优先权日:2014年12月5日
【发明者】曹立斌, 陈国 , 胡克, 余衍炼 申请人:宁波韵升股份有限公司, 宁波韵升磁体元件技术有限公司, 宁波韵升特种金属材料有限公司