四色氧化工艺的制作方法

文档序号:16210530发布日期:2018-12-08 07:40阅读:479来源:国知局
四色氧化工艺的制作方法

本发明涉及氧化工艺领域,特别涉及一种铝合金的四色氧化工艺。



背景技术:

目前,针对铝合金制品阳极氧化着色受制于工艺条件,一般都是1个或2个颜色处理,着色大多数比较单一。而且,多色阳极氧化的方法一般是多少个颜色就进行多少次阳极氧化,譬如四个颜色就需要4次阳极氧化进行染色。由于阳极氧化需要使用到酸和碱,每进行多一次阳极氧化,都很容易破坏上一次阳极氧化形成的氧化膜,导致性能测试不及格,色差管理难,同时多次阳极氧化成本高、成品良率低等,这些问题导致4色阳极氧化很难在实际生产上得到应用。



技术实现要素:

鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种金属制品着色多样和工艺适应性的四色氧化工艺。

为实现上述目的,本发明提供的一种四色氧化工艺,其中,具体步骤如下:(1)在电压14伏,时间40分钟,烘干温度在40-60摄氏度的条件,进行第一次阳极氧化不封孔;(2)通过印刷屏蔽油墨到不需要染黑色的图标部位;(3)在温度55摄氏度的条件,染完黑色再脱掉印刷层;(4)之后,在温度55摄氏度的条件,对之前遮喷位置进行染金色封孔处理;上述封孔处理的条件是温度90摄氏度,时间是30分钟;(5)通过物理高光方法去除一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(6)针对去掉氧化膜的地方通过第二次阳极氧化染红色或蓝色封孔处理;上述第二次阳极氧化的处理电压是12伏,时间15分钟;上述封孔处理的温度是90摄氏度,时间30分钟;(7)再通过物理(高光)方法去除另一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(8)最后,针对去掉氧化膜的位置通过第三次阳极氧化染紫色封孔处理;上述第三次阳极氧化的电压是16伏,时间15分钟;上述封孔处理的温度是90摄氏度,时间30分钟。

本发明提供的阳极氧化工艺,实现了在金属制品上添加多种颜色,避免了金属制品的着色单一;同时可以利用结构件上不同导通的区域,分别进行阳极氧化染色实现四色氧化的效果,并可在复杂曲面、3d结构的铝合金表面实现四色外观效果的工艺。

附图说明

图1为本发明工艺流程图;

图2为经过四色氧化工艺后成品的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对发明作进一步详细的说明。

如图1-2所示,一种四色氧化工艺,具体步骤如下:(1)在电压14伏,时间40分钟,烘干温度在40-60摄氏度的条件,进行第一次阳极氧化不封孔;(2)通过印刷屏蔽油墨到不需要染黑色的图标部位;(3)在温度55摄氏度的条件,染完黑色再脱掉印刷层;(4)之后,在温度55摄氏度的条件,对之前遮喷位置进行染金色封孔处理;上述封孔处理的条件是温度90摄氏度,时间是30分钟;(5)通过物理高光方法去除一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(6)针对去掉氧化膜的地方通过第二次阳极氧化染红色或蓝色封孔处理;上述第二次阳极氧化的处理电压是12伏,时间15分钟;上述封孔处理的温度是90摄氏度,时间30分钟;(7)再通过物理(高光)方法去除另一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(8)最后,针对去掉氧化膜的位置通过第三次阳极氧化染紫色封孔处理;上述第三次阳极氧化的电压是16伏,时间15分钟;上述封孔处理的温度是90摄氏度,时间30分钟。如此,达到四色氧化效果。

应用时,就是需要尽量减少阳极的次数,核心技术是需要用到遮喷,在第一次阳极不封孔的前提下,产品整体着色做好后,去除之前遮喷的遮蔽性油墨,露出空白部分直接进行第二次着色处理,再经过封孔处理形成第一次阳极氧化膜,达到两个部位的色彩不一样,突出美学效果。同时采用延长封孔时间(一般是15分钟,本工艺提高到30分钟),形成比较好的保护层保护已经阳极的部位,从而达到提高产品性能测试能力,避免色差管理难等问题,节约了成本,提高了良品率。

以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于发明的保护范围。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种四色氧化工艺,其中,具体步骤如下:(1)第一次阳极氧化不封孔;(2)通过印刷屏蔽油墨到不需要染黑色的图标部位;(3)染完黑色再脱掉印刷层;(4)之后,在温度55摄氏度的条件,对之前遮喷位置进行染金色封孔处理;(5)通过物理高光方法去除一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(6)针对去掉氧化膜的地方通过第二次阳极氧化染红色或蓝色封孔处理(7)再通过物理高光方法去除另一部分已经封闭的氧化膜,露出氧化膜下方金属;(8)最后,针对去掉氧化膜的位置通过第三次阳极氧化染紫色封孔处理。本发明具有金属制品着色多样和工艺适应性的效果。

技术研发人员:何国平;焦刚勇;王亦伟;董洲伟
受保护的技术使用者:富士智能机电(珠海)有限公司
技术研发日:2018.06.26
技术公布日:2018.12.07
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