一种待渡板液流导正结构及PTH生产线的制作方法

本实用新型涉及电镀设备技术领域，尤其涉及的是一种待渡板液流导正结构及pth生产线。

背景技术：

pth（platedthroughhole）为镀通孔之意，作用为将原非金属之孔壁使其镀上一层薄铜（即金属化），以利后续电镀铜顺利镀上，使其上下铜层或与内层铜顺利达到相连通之目的；此工艺是通过化学药液的化学反应来完成。

飞靶是用于夹持待渡板并带动待渡板完成整个电镀过程的常用部件，在待渡板电镀过程中，飞靶夹持待渡板的上端，使待渡板其余部分可充分接触药水，电镀效果较好。但在待渡板厚度较薄时，由于下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损。

可见，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现要素：

鉴于上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种待渡板液流导正结构及pth生产线，旨在解决现有技术中通过飞靶夹持较薄的待渡板，由于待渡板下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损的问题。

本实用新型的技术方案如下：

一种待渡板液流导正结构，其包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。

在进一步地优选方案中，所述入板口两侧分别设置有第一导正板及第二导正板，所述第一导正板与第二导正板之间形成有导正槽，所述导正槽的上端口即为入板口。

在进一步地优选方案中，所述第一导正板的上端设置有第一导正斜面，所述第二导正板的上端设置有第二导正斜面，所述第一导正斜面与第二导正斜面相对设置，形成上宽下窄的入板口。

在进一步地优选方案中，所述导流管设置有至少一组，每组导流管包括镜像对称设置的第一导流管及第二导流管，所述第一导流管开设有倾斜向下的第一导流孔，所述第二导流管开设有倾斜向下的第二导流孔。

在进一步地优选方案中，所述药水反应箱内设置有多个若干个呈矩阵式排布的第一药水喷头，所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第一喷药管，所述进药管贯穿药水反应箱设置，多个所述第一喷药管沿工位排布方向依次连接于进药管，且每个第一喷药管上设置有多个第一药水喷头。

在进一步地优选方案中，所述药水反应箱内设置有多个若干个呈矩阵式排布的第二药水喷头；所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第二喷药管，所述进药管贯穿药水反应箱设置，多个所述第二喷药管沿工位排布方向依次连接于进药管，且每个第二喷药管上设置有多个第二药水喷头。

在进一步地优选方案中，所述待渡板液流导正结构还包括多个第三喷药管，所述第三喷药管上设置有第三药水喷头及第四药水喷头；所述第四药水喷头与第一药水喷头高度相同，所述第三药水喷头与第二药水喷头高度相同。

在进一步地优选方案中，所述第一药水喷头及第三药水喷头的喷药端朝飞靶移动方向倾斜设置，且第一药水喷头与第三药水喷头镜像对称设置。

在进一步地优选方案中，所述第二药水喷头及第四药水喷头的喷药端朝飞靶移动方向倾斜设置，且第二药水喷头与第四药水喷头镜像对称设置。

一种pth生产线，其中，所述pth生产线包括如上所述的待渡板液流导正结构。

与现有技术相比，本实用新型提供的待渡板液流导正结构，包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。基于此，本实用新型所提供的待渡板液流导正结构，药水从上端的导流管进入药水反应箱，并从下端的药水排放管排出药水反应箱，使药水反应箱内形成自上而下的药流，在待渡板进入药水反应箱时顺着药水流动方向下降，不会受到药水阻力，有效解决了现有技术中通过飞靶夹持较薄的待渡板，由于待渡板下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损的问题。

附图说明

图1是本实用新型优选实施例待渡板液流导正结构第一视角的结构示意图。

图2是图1中局部d的放大图。

图3是本实用新型优选实施例待渡板液流导正结构第二视角的结构示意图。

图4是本实用新型优选实施例待渡板液流导正结构第三视角的结构示意图。

图5是本实用新型所用第一药水喷头及第二药水喷头固定连接于药水反应箱内壁的结构示意图。

图6是图5中局部a的放大图。

图7是图5中局部b的放大图。

图8是本实用新型优选实施例所用药水反应箱内的零件配置示意图。

图9是本实用新型优选实施例所用喷药管及药水喷头的位置排布示意图。

图10是本实用新型优选实施例所用过滤箱的内部结构示意图。

图11是图10中局部c的放大图。

具体实施方式

本实用新型提供一种待渡板液流导正结构及pth生产线，为使本实用新型的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实例对本实用新型进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型的具体实施方式是为了便于对本实用新型的构思、所解决的技术问题、构成技术方案的技术特征和带来的技术效果做更为详细的说明。需要说明的是，对于这些实施方式的解释说明并不构成对本实用新型保护范围的限定。此外，下文所述的实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间不构成冲突就可以相互组合。

由于静止的药水会对待渡板的下降造成较大阻力，在待渡板较薄时，容易在下降过程中因阻力较大被折弯损坏，因此，若能使药水向下方或侧下方流动，即令药水流动方向与待渡板的下降方向相同或相近，则可降低甚至于消除药水阻力带来的不良影响。

基于上述思路，本实用新型提供了一种待渡板液流导正结构，包括：药水反应箱100，如图1至图8所示，药水反应箱100是待渡板进行药水反应的容器，pth生产线设置有多个药水反应箱100，飞靶从上料位进入第一个药水反应箱100，或者从一个药水反应箱100进入下一药水反应箱100等过程中，一般是先上升再下降（或者药水反应箱100升降，飞靶只进行横移），也就是说，待渡板一般是从上方下降至药水反应箱100，为此，药水反应箱100会在上端开设入板口735a，以便待渡板进入。

如图3所示，所述药水反应箱100的上端开设有入板口735a，并且药水反应箱100上端靠近入板口735a处设置有导流管，所述导流管用于将药水排放至药水反应箱100；药水反应箱100的下端则设置有药水排放管300，所述药水排放管300用于将药水反应箱100内的药水排出。所述导流管与药水排放管300联合作用，以便药水从药水反应箱100上端进入，下端排出，形成自上而下的液流方向，此处需要注意的是，由于待渡板在电镀过程中不仅要与药水发生反应，一般还会在中间工序夹杂水洗工艺，以免待渡板上的特殊药水残留与其他药水发生不良反应，因此，本实用新型中所指的药水可以是反应药水，也可能是清洗药水（比如清水）。

进一步地，所述入板口735a两侧分别设置有第一导正板730及第二导正板740，所述第一导正板730与第二导正板740之间形成有导正槽735，所述导正槽735的上端口即为入板口735a。即第一导正板730与第二导正板740的设置使得待渡板在下降过程中不会受到药水反应箱100反应药水的影响，配合导流管与药水排放管300，使得导正槽735内只有自上而下的药水流动，提高待渡板的导正效果。该部分结构与倾斜设置的药水喷头配合，一方面可以为待渡板在药水反应箱100内的移动导正，另一方面药水喷头朝背离导正槽735的方向喷洒药水，可进一步提高待渡板的入槽导正效果。

较佳地是，所述第一导正板730的上端设置有第一导正斜面731，所述第二导正板740的上端设置有第二导正斜面741，所述第一导正斜面731与第二导正斜面741相对设置，形成上宽下窄的入板口735a。入板口735a上宽下窄一方面可以保证待渡板顺利进入入板口735a（不会因为入板口735a狭窄，造成待渡板与药水反应箱100的碰撞）；另一方面可以保证待渡板在导正槽735下降时的导正效果。

进一步地，所述导流管设置有至少一组，每组导流管包括镜像对称设置的第一导流管710及第二导流管720，所述第一导流管710开设有倾斜向下的第一导流孔711（如图2所示），所述第二导流管720开设有倾斜向下的第二导流孔。即起到导流作用的药水是倾斜排放的，在待渡板通过入板口735a时，药水是直接喷洒至待渡板上的，对于导流而言，效果更佳。

根据本实用新型地另一方面，所述药水反应箱100内侧设置有第一药水喷头231。第一药水喷头231与入板口之间的距离本实用新型并不作具体限定，其设置条件满足以下条件即可：1、喷洒出来的药水不会迸溅至药水反应箱100外；2、喷洒出来的药水可以与待渡板充分接触；具体距离可以根据入板口宽度、飞靶宽度可由本领域技术人员进行选择性设置。

作为上述优选实施例的改进，本实用新型中的第一药水喷头231设置有若干个，且若干个第一药水喷头231呈矩阵式排布。横向设置的多个第一药水喷头231可以增加喷洒出来的药水与待渡板的接触面积，提高电镀效果；纵向设置的多个第一药水喷头231一方面可以进一步增加喷洒出来的药水与待渡板的接触面积。

进一步地，所述第一药水喷头231固定于药水反应箱100的第一侧内壁，或者第一药水喷头231或靠近于药水反应箱100的第一侧内壁。

第一药水喷头231固定于药水反应箱100的第一侧内壁，是指第一药水喷头231直接固定于药水反应箱100，药水可以从药水反应箱100的侧板进入，即所述侧板开设有药水流动槽或者药水流动孔；以图5、图8及图7为例进行示意性说明，药水反应箱100的第一侧壁110中部开设有第一药水流动槽111，第一药水流动槽111一侧连通有第一进药接头130，另一侧与第一药水喷头231相连通；药水反应箱100的第二侧壁120中部开设有第二药水流动槽121，第二药水流动槽121一侧连通有第二进药接头140，另一侧与第二药水喷头232相连通。

第一药水喷头231靠近于药水反应箱100的第二侧内壁，是指第一药水喷头231固定连接于喷药管，如图7所示，并不直接固定在药水反应箱100的内壁上。所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第一喷药管221，所述进药管贯穿药水反应箱100设置，多个所述第一喷药管221沿工位排布方向依次连接于进药管，且每个第一喷药管221上设置有多个第一药水喷头231。

优选第一药水喷头231靠近于药水反应箱100的第二侧内壁，以便于进药管、喷药管及第一药水喷头231的清理、维修及维护。

较佳地是，所述待渡板液流导正结构还包括：第二药水喷头232，所述第二药水喷头232固定于或靠近于药水反应箱100的第二侧内壁，所述第一侧内壁与第二侧内壁相对称。

进一步地，所述第二药水喷头232排布有若干个，若干个第二药水喷头232呈矩阵式排布。横向设置的多个第而药水喷头可以增加喷洒出来的药水与待渡板的接触面积，提高电镀效果；纵向设置的多个第二药水喷头232可以进一步增加喷洒出来的药水与待渡板的接触面积。

具体地，多个第一喷药管221间隔设置，同理，多个第二喷药管222间隔设置。

第一喷药管221上倾斜设置有多个第一药水喷头231，所述第一药水喷头231的喷药端朝向第三药水喷头233倾斜；即待镀产品在药水反应的时候，将位于第一喷药管221与第二喷药管222之间，第一药水喷头231的喷药端朝向待镀产品。

同理，第二喷药管222上倾斜设置有多个第三药水喷头233；所述第三药水喷头233的喷药端朝向第一药水喷头231倾斜。

之所以将药水喷头倾斜设置，一则是为了防止在待镀产品进入药水反应箱100时，正向喷洒至待镀产品上的作用力导致待镀产品从夹子上脱离开来；二则是倾斜喷洒的动作会使药水反应箱内的药水向指定方向流动，使待渡产品在入箱后沿预定方向移动时，药水流动方向与产品移动方向一致，从而起到导正作用。

具体地，所述第一药水喷头231与第三药水喷头233镜像对称设置；即第一药水喷头231与第三药水喷头233数量相同，位置对应，倾斜角度相同（方向相反）；以使待镀产品两侧面受力位置相同，受力均匀，防止较薄的待镀产品被损坏。

作为上述优选实施例的改进，所述喷药管还包括第三喷药管，所述第二喷药管222上还设置有第四药水喷头234，如图9所示，第三喷药管223上设置有第二药水喷头232，如图9所示；所述第四药水喷头234的喷药端朝向第二药水喷头232倾斜，所述第二药水喷头232的喷药端朝向第四药水喷头234倾斜。

也就是说，本实用新型的药水反应箱100可同时容纳两排待镀产品，两排待镀产品同时反应，提高加工效率。

第四药水喷头234及第二药水喷头232的倾斜设置原理，与第一药水喷头231及第三药水喷头233的设置原理相同。此处需要注意的是，第三药水喷头233及第四药水喷头234皆布置在第二喷药管222上，可选择的方式有多种（以下举例仅为示意性说明，无法穷尽所有实施方式）：比如、在同一根喷药管上，第三药水喷头233与第四药水喷头234间隔设置；又比如、在第一根第二喷药管222上只设置第三药水喷头233，第二根第二喷药管222上只设置第四药水喷头234，依次类推，进行间隔排布；再比如、在第一根第二喷药管222上只设置第三药水喷头233，在第二根第二喷药管222上间隔排布第三药水喷头233及第四药水喷头234，在第三根第二喷药管222上只设置第四药水喷头234，依次类推；等等诸多实施例。

具体地，所述第四药水喷头234与第二药水喷头232镜像对称设置；即第四药水喷头234与第二药水喷头232数量相同，位置对应，倾斜角度相同（方向相反）；以使待镀产品两侧面受力位置相同，受力均匀，防止较薄的待镀产品被损坏。

根据本实用新型的另一方面，所述入板口两侧各放置有一挡气板400，如图6所示，挡气板400并不与药水反应箱100相连接，只是放置在药水反应箱100上端，使挡气板400可以活动，若挡气板400固定不动，则在待镀产品进入药水反应箱100，并与挡气板400发生碰撞时，容易被损坏，在挡气板400可活动的情况下，二者相撞，挡气板400可随之掀起，防止待镀产品受损。

进一步地，所述过滤箱600内设置有至少一个滤芯610，如图10及图11所示；所述滤芯610上端连接有取料板620，所述取料板620上设置有多个取放孔621，如图11所示。当需要更换、维修或维护滤芯610时，工作人员可将手指插入取放孔621，提出或放入滤芯610，提高使用方便性。具体地，所述滤芯610设置有多个，多个滤芯610之间上端通过挡板630隔开，下端连通。

在具体实施时，所述待渡板入槽导正结构还包括：进药泵浦及出药泵浦，进药泵浦及出药泵浦的位置本实用新型不做具体限定。

本实用新型还提供了一种pth生产线，所述pth生产线包括如上所述的待渡板液流导正结构，pth生产线可以是单侧的，也可以是双侧的（即两组生产线共用一个飞靶导向架）。

应当理解的是，本实用新型的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。