用于平面工件的湿式处理的设备、用于所述设备的单元的装置及操作所述设备的方法与流程

文档序号:30108921发布日期:2022-05-18 15:44阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种用于平面工件的湿式处理的设备的单元的装置,其包括:包括第一壁(13a)及第二壁(13b)的结构,其中所述工件可在中心平面(4)中在第一方向(y)上移动通过所述第一壁(13a)与所述第二壁(13b)之间的空间(3),其中用于将加压液体引入所述第一壁(13a)与所述第二壁(13b)之间的孔隙(27)提供于所述中心平面(4)的相对侧上且面向所述中心平面(4),其中所述孔隙(27)在所述第一方向(y)及横向于所述第一方向(y)的第二方向(x)上分布,其中用于使所述液体离开所述空间(3)的排放开口(28a、28b)沿着所述空间(3)在所述第一方向(y)上的范围界定于在所述第二方向(x)上所见的所述空间(3)的相对侧上,且其中所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)形成对来自所述空间在垂直于所述中心平面(4)的方向(z)上的液体流的屏障,其特征在于穿过所述壁(13a、13b)提供通道(23a、23b、24a、24b),每一通道(23a、23b、24a、24b)经配置以将液体传导到所述孔隙(27)中的相应一者。2.根据权利要求1所述的装置,其中所述孔隙(27)界定于所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)的表面中的所述相应通道(23a、23b、24a、24b)的末端处。3.根据权利要求1或2所述的装置,其包括第一液体分配装置(2a)及第二液体分配装置(2b),其中所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)分别包括所述第一液体分配装置(2a)及所述第二液体分配装置(2b)的壁(14a、14b),且其中所述第一液体分配装置(2a)及所述第二液体分配装置(2b)经安装使得所述空间(3)在所述液体分配装置(2a、2b)之间延伸。4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其中在所述第二方向(x)上跨所述通道(23a、23b、24a、24b)的入口延伸的至少一个液体分配空间(17a、17b)界定于所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)中的至少一者的与所述空间(3)相对的侧上。5.根据权利要求4所述的装置,其中所述液体分配空间(17a、17b)通过屏障(16a、16b)定界,所述屏障(16a、16b)相对于所述壁(13a、13b)倾斜,使得所述液体分配空间(17a、17b)朝向所述壁(13a、13b)的边缘渐缩。6.根据权利要求4或5所述的装置,其包括至少一个发散液体导管(20a、20b),其在一侧上具有可连接到液体供应导管(11a、11b)的入口(10a、10b),且朝向在沿着所述发散液体导管(20a、20b)的宽度的多个位置处与所述液体分配空间(17a、17b)液体连通的相对侧变宽。7.根据权利要求3及6所述的装置,其中所述发散液体导管(20a、20b)及所述液体分配空间(17a、17b)通过屏障(16a、16b)界定于在所述第一液体分配装置(2a)及所述第二液体分配装置(2b)中的一者的外壳内的
腔室(12a、12b)内,所述屏障(16a、16b)在所述腔室(12a、12b)内延伸。8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其中所述排放开口(28a、28b)中的至少一者由沿着所述空间(3)的所述第一方向(y)上的所述范围在例如所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)的边缘的对置液体不可渗透部分之间延伸的单个间隙形成。9.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其进一步包括在所述中心平面(4)与所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)中的一者之间的平面中延伸的至少一个液体可渗透电极(5a、5b),例如平面电极。10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其进一步包括在所述中心平面(4)与所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)中的一者之间的平面中延伸的至少一个液体可渗透屏蔽结构(6a、6b),例如平面屏蔽结构。11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其中延伸到所述孔隙(27)的喷嘴(25a到25d)提供于所述第一壁及所述第二壁中。12.根据权利要求11所述的装置,其中所述喷嘴(25a到25d)的孔口(26、27a到d)具备在所述第二方向(x)上具有比所述第一方向(y)上大的尺寸的长形形状。13.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其中所述孔隙(27)以至少大致在所述第二方向(x)上延伸的行对准。14.根据权利要求13所述的装置,其中所述孔隙(27)在每一行内均匀地分布。15.根据权利要求14所述的装置,其中每一行的所述孔隙(27)在所述第二方向上相对于至少另一行的所述孔隙(27)偏移。16.根据权利要求15所述的装置,其中所述孔隙(27)以与所述第一方向(y)成锐角(α)延伸的列对准。17.根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置,其中所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)具备呈以下中的至少一者的孔隙(27):(i)每m2至少460个孔隙(27)的表面密度;及(ii)在所述第二方向(x)上的每m至少16个孔隙(27)的线性密度。18.一种用于平面工件的湿式处理的设备,其包括至少一个根据前述权利要求中任一权利要求所述的装置(1)。19.根据权利要求18所述的设备,其进一步包括用于将液体泵送到所述孔隙(27)的至少一个泵。20.根据权利要求18或19所述的设备,其中所述装置(1)是根据权利要求8所述的装置(1),且其中所述设备进一步包括输送装置(7),所述输送装置(7)包括用于在工件的边缘处可释放地接合所述工件、经导引用于在所述第一方向(y)上沿着所述间隙(28a、28b)的所述范围移动的至少一个夹钳(8)及用于驱动所述输送装置(77)移动的至少一个驱动器(9)。21.一种操作根据权利要求18到20中任一权利要求所述的设备的方法,
其包括将液体泵送通过孔隙(27)且通过排放开口(28a、28b)同时使工件在所述中心平面(4)中移动通过所述装置。22.根据权利要求21所述的方法,其中所述液体是以足以确保所述工件的任何区段从所述中心平面(4)移出朝向所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)中的一者产生趋于使所述区段返回朝向所述中心平面(4)的局部力的速率泵送通过。23.一种根据权利要求1到17中任一权利要求所述的装置(1)及根据权利要求18到20中任一权利要求的设备中的至少一者制造例如光电装置的半导体装置的用途。

技术总结
本发明公开一种用于平面工件的湿式处理的设备的单元的装置,其包括包括第一(13a)及第二壁(13b)的结构。所述工件可在中心平面(4)中在第一方向(y)上移动通过所述第一壁(13a)与所述第二壁(13b)之间的空间(3)。用于将加压液体引入所述第一壁(13a)与所述第二壁(13b)之间的孔隙(27)提供于所述中心平面(4)的相对侧上且面向所述中心平面(4)。所述孔隙(27)在所述第一方向(y)及横向于所述第一方向(y)的第二方向(x)上分布。用于使所述液体离开所述空间(3)的排放开口(28a、28b)沿着所述空间(3)在所述第一方向(y)上的范围界定于在所述第二方向(x)上所见的相对侧上。所述第一壁(13a)及所述第二壁(13b)形成对来自所述空间的在垂直于所述中心平面(4)的方向(z)上的液体流的屏障。穿过所述壁(13a、13b)提供通道(23a、23b、24a、24b),每一通道(23a、23b、24a、24b)经配置以将液体传导到所述孔隙(27)中的相应一者。以将液体传导到所述孔隙(27)中的相应一者。以将液体传导到所述孔隙(27)中的相应一者。


技术研发人员:费迪南多
受保护的技术使用者:德国艾托特克有限两合公司
技术研发日:2020.09.11
技术公布日:2022/5/17
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1