真空泵及质量分析装置的制作方法

本发明涉及一种真空泵及质量分析装置。

背景技术：

涡轮分子泵(turbo-molecular pump)等真空泵作为可生成洁净的高真空环境的泵而用于各种装置。作为这种装置的一例，有质量分析器。在质量分析器中，四极杆(quadrupole rod)或检测器中的真空度设定为比离子源中的真空度高5倍至10倍左右。因此，已知有包含多个吸气口，以能够利用一台真空泵应对这种装置的真空泵(例如，参照专利文献1)。

在专利文献1所述的真空泵中，包括第1涡轮分子平台及第2涡轮分子平台以及霍尔维克(Holweck)平台，并且包括可流入至第1涡轮分子平台的第1吸气口、可流入至第1涡轮分子平台与第2涡轮分子平台之间的第2吸气口、以及可流入至霍尔维克平台的第3吸气口。在霍尔维克平台的定子(stator)侧，形成有与所述第3吸气口连通的贯通孔。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2003-129990号公报

技术实现要素：

[发明所要解决的问题]

然而，在霍尔维克平台的定子中形成有多个螺旋槽，在所述多个螺旋槽的各个中进行气体排出。但是，在专利文献1所述的真空泵中，所述贯通孔仅贯通于多个螺旋槽之中的一部分螺旋槽，所以在每个螺旋槽内气体的流量不同。其结果为：霍尔维克平台的吸气侧压力升高，从而导致泵整体的排气性能的恶化。

[解决问题的技术手段]

本发明的优选实施方式的真空泵包括：第1泵平台；第2泵平台，设置在比所述第1泵平台更靠泵下游侧的位置，包括沿内周面圆周方向交替地形成有多个螺纹槽及螺纹牙的圆筒状定子、以及设置在所述圆筒状定子的内周侧的圆筒状转子(rotor)；第1吸气口，设置在比所述第1泵平台更靠上游侧的位置；以及第2吸气口，设置在比所述第1泵平台更靠下游侧的位置，与所述第2泵平台连通；并且在所述圆筒状定子上，形成有贯通所述圆筒状定子且与形成于内周面的一个以上的所述螺纹槽连通的一个以上的贯通孔，形成于所述圆筒状定子的所述一个以上的贯通孔的各圆周方向尺寸的合计被设定为所述圆筒状定子的外周面上的所述第2吸气口所对向的区域的圆周方向尺寸以上，并且包含将从所述第2吸气口流入的气体引导至所述贯通孔所贯通且与所述第2吸气口所对向的区域相离的螺纹槽的气体通路。

在更优选的实施方式中，所述气体通路包含形成于所述圆筒状定子的外周面的槽及形成于以覆盖所述圆筒状定子的外周侧的方式而设置的泵壳体的内周面的槽中的至少一者。

在更优选的实施方式中，所述气体通路是以与所述贯通孔的开口的整个区域相对向的方式而形成。

本发明的优选实施方式的质量分析装置包括：所述真空泵；第1分析单元；第2分析单元，在压力高于所述第1分析单元的压力区域内工作；第1腔室(chamber)，收纳所述第1分析单元，并包含连接所述真空泵的第1吸气口的第1排气口；以及第2腔室，收纳所述第2分析单元，并包含连接所述真空泵的第2吸气口的第2排气口。

[发明的效果]

根据本发明，在包含多个吸气口的真空泵中，可实现排气性能的提高。

附图说明

图1是表示本发明的真空泵的第1实施方式的一例的外观立体图。

图2是沿轴方向将真空泵加以剖开的剖面图。

图3是图2的A1-A1剖面图。

图4是表示第1螺杆定子的内周面侧的形状的展开图。

图5(a)及图5(b)是对比地表示本实施方式的泵构成与现有的真空泵的构成的图。

图6是表示所述第1实施方式的第1变形例的图。

图7是表示所述第1实施方式的第2变形例的图。

图8(a)及图8(b)是表示第2实施方式的一例的图。

图9是表示图8(a)所示的第1螺杆定子的外周面侧的展开图。

图10(a)及图10(b)是表示图9的D1-D1剖面及D2-D2剖面的图。

图11是表示质量分析装置的一例的图。

图12是表示不贯通螺纹牙时的第1螺杆定子的展开图。

[符号的说明]

1：真空泵

10：轴

20：第1涡轮机转子

21：第1涡轮机叶片段

22：第1固定叶片段

23、33、50：间隔件

34：圆板部

60a～60c、600a：贯通孔

30：第2涡轮机转子

31：第2涡轮机叶片段

32：第2固定叶片段

40：磁铁保持器

41：保持器支撑部

42、84：滚珠轴承

43、44：永久磁铁

60：第1螺杆定子

60G1、60G2、700、701：气体通路

61：第2螺杆定子

62：第1圆筒转子

63：第2圆筒转子

70：第1壳体

71：第1吸气口

71a～73a：密封圈槽

72：第2吸气口

73：第3吸气口

75：凸缘部

80：第2壳体

81、82：排气通路

83：轴承保持器

85：排气端口

86：散热鳍片

90：马达转子

91：马达定子

100：质量分析装置

110：质量分析部

112：加热块

113：第1中间室

114：第2中间室

115：分析室

120：去溶剂管

121：第1离子透镜

122：撇渣器

123：八极装置

124：聚焦透镜

125：入口透镜

126：第1四极杆

127：第2四极杆

128：检测器

131、132、133：排气口

150：离子化室

151：离子化用喷雾器

152：配管

601：螺纹牙

DL：虚线

G：箭头

GL1～GL11：螺纹槽

HP：霍尔维克(Holweck)泵平台

L1：与第3吸气口73相对向的定子外周面区域的圆周方向尺寸

L2：贯通孔60的圆周方向尺寸

L2a：贯通孔60a的圆周方向尺寸

L2b：贯通孔60b的圆周方向尺寸

L3：与气体通路700相对应的以两点点划线TDCL表示的区域的圆周方向尺寸

LC：液相色谱部

TDCL：两点点划线

TP1：第1涡轮分子泵平台

TP2：第2涡轮分子泵平台

W1：与第3吸气口相对向的定子外周面区域的轴方向尺寸

W2：贯通孔60a的轴方向尺寸

W3：与气体通路700相对应的以两点点划线TDCL表示的区域的轴方向尺寸

具体实施方式

以下，参照附图对用以实施本发明的方式进行说明。

-第1实施方式-

图1是表示本发明的真空泵的一个实施方式的外观立体图。真空泵1包括第1壳体70及第2壳体80。在第1壳体70上，设置有形成有第1吸气口71、第2吸气口72及第3吸气口73的凸缘(flange)部75。在第1吸气口71、第2吸气口72及第3吸气口73上，分别形成有安装密封圈(seal ring)的密封圈槽71a、密封圈槽72a、密封圈槽73a。如下所述，在第2壳体80中设置有马达(motor)，在第2壳体80的表面(真空泵1的底面)形成有散热鳍片86。

图2是沿轴方向将真空泵1加以剖开的剖面图。另外，图3是图2的A1-A1剖面图。在第1壳体70的内部，设置有固定有第1涡轮机转子(turbinerotor)20、第2涡轮机转子30及马达转子90的轴(shaft)10。轴10由使用永久磁铁43、永久磁铁44的磁轴承及滚珠轴承(ball bearing)84所支撑。设置在马达转子90的外周侧的马达定子91保持于第2壳体80。滚珠轴承84保持于固定在第2壳体80的轴承保持器(bearing holder)83。

永久磁铁44固定在形成于轴10的图示右端部的凹部内。配置在永久磁铁44的内侧的永久磁铁43保持于磁铁保持器40。磁铁保持器40固定在保持器支撑部41，所述保持器支撑部41固定在第1壳体70。在磁铁保持器40上，设置有滚珠轴承42。滚珠轴承42是作为对轴10的离心旋动(centrifugal whirling)进行限制以使永久磁铁44与永久磁铁43不接触的限制构件而发挥作用。

在第1涡轮机转子20上，沿轴方向形成有多段包含多个涡轮机叶片的第1涡轮机叶片段21。相对于多个第1涡轮机叶片段21，沿轴方向交替地配置有包含多个涡轮机叶片的第1固定叶片段22。第1涡轮分子泵平台TP1由所述第1涡轮机叶片段21及第1固定叶片段22所构成。

在第2涡轮机转子30上，沿轴方向形成有多段包含多个涡轮机叶片的第2涡轮机叶片段31。相对于多个第2涡轮机叶片段31，沿轴方向交替地配置有包含多个涡轮机叶片的第2固定叶片段32。第2涡轮分子泵平台TP2由所述第2涡轮机叶片段31及第2固定叶片段32所构成。第1固定叶片段22及第2固定叶片段32的轴方向(图示左右方向)上的定位是通过间隔件(spacer)23、间隔件33、间隔件50来进行。

在第2涡轮机转子30的比第2涡轮机叶片段31更靠泵下游侧(图示左侧)的位置，形成有圆板部34。在圆板部34，固定有第1圆筒转子62及第2圆筒转子63。第2圆筒转子63配置在第1圆筒转子62的内周侧。在第1圆筒转子62的外周侧设置有第1螺杆定子60，在第1圆筒转子62与第2圆筒转子63之间设置有第2螺杆定子61。在第1螺杆定子60上，在与第1壳体70的第3吸气口73相对向的位置，形成有贯通孔60a。

如图3所示，在第1螺杆定子60的内周面、第2螺杆定子61的外周面及内周面、以及第2圆筒转子63的内周面所对向的第2壳体80的对向面上，分别形成有螺纹槽及螺纹牙。霍尔维克(Holweck)泵平台HP由第1圆筒转子62、第2圆筒转子63、第1螺杆定子60、第2螺杆定子61、以及形成于第2壳体80的对向面的螺纹槽及螺纹牙所构成。

从图2的第1吸气口71流入的气体通过第1涡轮分子泵平台TP1排出至第1涡轮分子泵平台TP1的下游侧。另外，从第2吸气口72流入的气体、以及经第1涡轮分子泵平台TP1排出的气体通过第2涡轮分子泵平台TP2而排出至第2涡轮分子泵平台TP2的下游侧。经第2涡轮分子泵平台TP2排出的气体、以及从第3吸气口73流入的气体通过霍尔维克泵平台HP而排出。经霍尔维克泵平台HP排出的气体通过形成于第2壳体80的排气通路81、排气通路82，从排气端口85排出。第1吸气口71、第2吸气口72、第3吸气口73的压力P是以P(71)＜P(72)＜P(73)的方式越靠下游侧越高。

图4是表示第1螺杆定子60的内周面侧的形状的展开图。在第1螺杆定子60的内周面(即，与第1圆筒转子62相对向的面)，交替地形成有螺纹槽及螺纹牙。在图4所示的示例中，形成有十个螺纹槽GL1～螺纹槽GL10及十个螺纹牙601。螺纹槽GL1～螺纹槽GL10及螺纹牙601从吸气侧向排气侧沿转子旋转方向倾斜。

形成于第1螺杆定子60的贯通孔60a是以从螺纹槽GL3跨越至螺纹槽GL7的方式，在第1螺杆定子60的圆周方向上细长地形成。另一方面，虚线DL表示与第3吸气口73相对向的定子外周面区域的展开形状，即，将圆弧状区域加以展开而形成为平面状区域时的形状。另外，两点点划线TDCL表示形成于第1壳体70的内周面的气体通路700的展开形状。气体通路700是以从第3吸气口73沿圆周方向延伸的方式而形成。

贯通孔60a的圆周方向尺寸(图示左右方向)设定为L2，轴方向尺寸(图示上下方向尺寸)设定为W2。同样地，与第3吸气口73相对向的定子外周面区域的圆周方向尺寸设定为L1，轴方向尺寸设定为W1。另外，与气体通路700相对应的以两点点划线TDCL表示的区域的圆周方向尺寸设定为L3，轴方向尺寸设定为W3。在图4所示的示例中，这些尺寸是设定为L1≦L2≦L3、以及W1＝W3≦W2。

通过设定为L1≦L2，可将从第3吸气口73流入的气体有效地导入至螺纹槽内。相反地，当设定为L1＞L2时，从第3吸气口73至第3吸气口73未对向的贯通孔区域为止的电导(conductance)变小，相对于从第3吸气口73流入的气体量，通过螺纹槽而排出的气体流量降低。其结果为：第3吸气口73的压力有可能上升。即，为了进一步降低第3吸气口73的压力，优选的是设定为L1≦L2。

此外，关于气体通路700的圆周方向尺寸L3，也优选的是设定为L2≦13，以使气体通路700形成为至少与贯通孔60a的开口的整个区域相对向。由此，可使流入至贯通孔60a所连通的各螺纹槽GL3～螺纹槽GL7的气体量更均匀。当然，即使是L2＞L3，虽然气体流量均匀效果差，但是气体通路700也具有将来自第3吸气口73的气体引导至各螺纹槽GL3～螺纹槽GL7的功能。

图5(a)及图5(b)是对比地表示图3、图4所示的本实施方式的泵构成与现有的真空泵(例如，所述专利文献1中所记载的真空泵)的构成的图。均是将第3吸气口73的部位相对于泵轴垂直地加以剖开的图，关于比第1圆筒转子62更靠内侧的位置的构成，省略图示。

图5(b)是表示现有的泵的示例的图，形成于第1螺杆定子60的贯通孔600a仅形成于与第3吸气口73相对向的区域。因此，从第3吸气口73流入的气体流入至贯通孔600a所贯通的螺纹槽GL4、螺纹槽GL5及螺纹槽GL6，但不流入至其它螺纹槽GL1～螺纹槽GL3、螺纹槽GL7、螺纹槽GL10。其结果为：螺纹槽GL4、螺纹槽GL5及螺纹槽GL6的气体流量大于其它螺纹槽GL1～螺纹槽GL3、螺纹槽GL7、螺纹槽GL10的气体流量。

通常而言，第3吸气口73的压力为第2吸气口72的压力的十倍以上。因此，霍尔维克泵平台HP的吸气侧压力是通过形成有贯通孔60a的螺纹槽的吸气侧压力所支配。当对比图5(a)及图5(b)时，图5(a)的构成中，气体所流入的螺纹槽的数量更多，因此可进一步降低螺纹槽的吸气侧压力。其结果为：可实现真空泵1的排气性能的提高。

在图5(a)所示的本实施方式的情况下，从第3吸气口73流入的气体如以虚线箭头G所示流入至泵内。流入气体不仅流入至设置在与第3吸气口73相对向的区域的螺纹槽GL4、螺纹槽GL5及螺纹槽GL6，而且还经过气体通路700流入至螺纹槽GL3及螺纹槽GL7。另外，使贯通孔60a的圆周方向尺寸L2大于图5(b)的情况，而且形成有气体通路700，所以关于螺纹槽GL4、螺纹槽GL6的从第3吸气口73的出口至螺纹槽为止的电导大于图5(b)的情况。其结果为：向螺纹槽GL4、螺纹槽GL6的气体流入量增加。在图5(a)所示的构成的情况下，可使来从第3吸气口73的气体流入至形成有多个的螺纹槽GL1～螺纹槽GL10中的更多螺纹槽，从而与现有的情况相比可实现螺纹槽的流量均匀化。

如上所述，为了将从第3吸气口73流入的气体导入至更多的螺纹槽，优选的是如图4所示将贯通孔60a的圆周方向尺寸L2设为第3吸气口73所对向的区域(图4的以虚线DL表示的区域)的圆周方向尺寸L1以上。但是，当设为此种构成时，不与第3吸气口73相对向的区域的螺纹槽(例如，图5(a)的螺纹槽GL3)相比于与第3吸气口73相对向的区域的螺纹槽，从第3吸气口73至螺纹槽为止的电导更小。因此，在本实施方式中，通过设置气体通路700，来使充分的气体也流入至与第3吸气口73的对向区域隔开的螺纹槽。

再者，即使在图5(a)的构成中无气体通路700的情况下，气体经由贯通孔60a也流入至形成于不与第3吸气口73相对向的区域的螺纹槽GL3、螺纹槽GL7。但是，与设置在第3吸气口73的正下方的螺纹槽GL5相比，螺纹槽GL3、螺纹槽GL7的从第3吸气口73至螺纹槽GL3、螺纹槽GL7为止的电导更小。因此，在本实施方式中，通过设置气体通路700来实现至螺纹槽GL3、螺纹槽GL7为止的电导的改善，从而提高流量均匀化的效果。

图6是表示所述实施方式的第1变形例的图。在图6所示的第1变形例中，气体通路701是遍及第1壳体70的内周面的圆周方向全周而形成。其它构成与图3所示的构成相同。在这种情况下，可获得与图3的构成的情况相同的效果。

图7是表示所述实施方式的第2变形例的图。在图3所示的真空泵中，形成于第1螺杆定子60的贯通孔60a在与第3吸气口73相对向的位置上只设置有一个。在第2变形例的第1螺杆定子60中，在与第3吸气口73相对向的位置设置贯通孔60a，并且在相位与贯通孔60a相差180度的位置形成有第2贯通孔60b。在第1壳体70的内周面，形成有与图6所示的第1变形例的情况相同的气体通路701。在这种情况下，气体通路701也形成为与各贯通孔60a、贯通孔60b的开口的整个区域相对向。

如以箭头G所示从第3吸气口73流入的气体的一部分经由贯通孔60a流入至螺纹槽GL4、螺纹槽GL5、螺纹槽GL6，并且另一部分经由气体通路701从贯通孔60b流入至螺纹槽GL1、螺纹槽GL9、螺纹槽GL10。即，在第3变形例中，从第3吸气口73流入的气体流入至螺纹槽GL1～螺纹槽GL10之中的六个螺纹槽GL1、螺纹槽GL4～螺纹槽GL6、螺纹槽GL9、螺纹槽GL10。其结果为：与图5(b)所示的现有的构成相比，可实现各槽间的压力的均匀化，能进一步降低螺纹槽的吸气侧压力，从而可实现真空泵的性能提高。

-第2实施方式-

图8(a)及图8(b)是表示本发明的真空泵的第2实施方式的图。在所述第1实施方式中，将气体通路700、气体通路701形成在第1壳体70的内周面，而在第2实施方式中，设为将气体通路形成在第1螺杆定子60的外周面。在图8(a)所示的示例中，在第1螺杆定子60上形成有以与第3吸气口73相对向的方式而设置的贯通孔60a、以及相位与所述贯通孔60a相差180度的贯通孔60b。而且，在第1螺杆定子60的外周面，形成有将第3吸气口73与贯通孔60b加以连接的气体通路60G1、气体通路60G2。

图9是表示图8(a)所示的第1螺杆定子60的外周面侧的展开图。贯通孔60a与螺纹槽GL4、螺纹槽GL5、螺纹槽GL6连通，贯通孔60b与螺纹槽GL1、螺纹槽GL9、螺纹槽GL10连通。如上所述，当在第1螺杆定子60上形成两个贯通孔60a、贯通孔60b时，优选的是将贯通孔60a的圆周方向尺寸L2a与贯通孔60b的圆周方向尺寸L2b的合计L2(＝L2a+L2b)相对于与第3吸气口73相对向的定子外周面区域的圆周方向尺寸L1设定为L1≦L2。再者，如图7所示将气体通路701形成于第1壳体70的情况也是同样。

此外，形成三个以上的贯通孔的情况也是同样，优选的是将形成于第1螺杆定子60的一个以上的贯通孔的各圆周方向尺寸的合计被设定为第1螺杆定子60的外周面上的第3吸气口73所对向的区域的圆周方向尺寸以上。

图10(a)是表示图9的D1-D1剖面的图，图10(b)是表示D2-D2剖面的图。在第1螺杆定子60的外周面，遍及全周形成有剖面形状为矩形的槽，气体通路60G1、气体通路60G2构成所述矩形槽的一部分。在图10(b)的D2-D2剖面上，气体通路60G1经由贯通孔60b，与形成于内周面侧的螺纹槽GL10连通。

图8(b)表示设置有三个贯通孔的情况。在第1螺杆定子60上，形成有以与第3吸气口73相对向的方式而设置的贯通孔60a、以及相位不同的两个贯通孔60b、贯通孔60c。图示左侧的贯通孔60b经由气体通路60G1与第3吸气口73连接。图示右侧的贯通孔60c经由气体通路60G2与第3吸气口73连接。其结果为：流入至第3吸气口73的气体从贯通孔60a～贯通孔60c流入至螺纹槽GL1～螺纹槽GL6、螺纹槽GL8、螺纹槽GL9。

再者，在将气体通路形成于第1壳体70的内周面的第1实施方式的情况下，也可与图8(b)所示的情况同样地将贯通孔的数量设定为三个以上。

(质量分析装置)

图11是表示搭载具有三个吸气口71～吸气口73的真空泵1的质量分析装置100的一例的图。图11是表示利用电喷射离子化法(electrosprayionization，ESI)的液相色谱质量分析装置的概略构成的示意图。质量分析装置100包括离子化室150及质量分析部110。在质量分析部110，分别经由隔壁设置有与离子化室150邻接的第1中间室113、与第1中间室邻接的第2中间室114、以及与第2中间室114邻接的分析室115。

真空泵1的第1吸气口71与分析室115的排气口131连接。真空泵1的第2吸气口72与第2中间室114的排气口132连接。真空泵1的第3吸气口73与第1中间室113的排气口133连接。如上所述，利用一个真空泵1对压力区域不同的三个空间(第1中间室113、第2中间室114及分析室115)进行排气。

在离子化室150内设置有离子化用喷雾器(spray)151。经液相色谱部LC成分分离的液体试料通过配管152而供给至离子化用喷雾器151。虽未图示，但是离子化用喷雾器151供给雾化气体，液体试料是通过离子化用喷雾器151而喷雾。在离子化用喷雾器151的前端施加有高电压，在喷雾时进行离子化。在第1中间室113与离子化室150之间设置有加热块(heater block)112，在加热块112中设置有将离子化室150与中间室113加以连通的去溶剂管120。去溶剂管120具有在经离子化室150生成的离子或试料的液滴经过时，促进去溶剂化及离子化的功能。

在第1中间室113内，设置有第1离子透镜121。在第2中间室114内，设置有八极装置(octupole)123及聚焦透镜(focus lens)124。在第2中间室114与分析室115之间的隔壁上，设置有具有细孔的入口透镜125。在分析室115内，设置有第1四极杆126、第2四极杆127及检测器128。

经离子化室150生成的离子依次经过去溶剂管120、第1中间室113的第1离子透镜121、撇渣器(skimmer)122、第2中间室114的八极装置123及聚焦透镜124、入口透镜125而传送至分析室115，并通过四极杆126、四极杆127排出不需要的离子，仅对抵达至检测器128的特定离子进行检测。

根据所述实施方式，可获得下述作用效果。

(1)真空泵1如图2、图4、图5(a)及图5(b)所示，包含多个吸气口(第1吸气口71、第2吸气口72及第3吸气口73)，在圆筒状的第1螺杆定子60上，形成有贯通第1螺杆定子60且与形成于内周面的螺纹槽GL3～螺纹槽GL7连通的贯通孔60a。而且，贯通孔60a的圆周方向尺寸L2a设定为第1螺杆定子60的外周面上的第3吸气口73所对向的区域的圆周方向尺寸L1以上。此外，设为包含气体通路700，所述气体通路700将从第3吸气口73流入的气体引导至贯通孔所贯通且第3吸气口73不对向的螺纹槽GL3、螺纹槽GL7。

如图4所示，将贯通孔60a的圆周方向尺寸L2a设为L1以上，所以可将气体引导至更多的螺纹槽GL3～螺纹槽GL7。此外，通过如图5(a)所示设置气体通路700，可使至第3吸气口73不对向的螺纹槽GL3、螺纹槽GL7为止的电导增大，从而可使向螺纹槽GL3、螺纹槽GL7的气体流入量增多。其结果为：能进一步降低螺纹槽的吸气侧压力，可实现真空泵的性能提高。

当如图9所示在第1螺杆定子60上形成两个贯通孔60a、贯通孔60b时，优选的是将贯通孔60a的圆周方向尺寸L2a与贯通孔60b的圆周方向尺寸L2b的合计L2(＝L2a+L2b)相对于与第3吸气口73相对向的定子外周面区域的圆周方向尺寸L1设定为L1≦L2。由此，可进一步降低螺纹槽的吸气侧压力。

(2)另外，也可如图8(a)及图8(b)所示在第1螺杆定子60的外周面形成槽而形成为气体通路60G1、气体通路60G2，还可如图3所示在以覆盖第1螺杆定子60的外周侧的方式而设置的第1壳体70的内周面形成槽来形成为气体通路700。此外，还可在第1螺杆定子60的外周面与第1壳体70的内周面这两者上形成气体通路用槽，由此可进一步增大气体通路的剖面面积。

(3)此外，优选的是：如图3、图4所示，气体通路700形成为与贯通孔60a的开口的整个区域相对向。通过设为此种构成，可使流入至贯通孔60a所连通的各螺纹槽GL3～螺纹槽GL7的气体量更均匀。

(4)在本实施方式的质量分析装置中，例如，如图11所示，在收纳作为第1分析单元的八极装置123及聚焦透镜124的第2中间室114的排气口132上，连接有真空泵1的第2吸气口72，并且在收纳第1离子透镜121的第1中间室113的排气口133上，连接有真空泵1的第3吸气口，所述第1离子透镜121在压力高于第1分析单元的压力区域内工作。因此，可利用一台真空泵1对多个腔室进行排气，从而可实现质量分析装置100的成本下降。

再者，只要不破坏本发明的特征，本发明丝毫不限定于所述实施方式。例如，在实施方式中，以具有三个吸气口的真空泵为例进行了说明，但是本发明也可以应用于无第2涡轮分子泵平台TP2及第2吸气口72，而包括两个第1吸气口71、第3吸气口73的真空泵。

另外，在所述实施方式中，各贯通孔60a～贯通孔60c是以也贯通螺纹牙601的方式而形成，但是如图12所示，也可设为保留螺纹牙601的部分而只贯通螺纹槽GL3～螺纹槽GL7的部分。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。