专利名称：防止并压密合的华司结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种防止并压密合的华司结构。
背景技术：
一般木工装潢作业，经常会使用钉体作为连结固定构件，但由于所需要连结及固定处可能相当多，若逐一手持钉体用铁锤敲打钉设，不但需要耗费相当多的时间，且相当费力，更可能有不慎击伤手部的问题发生，为了提升作业效率，业内人士开发出专用的钉枪，配合将钉体作出排钉式设计，使其得以利用气动或电动的方式制动钉枪击发钉体，借以将钉体钉入工作物，以达到更安全、省力及便捷的作业效果。 以一般的钉枪设计而言，主要是针对钉体的击发而设计，因此多数仅仅具有单纯的钉槽装填设计，但事实上，在进行木工装潢作业时，有时并非仅仅单纯地利用钉体连结，有时还需使用华司作为钉体与工作物间的钉结接口，此时一般仅具单纯钉槽装填设计的钉枪便有适用性的问题，基于此，发明人研发出一款新式的钉枪，如图I所示，其主要是在钉枪I的枪膛2部位，除了设有钉槽3以供排钉装填组设之外，另外增设华司料匣4供华司装填容设，从而在钉枪I的击钉器击发钉体时，得以使钉体先穿过华司后，再钉入工作物，从而达成钉体与华司一次钉入的作业模式，以解决已知钉枪I无法适用于华司作为接口的作业需求。就此类钉枪的华司料匣在华司的装填而言，若采用逐一装填或成叠装填，直至把华司料匣填满，将造成极大的麻烦与不便，同时耗费相当多的工时，严重影响其作业效率，因此发明人尝试将华司组列成排后，再加以叠置串组，然后一次性地装填于华司料匣内，以获得快速、便捷的作业效率，然而在将华司上、下层叠置并压时，因其形态相符容易发生密合粘滞现象，导致其出料时的顺畅性受到影响，甚至无法准确出料，实有必要再设法加以解决改善。
实用新型内容有鉴于目前华司在作上、下层叠置时，容易产生并压密合问题，发明人特此着手进行研究改良，基于其从事相关行业的多年经验与技术，进而创作出本实用新型的华司改良结构。本实用新型的目的在于通过其结构的组成设计，可有效避免其华司上、下层叠置并压时发生密合现象，从而得以维持其出料的顺畅性与准确性。本实用新型提供了一种防止并压密合的华司结构，主要是将一体式若干片组列的排片状华司排采用上、下层叠置串组；各华司通过由顶面冲制有向下突出的凸点，使华司上、下层得以通过凸点取得点状接触并保持预定间隙，使其没有全面接触迭置的问题，达到预期的防止并压密合功能。优选地，各华司排的华司采用一体冲制成排片状。优选地，各华司排的各相邻的华司的凸点采用同一方位对角形态设置。[0010]优选地，各华司排的各相邻的华司的凸点采用不同方位对角形态设置。优选地，该上、下层华司的凸点采用不同方位的对角错开形态设置。经由本实用新型结构的组成设计，使得在将华司作上、下叠置时，其每一华司与其上、下叠置的华司仅保持点状接触，借以保有上、下适当间隙，从而避免全面性并压接触，从而可有效防止其发生密合粘滞问题，进而有效维持其出料的顺畅性与准确性。此外，通过其结构的规划设计，使其每一华司与其上、下层华司的接触点呈错开关系，从而确实避免并压密合的现象发生。
图I是附设有钉槽、华司料匣的钉枪的结构示意图；图2是本实用新型华司排第一较佳实施例的结构示意图；图3是本实用新型华司第一较佳实施例的结构示意图；图4是本实用新型华司排第一较佳实施例的叠置及配合插销的关系示意图；图5是本实用新型华司排第二较佳实施例的结构示意图；图6是本实用新型华司第二较佳实施例的结构示意图；图7是本实用新型华司排第二较佳实施例的叠置及配合插销的关系示意图；图8是本实用新型华司排第三较佳实施例的结构示意图；图9是本实用新型华司第三较佳实施例的结构示意图；图10是本实用新型华司排第三较佳实施例的叠置及配合插销的关系示意图；图11是本实用新型华司排第四较佳实施例的结构示意图；图12是本实用新型华司第四较佳实施例的结构示意图；图13是本实用新型华司排第四较佳实施例的叠置及配合插销的关系示意图；图14A，B是本实用新型弧凹华司、平面华司示意图。其中，主要附图标记含义I、钉枪2、枪膛3、钉槽4、华司料匣10、华司排11、华司基材12、华司13、冲裁线14、凸点20、插销
具体实施方式
有关于本实用新型的结构组成、技术手段及功效达成方面，谨配合图式再予举例进一步具体说明于后首先，如图2-14所示，说明本实用新型实施于一体式若干片排列的排片状的华司排10的较佳实施例，如图所示，其主要是以长条状金属片作为华司基材11，经过冲压技术而冲制出若干片华司12，其各自相邻的华司12接口处分别设有未完全断开的冲裁线13，使其得以呈现排片状的组列与上、下叠置串组，而上述华司12依其适用对象与使用需求而得以设置为各种弧凹华司、平面华司等不同结构形态(如图14所示)，而为了避免其华司排10上、下层在叠置后配合两根或两根以上的插销20将若干片华司排10串组时，发生上、下层相互叠置并压而产生密合现象，本实用新型是在华司基材11经冲压技术而冲制出若干片华司12的同时，在各华司12的顶面两个对角部位也一体冲制出向下突出的凸点14，而所述凸点14的设置，得以采用各华司12均位于同一方位的两个对角部位上，再在华司排10作上、下叠置时，令其华司排10上、下层作反向叠置，以使其上、下相对的华司12的凸点14互相呈错开关系，或者是将其各自相邻的华司排10凸点14采用不同方位的对角形态设置，并在其华司排10作上、下层叠置时，使其上层华司12的凸点14与下层华司12的凸点14呈错开叠置，如此一来，将可借由上层华司12的凸点14与下层华司12形成两点式接触，并使华司10上、下层保有适当间隙，从而可有效地避免其发生上、下层相互叠置并压而产生密合现象 ，令其华司12在出料时不会有相互粘滞干扰的问题产生，从而维持其出料的顺畅性与准确性，确实保证其作业质量与效率。总结以上说明，本实用新型为了避免华司在上、下层叠置串组时，发生并压密合现象而导致出料粘滞干扰的问题，通过其对角部位的凸点设置，配合其错离叠置关系，特别有效地维持华司上、下层的适当间隙，使其无并压密合的问题，可彻底解决已知结构所存在及衍生的问题与缺点，整体而言，诚不失为一优异、突出的创新设计，特此依法提出专利申请。以上所述，仅为本实用新型的个别较佳实施例而已，不能以此限定本实用新型实施的范围，即大凡依本实用新型申请专利范围所作出的均等变化与修饰，皆应属本实用新型涵盖的范围之内。
权利要求1.ー种防止并压密合的华司结构，主要是将一体式若干片组列的排片状华司排，采用上、下层叠置串组；其特征在干 各华司通过由顶面冲制有向下突出的凸点，使华司上、下层得以通过凸点取得点状接触并保持预定间隙。
2.根据权利要求I所述的防止并压密合的华司结构，其特征在于，各华司排的华司采用一体冲制成排片状。
3.根据权利要求I所述的防止并压密合的华司结构，其特征在于，各华司排的各相邻的华司的凸点采用同一方位对角形态设置。
4.根据权利要求I所述的防止并压密合的华司结构，其特征在于，各华司排的各相邻的华司的凸点采用不同方位对角形态设置。
5.根据权利要求I所述的防止并压密合的华司结构，其特征在于，该上、下层华司的凸点采用不同方位的对角错开形态设置。
专利摘要本实用新型提供一种防止并压密合的华司结构，特别是为避免华司在叠置状态下，发生上下密合粘滞现象，影响其出料的顺畅性与正确性而设计；其主要是在华司基材上采用一体冲制成若干片组列的排片状的华司排时，同步由其顶面的两个对角部位一体冲制出向下突出的凸点，且在华司呈若干片组列的排片状之后的上、下叠置并压时，使华司上、下层的凸点呈错开状位于不同方位的对角上，借以利用所述凸点的突出高度，使华司上、下层仅具有两点式接触而能保有预定间隙，从而有效避免发生华司上、下层相互叠置并压而产生密合现象，使其出料时无粘滞干扰的问题，从而可维持其出料的顺畅性与准确性。
文档编号F16B43/00GK202418199SQ20112055932
公开日2012年9月5日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者姚顺平 申请人:姚顺平