密封装置和密封装置的制造方法与流程

本发明涉及密封装置和密封装置的制造方法。

背景技术：

1、一般来说，已知一种切换装置，其包括形成有多个端口的壳体和配置于壳体内并且具有连通路的阀体，通过使阀体旋转，从而切换利用连通路连通的端口的组合、即切换流路。作为这样的切换装置，提出了在作为壳体的主体和阀体之间设有o型圈的切换装置(例如、参照专利文献1)。在专利文献1所述的装置中，主体和阀体具有圆锥面，通过在它们之间设置o型圈来实现防止流体的泄漏。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2013-92176号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、如专利文献1所记载的那样，在使阀体相对于壳体旋转的装置中，期望实现低摩擦化(即降低滑动阻力)。因此，考虑在滑动面设置氟树脂等滑动构件的结构。另外，这样的密封构件例如具有沿着呈圆筒面的壳体的内周面的形状，且具有用于使壳体的开口与阀体的连通路连通的贯通孔，需要在曲面形成贯通孔。但是，在设有滑动构件的密封构件中，可能使在曲面形成贯通孔这样的复杂加工变得困难，难以兼顾低摩擦化和制造容易性。

3、本发明就是鉴于上述技术问题而完成的，其目的在于提供能够容易制造且能够实现低摩擦化的密封装置和密封装置的制造方法。

4、用于解决技术问题的方案

5、为了实现上述目的，本发明的密封装置设于壳体与阀体之间，所述壳体在筒状的内周面形成有多个开口部，所述阀体配置于所述壳体内且通过与该壳体相对旋转来切换流路，所述密封装置包括密封装置主体，所述密封装置主体沿着所述内周面配置并且在内表面或者外表面设有滑动构件，所述密封装置主体具有与所述多个开口部的各个开口部连通的多个贯通孔，并且由平板状的带板状构件弯曲变形而成。

6、在本发明的一形态的密封装置中，所述密封装置主体在从所述壳体被取出且被加热时恢复至接近平板状。

7、在本发明的一形态的密封装置中，所述密封装置主体具有在所述贯通孔的周围从所述内表面和所述外表面突出的凸筋部。

8、在本发明的一形态的密封装置中，所述密封装置主体的与设有所述滑动构件的面相反一侧的面由橡胶材料构成，并且具有橡胶流入用的浇口痕迹。

9、在本发明的一形态的密封装置中，在所述密封装置主体中的沿着轴线方向延伸的端缘部，遍及从设有所述滑动构件的面的一侧起一半以上的区域设有滑动构件。

10、本发明的密封装置的制造方法是设于壳体与转子之间的密封装置的制造方法，所述壳体在筒状的内周面形成有多个开口部，所述转子配置于所述壳体内且与该壳体相对旋转，在所述密封装置的制造方法中，形成在一面侧设有滑动构件的板状的带板状构件，在所述带板状构件的形成时或形成后，在该带板状构件形成贯通孔，使所述带板状构件弯曲变形为沿着所述内周面的形状。

11、在本发明的一形态的密封装置的制造方法中，通过叠合橡胶材料和氟树脂片材并且从重叠方向施加压力，从而成型所述带板状构件。

12、在本发明的一形态的密封装置的制造方法中，在向所述橡胶材料和所述氟树脂片材施加压力时，在所述带板状构件中的所述贯通孔的周围或所述贯通孔的形成预定位置的周围形成向两个表面突出的凸筋部。

13、在本发明的一形态的密封装置的制造方法中，使用具有橡胶注入部的模具对橡胶材料和氟树脂片材施加压力。

14、发明效果

15、根据本发明的密封装置和密封装置的制造方法，能够容易制造并且能够实现低摩擦化。

技术特征：

1.一种密封装置，设于壳体与阀体之间，所述壳体在筒状的内周面形成有多个开口部，所述阀体配置于所述壳体内且通过与该壳体相对旋转来切换流路，其中，

2.根据权利要求1所述的密封装置，其中，

3.根据权利要求1或2所述的密封装置，其中，

4.根据权利要求1或2所述的密封装置，其中，

5.根据权利要求1或2所述的密封装置，其中，

6.一种密封装置的制造方法，所述密封装置设于壳体与转子之间，所述壳体在筒状的内周面形成有多个开口部，所述转子配置于所述壳体内且与该壳体相对旋转，其中，

7.根据权利要求6所述的密封装置的制造方法，其中，

8.根据权利要求7所述的密封装置的制造方法，其中，

9.根据权利要求7或8所述的密封装置的制造方法，其中，

技术总结
本发明提供一种能够容易制造并且能够实现低摩擦化的密封装置和密封装置的制造方法。密封装置(1)设于壳体(200)与转子(300)之间，该壳体(200)在筒状的内周面(201A)形成有多个开口部(2011～2016)，该转子(300)配置于壳体(200)内且通过与壳体(200)相对旋转来切换流路。密封装置(1)包括沿着内周面(201A)配置并且在内表面(2B)或外表面(2A)设有滑动构件的密封装置主体(2)。密封装置主体(2)是具有与多个开口部(2011～2016)的各个开口部连通的多个贯通孔(231～235)并且由平板状的带板状构件(6)弯曲变形而成的构件。

技术研发人员：但野光,柳得德,铃木博志,吉村浩一
受保护的技术使用者：NOK株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/2/25