技术领域本发明涉及气体供气分布装置，尤其属于工业用气中的供气分布装置。
背景技术：
目前在工业用气中，都会有惰性气体供气的装置，最先是在铜管上间隔均匀地钻孔，这样会导致铜管进口一端气流量大，铜管出口一端气流量小，整条靶线的供气很不均匀；后来人们经过改进是将出气铜管分段分级焊接，然后再通过分段分级焊接后的铜管出气管进行供气，这样虽然对于新设备达到了供气较为均匀，但是，铜管分段焊接工艺复杂，导致成本提高，而且在分段分级的铜管供气经过一段时间后，铜管很容易吸附杂质在管外壁，由于铜管是分段分级焊接，管外的杂质容易掉落玻璃上，导致膜层易产生针孔，从而导致产品缺陷，本发明发明大大提高了产品成品率。
技术实现要素：
本发明的目的是，为了克服现有技术的缺陷与不足，提供一种结构简单、容易清理、能长时间保持供气均匀的工业用气供气分布装置。本发明的目的可以通过采取以下技术方案达到：一种新型工业气体均匀分布系统及其制作工艺，包括气瓶和气体分布器，所述的气瓶与气体分布器连接，所述的气体分布器包括至少两块气体分布平板，在其中一块平板上，刻有若干组槽，每组槽由若干级横向和纵向的槽呈阶梯状排布，横向槽将相邻的纵向槽连通，所述的至少两块气体分布平板的接触面是气密性接触面。作为本发明专利的优选实施例，在一块平板上刻有4到11组槽，每组槽是相互独立供气的。与现有技术相比较，本发明具有以下优点：一、在工业用气中，采用本发明专利气体供气装置，在平板上刻槽，相对于现有的将铜管分段分级焊接，工艺简单易行。二、在工业用气中，在平板上铣槽，取代现有的将铜管分段分级焊接，使得供气装置更为耐用，而且随时能够保持整条气瓶路供气均匀。三、在工业用气中，采用本发明专利气体供气装置，在平板上铣槽，取代现有的将铜管分段分级焊接，从而克服了铜管很容易吸附靶镀膜后杂质在管外壁，管外的杂质容易掉落玻璃上，导致镀膜层易产生断层，导致产品缺陷等缺点，本发明大大提高了产品优良率。四、由于在平板上刻槽工艺简单，使得每组出气口密度大大增加，从而使供气更为均匀。附图说明图1是本发明新型工业气体均匀分布系统及其制作工艺整体结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细描述。如图1所示，本发明新型工业气体均匀分布系统及其制作工艺，由至少两块气体分布平板构成气体分布器，两块板的接触面是气密性接触面，通过气瓶8与各组出气槽连接，在一块平板上均匀地刻横向槽2、4、6和纵向槽1、3、5、7，槽1沿靶条方向均匀分布，根据需要确定槽1的间隔距离，横向槽2将相邻两个槽1连通，气体经过气瓶8依次流过槽7、6、5、4、3、再到槽2、最后由槽1出气，根据需要确定每组气体分布器中横槽和竖槽的数量。由于该工艺简单易行，可以使出气一级的槽间隔距离更少，从而达到供气更为均匀，而且各个槽是相对独立的，这样可以实现分段独立供气。以上所揭露的仅为本发明的较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明申请专利范围所作的等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。