检测系统的制作方法

文档序号:5873236阅读:91来源:国知局
专利名称:检测系统的制作方法
技术领域
本发明总体上涉及光学检测,尤其涉及一种使用扫描仪检测有关的对象的缺陷或特征的系统。
背景技术
显示装置,例如液晶显示器(Liquid crystal display, LCD)装置,是用于电子式显示包括文字、影像及动画的信息。LCD可包括数层,例如偏光滤光片,玻璃基板,彩色滤光片,液晶及反射表面,其可决定该LCD的质量。为了检查LCD是否为合格LCD,也就是说,该 LCD是否具有少于预定数量的缺陷,有时候可运用肉眼检测。但是,肉眼检测在LCD的大量生产当中代表耗时、耗工及不准确。再者,随着半导体制造的进步,由肉眼检测来检查具有缩小尺寸的特征的LCD产品可能变得更为困难。因此需要一种检测系统能够自动地检测对象(例如在IXD装置中有关的一层)的缺陷或特征。

发明内容
本发明的实施例可提供一种用于检测产品的系统。该系统可包括扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的影像,该影像包括像素矩阵,其每一者具有灰阶值,及分析装置, 其电性耦合于该扫描仪以接收与分析该产品的影像,该分析装置包括微处理器,用以计算关联于该影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的上述这些灰阶值的平均值,内存,用以储存关联于每一个像素的基准灰阶值,与关联于该基准灰阶值的至少一个临界值,以及比较模块,用以比较该影像中每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的至少一个临界值。本发明的一些实施例还可提供一种用于检测产品的系统。该系统可包括扫描仪, 其包括设置在第一方向上的多个扫描单元,且构形成在垂直于该第一方向的第二方向上扫描该产品,该扫描仪产生该产品的影像,该影像包括像素矩阵,其每一者具有灰阶值,微处理器,用以计算关联于该影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的灰阶值的平均值,以及比较模块,用以比较该影像中每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的第一临界值与第二临界值,其中该第一临界值包括该基准灰阶值的上限,且该第二临界值包括该基准灰阶值的下限。本发明的实施例仍可提供一种用于检测产品的系统。该系统可包括第一扫描仪, 用以扫描该产品,并产生该产品的第一影像,该第一影像包括像素矩阵,其每一者具有灰阶值,第二扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的第二影像,该第二影像包括像素矩阵,其每一者具有灰阶值,及分析装置,其电性耦合于该扫描仪,以接收及分析该产品的第一与第二影像,该分析装置包括微处理器,用以计算关联于在该第一与第二影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的灰阶值的平均值, 内存,用以储存关联于在该第一与第二影像中每一个像素的基准灰阶值,与关联于该基准
4CN 102200519 A
说明书
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灰阶值的至少一个临界值,以及比较模块,用以比较在该第一与第二影像中每一个像素的灰阶值与关联于每一个像素的至少一个临界值。在下文的说明中将部分提出本发明的其它特点与优点,而且从该说明中将了解本发明其中一部分,或者通过实施本发明亦可获知。通过权利要求中特别列出的元件与组合将可了解且达成本发明的特点与优点。应该了解的是,上文的概要说明以及下文的详细说明都仅供作示例与解释,其并未限制本文所主张的发明。


当并同各附图而阅览时,即可更佳了解本发明之前披露的摘要以及上文详细说明。为达到本发明的说明目的,各附图里图绘有实施例。然应了解本发明并不限于各实施例中所绘的精确排置方式及设备装置。在各附图中图IA为根据本发明的一实施例,用于检测的系统的图;图IB为根据本发明的一实施例,在图IA中所示的分析装置的方框图;图2A为根据本发明的一实施例,在图IA中所示的系统内经调适来使用的扫描仪的示意图;图2B为根据本发明的另一实施例,在图IA中所示的系统内经调适来使用的扫描仪的示意图;图3A为根据本发明的另一实施例,用于检测的系统的图3B为根据本发明的又另一实施例,用于检测的系统的示意图
图3C为根据本发明的再另一示例,用于检测的系统的示意图3D为根据本发明的又再另一实施例,用于检测的系统的示意I
图4为说明根据本发明的一实施例的检测方法的流程图;以及
图5为说明根据本发明的另一实施例的检测方法的流程图。
附图元件标记说明
10系统
11面板
12扫描仪
12-1扫描仪
12-2扫描仪
13支撑框架
14信号产生器
15马达
16分析装置
21传感器胞
22传感器胞
25彩色滤光片
30系统
30-130-230-33132-132-237-137-238161162163164165250CHO-CHl 7CH18
具体实施例方式现将详细参照于本发明实施例,其实施例图解于附图之中。尽其可能,所有附图中将依相同元件符号以代表相同或类似的部件。图IA所示为根据本发明一实例的检测系统10。请参照图1A,系统10可包括检测中的产品,例如面板11,扫描仪12,信号产生器14与分析装置16。要进行检测的面板11可放置在支撑框架13中。此外,面板11可包括但不限于显示面板,例如液晶显示器(LCD)面板,其可包括一或多层,例如偏光滤光片、玻璃基板、彩色滤光片与液晶层。由于制造因素,面板11可在该层中包括一或多种缺陷的至少一者,像是刮伤、裂痕、气泡、孔洞及灰尘。当由马达15驱动时,扫描仪12可以预定速率相对于面板11移动。具体而言,扫描仪12可包括设置在第一方向上的多个传感器胞,例如行方向,其可在当扫描仪12在第二方向上,例如箭头所示的列方向移动时扫描面板11。再者,扫描仪12与面板11之间的距离可由机械手臂(未示出)调整,以便在检测面板11中想要检测的层。扫描仪12在扫描面板11之后可提供数据给分析装置16。该数据可包括像素矩阵中的面板11的影像。因此,该影像可提供上述这些每一个像素的位置或坐标的信息。此外,该每一个像素承载对应于光线量的强度信息。具体而言,每一个像素具有灰阶值,其范围可由例如0到255,其中“0”代表黑色,而“255”代表白色。信号产生器14电性耦合于面板11,其可用在面板11上产生用于显示的的所需要的图案。基于该图案,面板11可产生用于检测的特定色彩的视讯框。在一实施例中该图案可包括但不限于红色、绿色、蓝色、灰色、白色与黑色中的一个。例如,黑色视讯框可便于检测面板11中的亮点。在一替代例中,白色视讯框可便于检测面板11中的暗点。再者,灰色
系统系统系统
女口
广口口
第一扫描仪第二扫描仪第一光源第二光源输送带微处理器内存
比较模块排序模块映像模块次像素
扫描单元或扫描频道单一扫描单元视讯框可便于检测面板11中的亮点与暗点。分析装置16可包括例如运算装置,像是个人计算机或工作站计算机。分析装置16 可电性耦合于扫描仪12,并构形成分析自扫描仪12传送的扫描数据。该检测结果的报告可由分析装置16提供。如果有的话,该报告可包括但不限于面板11中的缺陷的数目,缺限的种类可为刮伤、裂痕、孔洞或外来杂质,以及缺陷的位置或坐标。在操作上,在检测之前,可执行初始化程序,以校准系统参数,其可包括显示图案、 扫描仪的灵敏度、及该扫描仪与检测中的产品间的距离。在该初始化阶段中,可提供要进行检测的上述这些产品的样本。该样本产品可包括多层产品或单层产品。在一实施例中,该多层产品可包括显示面板,像是面板11、触控面板、晶圆、及印刷电路板(Printed circuit board, PCB),而该单层产品可包括玻璃层、彩色滤光片、钻石与接触透镜。如果该样本产品为显示面板,信号产生器14可产生所想要的图案。在该例中,可以开启光线模块,像是LCD面板的背光模块。然后可由机械手臂调整扫描仪12,以确保可对焦该于该样本产品中所关注的一层。在根据本发明的一实施例中,扫描仪12的焦距可约为 15 士 1毫米(mm)。也就是说,扫描仪12可被设计为具有大约14mm的近焦点,及大约16mm 的远焦点。此外,假定是半导体制造的产品,其中的每一层厚度大约是2mm。因此,通过调整扫描仪12与该产品之间的距离,可以检测特定层。再者,在校准阶段中,用于检测的关联于扫描仪12的每一个传感器胞的第一临界值与第二临界值即可被决定。由于制造因素,例如在该样本产品中像素具有1 的灰阶值, 其在当由扫描仪12的不同传感器胞读取时可能具有不同的数值。例如,第一传感器胞可读取数值为148,而第二传感器胞可读取为108。虽然扫描仪12的上述这些传感器胞的灵敏度可能不一致,每一个传感器胞可负责扫描一列的像素,在其扫描的灵敏度中具有一致的偏移。因此,当由相同传感器胞扫描时,如果有缺陷像素的灰阶值明显不同于其相邻像素的平均灰阶值,则该缺陷像素即可被检测出来。因此,例如该第一传感器胞可具有第一临界值 BGV^lO%,及第二临界值BGVi-20%,其中“BGV”代表“背景灰阶值”或基准值,其为在所讨论中像素周围中像素的平均灰阶值。此外,该传感器胞可具有第一临界值BGV2+10%与第二临界值BGV2-20%,其中BGV2可不同于BGV115在各像素间,每一个传感器胞的基准值BGV可不相同,因为面板11亦由于制造因素而显示灵敏度无法一致。相邻像素的数目与该基准值的计算可视质量需求而定。在一实施例中,可选择四或五个相邻像素,且它们的灰阶值可利用相同的加权来平均。在另一实施例中,可选择六或七个相邻像素,且它们的灰阶值可利用不同的加权来平均。因此,将该第一传感器做为实施例,第一像素具有灰阶值大于关联于其相邻像素的基准灰阶值的10%,该第一像素可认定为亮点。再者,第二像素具有灰阶值小于关联于其相邻像素的基准灰阶值的20%,该第二像素可认定为暗点。上限(+10% )与下限(-20% )之间的范围亦可视质量需求而定。上述这些校准的系统参数与上述这些临界值,及对于该样本产品中每一个像素关联于每一个传感器胞的基准灰阶值可储存在分析装置16中。接着,多个上述这些产品可由扫描仪12—个接一个地扫描。上述这些每一产品的影像,包括上述这些像素的灰阶值与坐标,可被传送到分析装置16,并储存在其中。分析装置16可以比较每一个像素的灰阶值与该每一个像素的基准灰阶值,并判定该灰阶值是否大于第一临界值或小于第二临界值。具体而言,可辨识出具有灰阶值明显不同于其相邻像
7素的基准灰阶值的像素。在上述这些每一个产品中的缺陷数目可在分析装置16中计算。此外,在根据本发明的一实施例中,分析装置16可构形成按缺陷的数目来排序上述这些产品。例如,根据尺寸及质量需求,A级产品可代表那些例如具有少于三个缺陷者,而B级产品可代表那些具有超过四个缺陷者。再者,在上述这些每一个产品中的缺陷(如果有)的位置或坐标可由分析装置16提供。图IB为根据本发明的一实施例,在图IA中所示的分析装置16的方块图。请参照图1B,分析装置16可以包括微处理器161、内存162、比较模块163、排序模块164与映像模块165。微处理器161可自扫描仪12接收影像数据,其包括样本产品的样本影像与检测产品的扫描影像,与比较模块163、排序模块164及映像模块165的作业的坐标。此外,微处理器161可计算在影像中,每一个像素的基准灰阶值。内存162可用以储存该校准的数据、基准灰阶值、临界值、样本影像与扫描影像。比较模块163可构形成以灰阶值来比较像素与临界值,以辨识有缺陷的像素。在上述这些每一个产品中缺陷的数目可在,例如微处理器161 中计算。排序模块164可构形成按缺陷的数目来排序上述这些产品。映像模块165可构形成映射缺陷(如果有)在坐标系统中。微处理器161可提供上述这些每一个产品中缺陷的数目、上述这些每一个产品的等级或质量、在上述这些每一个产品中缺陷(如果有)的位置、及缺陷种类的报告。所属技术领域的技术人员将了解比较模块163、排序模块164与映像模块165可于硬件或软件中实作,其中前者以操作速率的观点而言比较有利,而后者以设计复杂度的观点而言可比较节省成本。图2A为根据本发明的一实施例,在图IA中所示的系统10内经调整来使用的扫描仪12-1的示意图。请参照图2A,扫描仪12-1可包括设置在第一与第二行中的多个扫描单元或扫描频道“CH0”至“CH17”。上述这些扫描单元的第一与第二行可相对于彼此而交错。此外,上述这些每一个扫描单元CHO至CH17可包括多个传感器胞21。每一个传感器胞21都可包括电荷耦合装置(Charge coupled device, CCD)传感器或互补式金氧半导体 (Complementary metal-oxide-semiconductor, CMOS)传感器中的一个。为了避免在不同行中的相邻扫描单元之间有任何间隙,例如CHO与CH1,紧邻的扫描单元CHO与CHl可彼此重叠有预定数目的传感器胞,例如六个传感器胞。类似地,在第二行中相邻扫描单元CHl与在第一行中的CH2可彼此重叠有六个传感器胞。在根据本发明的一实施例中,上述这些每一个扫描单元CHO至CH17可包括344个传感器胞,且每一个传感器胞21的尺寸大约为40微米(um)乘40um。因此,扫描仪12_1可提供每英寸大约600点(Dots per inch, dpi)的分辨率。在另一实施例中,每一个扫描单元 CHO至CH17可包括344个传感器胞21,其每一个传感器胞21的尺寸大约为IOum乘10um。 因此,扫描仪12-1可提供大约MOOdpi的分辨率。所属技术领域的技术人员将了解上述这些扫描单元的数目可增加或减少来适配于实际应用,即使在本实施例中使用十八个扫描单元CHO至CH17。如前所述,在该校准阶段期间,扫描仪的每一个传感器胞可被校准。假定扫描仪 12-1包括18个扫描单元CHO至CH17,其每一个扫描单元具有344个传感器胞21,该校准程序相当耗时,并需要大量的内存来储存基准灰阶值与关联于传感器胞21的临界值。但是,在相同扫描单元中传感器胞的灵敏度可实质上类似,因为它们可以在相同的半导体制程中制造。因此,做为一替代例,在该校准阶段期间仅校准扫描仪的上述这些扫描单元。图2B为根据本发明的另一实施例,在图IA中所示的系统10中经调整来使用的扫描仪12-2的示意图。请参照图2B,扫描仪12-2可包括单一扫描单元CH18。扫描单元CH18 可包括设置在一行中的多个传感器胞22,其中至少两个传感器胞22负责扫描彩色滤光片 25的次像素250。也就是说,扫描仪12-2的传感器胞22的密度可为彩色滤光片25的次像素250的至少两倍,其可避免在相机中所发生的“失真”(aliasing)效果。图3A为根据本发明的另一实施例,用于检测的系统30的图,其中该下方部为系统 30的前视图,而上方部为系统30的俯视图。请参照图3A,除了例如输送带38可取代支撑框架13以外,系统30可能类似于参照图IA所述及所示例的系统10。具体而言,要进行检测的产品31可以放置在输送带38上,并随着输送带38移动。因此,可达成产品31的连续检测。系统30可包括第一扫描仪32-1,不同于图IA所示的扫描仪12,该第一扫描仪32-1 可相对于分析装置16而固定化。此外,系统30亦可包括第一光源37-1以便于检测。在本实施例中,第一扫描仪32-1与第一光源37-1可设置在检测中的产品31的相同侧。第一扫描仪32-1可设置在距离产品31第一距离之处,并产生关联于产品31中有关第一层的第一影像。再者,系统30可包括第二扫描仪32-2,其设置在产品31的相同侧, 并距离产品31第二距离。第二扫描仪32-2可产生关联于产品31中所关注的第二层第二影像。使用两个或两个以上的扫描仪32-1与32-2,通过比较产品31的第一与第二影像,可便于进行辨识在产品31中特定层的缺陷。例如,如果当亮点由第一扫描仪32-1扫描时大于相关的上临界值12%,且由第二扫描仪32-2扫描时大于相关的上临界值18%,可判定该亮点位在产品31的第二层内或其附近。也就是说,可通过例如比较模块163比较来自基准灰阶值的上限或下限的偏移量,以辨识该特定层。具体而言,比较模块163可构形成比较来自关联于第一影像中像素的至少一个临界值的第一偏移量,与来自关联于第二影像中该像素的至少一个临界值的第二偏移量,以判定特定有缺陷的层。第一光源37-1的光线强度、 该第一距离与第二距离可在该初始化阶段中被校准。图:3B为根据本发明的又另一实施例,用于检测的系统30-1的示意图。请参照图 3B,第一扫描仪32-1与第一光源37-1可设置在检测中的产品31的不同侧。在本实施例中的产品31可为光学透明,并可包括一或多个透明层。图3C为根据本发明的再另一实施例,用于检测的系统30-2的示意图。请参照图 3C,除了例如运用第二扫描仪32-2以外,系统30-2可能类似于图;3B所示的系统30-1。具体而言,第一扫描仪32-1与第二扫描仪32-2可设置在产品31的一侧,而第一光源37_1可设置在产品31的另一侧。再者,第一扫描仪32-1可设置成距离产品31第一距离Cl1,而第二扫描仪32-2可设置成距离产品31第二距离d2,以便让产品31中存在有缺陷的特定层可被辨识出来。图3D为根据本发明的又再另一实施例,用于检测的系统30-3的示意图。请参照图3D,第一扫描仪32-1与第一光源37-1可设置在该产品的一侧,而第二扫描仪32_2与第二光源37-2可设置在产品31的另一侧。在本实施例中的产品31可包括多层,其还可包括第一层(未示出)、第二层(未示出)与该第一与第二层之间的至少一个中间层。该至少一个中间层可为光学不透明层,其可包括装置元件,例如导线与电路组件。通过该设置,多层产品31的该第一与第二层可同时被扫描。图4为说明根据本发明的一实施例的检测方法的流程图。请参照图4,在步骤401 中,要进行检测的多个产品其中的一个样本可被提供。在步骤402中,系统参数(像是显示图案)、扫描仪的灵敏度、及该扫描仪与该样本产品之间的距离可通过扫描该样本产品来校准。在校准该扫描仪的灵敏度时,可获得在该样本产品的扫描影像中每一个像素的基准灰阶值。该基准灰阶值可相关于每一个像素的周围中上述这些像素的像素均勻平均值、像素加权平均值或像素的灰阶值。在步骤403中,至少一个临界值基于上述这些每一个像素的基准灰阶值而可被决定,以在检测期间检测上述这些产品中的缺陷。在一实施例中该至少一个临界值可包括用于检测亮点的第一临界值,与用于检测暗点的第二临界值。接着,在步骤404中,对于上述这些每一个像素的校准的资料与上述这些每一个像素的至少一个临界值可被储存,以便于进行上述这些产品的检测。步骤401至404可统称为初始化或校准程序。然后上述这些每一个产品在步骤405中,一个接一个由扫描仪做扫描。在步骤406中,该扫描仪可产生上述这些每一个产品的影像。该影像可包括像素矩阵,其中该每一个像素矩阵具有灰阶值。该影像可在步骤407中,通过比较该影像的每一个像素与关联于该每一个像素的至少一个临界值来做分析。在步骤408中,如果像素的灰阶值大于至少一个临界值的上限或小于其下限,该像素可认定为有缺陷的像素。在上述这些每一个产品中的缺陷数目可被计算。由于上述这些像素是设置在矩阵中,在步骤409中,上述这些每一个缺陷(如果有)的位置或坐标可被辨识。接着,在步骤410中,上述这些产品可按缺陷的数目来排序。随后,在步骤411中提供上述这些每一个产品的缺陷的数目、上述这些每一个产品的等级或质量、及上述这些每一个缺陷的位置的报告。图5为说明根据本发明的另一实施例的检测方法的流程图。请参照图5,除了例如可运用两个扫描仪以外,该方法可能类似于参照图4所述及所示例者。具体而言,在步骤502中,第一扫描仪与第二扫描仪可用于该校准阶段中。随后,在步骤505中,检测中的产品可由分别设置成距离该产品第一距离与第二距离的第一扫描仪与第二扫描仪做扫描。该第一距离可关联于该产品中所关注的第一层, 且该第二距离可关联于该产品中所关注的第二层。因此,在步骤506中,该产品的第一影像可由该第一扫描仪产生,而该产品的第二影像可由该第二扫描仪产生。接着,该产品的第一影像与第二影像在步骤507中可基于该临界值进行分析。在上述这些每一个产品中,缺陷(如果有)的数目可在步骤408中辨识。在步骤508中,在其中的一个具有缺陷的上述这些产品中的该第一影像中有缺陷像素的第一偏移量,与该第二影像中有缺陷像素的第二偏移量可做比较,以在步骤509中决定该有缺陷像素是位在该产品内的哪一层。随后,在步骤511中提供上述这些每一个产品中缺陷的数目、上述这些每一个产品的等级或质量、及该产品中该层存在有缺陷的报告。所属技术领域的技术人员应即了解可对上述各项实施例进行变化,而不致悖离其广义的发明性概念。因此,应了解本发明并不限于所揭示的特定实施例,而是为涵盖归属如权利要求所定义的本发明精神及范围内的修饰。另外,在说明本发明的代表性实施例时,本说明书可将本发明的方法及/或制程表示为特定的步骤次序;不过,由于该方法或制程的范围并不是于本文所提出的特定的步骤次序,故该方法或制程不应受限于所述的特定步骤次序。身为所属技术领域的技术人员当会了解其它步骤次序也是可行的。所以,不应将本说明书所提出的特定步骤次序视为对权利要求书的限制。此外,亦不应将有关本发明的方法及/或制程的权利要求书仅限制在以书面所载的步骤次序的实施,所属技术领域的技术人员易于了解,上述这些次序亦可加以改变,并且仍涵盖于本发明的精神与范畴之内。
权利要求
1.一种用于检测产品的系统,该系统包含扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的影像,该影像包括像素矩阵,其每一个像素矩阵具有灰阶值;以及分析装置,其电性耦合于该扫描仪,用以接收与分析该产品的影像,该分析装置包括微处理器,用以计算关联于该影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素灰阶值的平均值;内存,用以储存关联于上述这些每一个像素的基准灰阶值,与关联于该基准灰阶值的至少一个临界值;以及比较模块,用以比较该影像中每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的该至少一个临界值。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,该扫描仪包括设置在第一方向上的多个扫描单元,且其中该扫描仪构形成在垂直于该第一方向的第二方向上相对于该产品移动。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,该扫描仪包括第一行的扫描单元与第二行的扫描单元,该第一行与第二行的扫描单元相对于彼此而交错。
4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,上述这些每一个扫描单元包括多个传感器胞,且在该第一行中的扫描单元与在该第二行中紧邻的扫描单元重迭有预定数目的传感器胞。
5.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,上述这些每一个扫描单元包括多个传感器胞,且其中在该每一个扫描单元中扫描单元的密度等于或大于该产品中次像素的密度的两倍。
6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,还包含排序模块,用以按缺陷的数目来排序一些产品。
7.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,该至少一个临界值包括作为该基准灰阶值的上限的第一临界值,及作为该基准灰阶值的下限的第二临界值。
8.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,该扫描仪为第一扫描仪,用以扫描该产品的第一层并产生第一影像,还包含第二扫描仪,用以扫描该产品的第二层并产生第二影像。
9.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,该比较模块构形成比较来自关联于该第一影像中像素的至少一个临界值的第一偏移量与来自关联于该第二影像中该像素的至少一个临界值的第二偏移量。
10.一种用于检测产品的系统,该系统包含扫描仪,其包括设置在第一方向上的多个扫描单元,且构形成在垂直于该第一方向的第二方向上扫描该产品,该扫描仪产生该产品的影像,该影像包括像素矩阵,其每一个像素矩阵具有灰阶值;微处理器,用以计算关联于该影像中上述这些每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的灰阶值的平均值;以及比较模块,用以比较在该影像中上述这些每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的第一临界值与第二临界值,其中该第一临界值包括该基准灰阶值的上限,且该第二临界值包括该基准灰阶值的下限。
11.根据权利要求10所述的系统,其特征在于,还包含内存,用以储存关联于上述这些每一个像素的该基准灰阶值,与关联于该基准灰阶值的该第一与第二临界值。
12.根据权利要求10所述的系统,其特征在于,该扫描仪包括第一行的扫描单元与第二行的扫描单元,上述这些第一行与第二行的扫描单元相对于彼此而交错。
13.根据权利要求12所述的系统,其特征在于,上述这些每一个扫描单元包括多个传感器胞,且在该第一行中的扫描单元与在该第二行中紧邻的扫描单元重叠有预定数目的传感器胞。
14.根据权利要求12所述的系统,其特征在于,上述这些每一个扫描单元包括多个传感器胞,且在该每一个扫描单元中上述这些扫描单元的密度等于或大于该产品中上述这些次像素的密度的两倍。
15.根据权利要求10所述的系统,其特征在于,还包含排序模块,用以按缺陷的数目来排序多个产品。
16.一种用于检测产品的系统,该系统包含第一扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的第一影像,该第一影像包括像素矩阵, 其每一者具有灰阶值;第二扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的第二影像,该第二影像包括像素矩阵, 其每一者具有灰阶值;以及分析装置,其电性耦合于该扫描仪,用以接收与分析该产品的该第一与第二影像,该分析装置包括微处理器,用以计算关联于该第一与第二影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的灰阶值的平均值;内存,用以储存关联于在该第一与第二影像中每一个像素的该基准灰阶值,与关联于该基准灰阶值的至少一个临界值;以及比较模块,用以比较在该第一与第二影像中每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的该至少一个临界值。
17.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,该扫描仪包括设置在第一方向上的多个扫描单元,且其中该扫描仪构形成在垂直于该第一方向的第二方向上相对于该产品移动。
18.根据权利要求17所述的系统,其特征在于,该扫描仪包括第一行的扫描单元与第二行的扫描单元,上述这些第一行与第二行的扫描单元相对于彼此而交错。
19.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,该至少一个临界值包括作为该基准灰阶值的上限的第一临界值,及作为该基准灰阶值的下限的第二临界值。
20.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,该比较模块构形成比较来自关联于该第一影像中像素的该至少一个临界值的第一偏移量与来自关联于该第二影像中该像素的该至少一个临界值的第二偏移量。
全文摘要
本发明揭示一种用于检测产品的系统,该系统包括扫描仪,用以扫描该产品,并产生该产品的影像,该影像包括像素矩阵,其每一者具有灰阶值,及分析装置,其电性耦合于该扫描仪来接收与分析该产品的影像,该分析装置包括微处理器,用以计算关联于该影像中每一个像素的基准灰阶值,其中该基准灰阶值包括位在相邻于该每一个像素的像素的上述这些灰阶值的平均值,内存,用以储存关联于每一个像素的基准灰阶值,与该基准灰阶值关联的至少一个临界值,及比较模块,用以比较在该影像中每一个像素的灰阶值与关联于该每一个像素的至少一个临界值。
文档编号G01N21/88GK102200519SQ20101020063
公开日2011年9月28日 申请日期2010年6月11日 优先权日2010年3月26日
发明者蔡荣华, 郭上鲲 申请人:郭上鲲
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