专利名称：一种真空敏感元件的制作方法
技术领域：
本实用新型属于机载装备技术，具体涉及ー种气压高度表用真空敏感元件。
背景技术：
目前，真空敏感元件是除零件外由上膜片与下膜片真空电子束焊组成，实现规定的渐减或渐增或线性特性的输出。对于有相似性能，但膜片型面不能满足仪表装配要求，不同敏感元件均需设计相应的膜片及型面与エ装模具的设计制造、试验，使敏感元件的研制周期长，推迟航空仪表的装配，延迟主机的研制进度。
发明内容本实用新型的发明目的简单、易行、快速实现真空敏感元件性能。本实用新型采用如下的技术方案实现ー种真空敏感元件，包括上中心杆、上膜片、下膜片以及下中心杆，上中心杆置于上膜片中心位置，下中心杆置于下膜片中心位置，上膜片边缘及下膜片边缘之间设置垫片，形成封闭的真空腔体。垫片的外径尺寸与上膜片或下膜片的外径尺寸D相同，垫片的内径尺寸小于等于上膜片或下膜片的有效直径尺寸d。垫片厚度与上膜片或下膜片的厚度之比值为4. 21。本实用新型在现有膜片的基础上，有效改善膜片的边波纹高度尺寸，较快的实现产品研制的特性要求。本实用新型的有益效果利用金属垫片，快速而巧妙的改变了现有膜片的型面參数，在现有膜片型面的基础上无需重新设计模具和试验，使产品性能满足了仪表装配要求。 实现了产品研制短频快，降低了研制成本。在敏感元件研制历史上属首例，填补了国内空白。本实用新型配套用于ー种航空用仪表，性能及结构满足装表要求，得到了用户的肯定。很大程度缩短了新产品研制进度，有效节省了物质资源及人力资源，取得了一定的经济效益和社会效益。
图I为本实用新型结构示意图；图2为膜片结构示意图。图中1_上中心杆，2-上膜片，3-下膜片，4-下中心杆，5-垫片，6-真空腔体，7-垫片外径边缘，D-上膜片或下膜片的外径尺寸，d-上膜片或下膜片的有效直径尺寸，H-上膜片或下膜片的高度。
具体实施方式
ー种真空敏感元件包括上中心杆I、上膜片2、垫片5、下膜片3、下中心杆4，上中心杆I固定置于上膜片2中心位置，下中心杆4固定置于下膜片3中心部位，垫片5夹于上膜片2边缘与下膜片3边缘之间，并形成封闭的真空腔体6。所述垫片5的外径尺寸与上膜片2或下膜片3的外径尺寸D相同，垫片5的内径尺寸小于等 于上膜片2或下膜片3的有效直径尺寸d。所述垫片5须经表面处理，外径边缘7须清洁，勿需有杂质，上膜片、垫片、下膜片形成的边缘焊缝为电子束焊缝。所述垫片5的厚度为O. 4 mm，上膜片、下膜片的厚度为O. 091 mm，垫片厚度与上膜片2或下膜片3的厚度之比值为4. 39。形成的真空敏感元件的实际膜片边波纹高度为H+0. 2，在上膜片2或下膜片3的高度H的基础上增加了 O. 2 mm，有效改善膜片的边波纹高度尺寸，形成真空内腔6的最低高度在原来基础上增加了 0.4 mm。所述垫片与上膜片、下膜片为同质同种材料。所述垫片为轧制半硬、表面处理状态。表I为真空敏感元件特性记录对比。现有不加垫片的真空敏感元件最好数据仍不能满足装表要，总位移偏小，线性衰减，要求的线性超差。采取本实用新型，总位移増加，线性衰减程度改善，符合要求的线性要求。表I :真空敏感元件特性记录
权利要求1.ー种真空敏感元件，包括上中心杆(I)、上膜片(2)、下膜片(3)以及下中心杆(4)，上中心杆(I)置于上膜片(2)中心位置，下中心杆(4)置于下膜片(3)中心位置，其特征在于上膜片(2)边缘及下膜片(3)边缘之间设置垫片(5)，形成封闭的真空腔体(6)。
2.根据权利要求I所述的真空敏感元件，其特征在于垫片(5)的外径尺寸与上膜片(2)或下膜片(3)的外径尺寸(D)相同，垫片(5)的内径尺寸小于等于上膜片(2)或下膜片(3)的有效直径尺寸(d)。
3.根据权利要求I或2所述的真空敏感元件，其特征在于垫片(5)厚度与上膜片或下膜片厚度(H)之比值为4.21。
专利摘要本实用新型属于机载装备技术，具体涉及一种真空敏感元件，发明目的简单、易行、快速实现真空敏感元件性能。真空敏感元件，包括上中心杆、上膜片、下膜片以及下中心杆，上中心杆置于上膜片中心位置，下中心杆置于下膜片中心位置，上膜片边缘及下膜片边缘之间设置垫片，形成封闭的真空腔体。本实用新型的有益效果利用金属垫片，快速而巧妙的改变了现有膜片的型面参数，在现有膜片型面的基础上无需重新设计模具和试验，使产品性能满足了仪表装配要求，实现了产品研制短频快，降低了研制成本。
文档编号G01C5/06GK202403699SQ20112055835
公开日2012年8月29日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者张连梅, 胡勇杰 申请人:太原航空仪表有限公司