一种爽滑度测试仪的制作方法

文档序号:12313566阅读:787来源:国知局

本实用新型涉膜片测试装置,具体涉及膜片测试装置的组件及结构。



背景技术:

光学薄膜在实际组装过程中,如果上下搭配的膜材间接触面爽滑度过低,会使得组装难度增加,且容易造成膜材表面刮、擦伤等不良。业内对于膜材表面爽滑度,基本都是靠手感来判定,此方法只能在一定程度上对比出膜材间的表面爽滑度强弱。

目前业界对于膜材表面爽滑度的测试判断还停留在人的手感判断阶段,这种凭借个人经验和感觉来判断的方式,有较大的误差,不同的人之间的判断也会存在差异,且此方法缺少一个可用于判断的标准,只适合多款膜材在有材料实物时做对比。

本实用新型提供了一种将主观判断进行量化的方法,进而大大减少了人为主观判断的误差因素,并且可以建立一系列标准,提高测试的准确性及结果的说明性。



技术实现要素:

本实用新型的目的提供了一种将主观判断进行量化的方法,进而大大减少了人为主观判断的误差因素,提高测试的准确性及结果的说明性。

为实现上述目的,本实用新型的技术方案为:

一种爽滑度测试仪,包括底座、样品台、转轴,所述样品台设置在所述底座的上部,所述样品台通过所述转轴调节所述样品台角度。

进一步地,还包括第一角度测量仪,所述第一角度测量仪安装在所述样品台的侧面。

一种爽滑度测试仪,包括样品台,第一平台、底座、拉力机,所述样品台和所述第一平台设置在所述底座的上部,所述拉力机设置在所述第一平台上。

进一步地,所述样品台还设有压块。

进一步地,所述样品台和所述底座之间设有伸缩架。

进一步地,还包括支架,所述样品台通过所述转轴与所述支架的上端连接,所述支架下端设置在所述底座上,所述样品台可以通过所述转轴转动。

进一步地,还包括第二平台,所述第一平台和所述第二平台之间设有伸缩架,所述第二平台和所述底座之间设有伸缩架。

进一步地,还包括转轴,所述第一平台的一端通过转轴与支架的上端连接,支架的下端设置在第二平台上,第二平台通过伸缩架与底座连接,第一平台可以通过转轴调整角度。

进一步地,还包括第二角度测量仪,所述第二角度测量仪安装在所述第一平台的侧面。

有益效果:

本实用新型提供了一种膜片爽滑度测试仪,将主观判断进行量化,进而大大减少了人为主观判断的误差因素,提高测试的准确性及结果的说明性,且可以根据需要采用两种测试条件:1,直接通过转轴调整样品台的角度获得被测膜材间自身重量作用从静止状态到相互运动瞬间时作为基准,衡量膜材间的爽滑强度;2,通过拉力机拉动被测膜材的拉力获得被测膜材从静止状态到相互运动瞬间时作为基准,衡量膜材间的爽滑强度。

附图说明:

下面结合结构示意图1及实施例1对本实用新型进一步说明。

图1示出了本实用新型的一种典型的爽滑度测试仪,包括底座1、伸缩架2、伸缩架12、伸缩架14、样品台3、压块4、第一角度测量仪5、第二角度测量仪 9、指针6、转轴7、转轴8、第一平台10、第二平台13、拉力机11、支架15。

具体实施方式:

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

实施例1

一种爽滑度测试仪,包含底座1、样品台3、和转轴7,所述样品台3设置在所述底座1的上部,样品台3一端和底座1之间通过伸缩架2连接在一起,所述样品台3另一端通过转轴7与支架15上端连接,所述支架15下端设置在底座1上,样品台3可以通过转轴7转动,第一角度测量仪5安装在样品台3 的侧面,通过安装在样品台3侧面的指针6测量样品台3转动的角度,样品台3 上设置的压块4用于固定被测下层膜片,将被测上层样品置于样品台3远离转轴7一侧的,记录被测上层膜滑动时样品台3的角度;所述爽滑度测试仪还包括第一平台10和伸缩架12,所述第一平台10的一端与伸缩架12连接,所述第一平台10的另一端通过转轴8与支架15(此支架图1中被第二角度测量仪挡住) 上端连接,支架15的下端设置在第二平台13上,第二平台13通过伸缩架14 与底座1连接,第一平台10上设置有拉力机11,通过拉力机11连接被测上层膜片,记录被测上层膜片滑动时拉力机的读数;还可以将第二角度测量仪9安装在所述第一平台10的侧面,记录第一样品台10的转动角度,同时通过拉力机11连接被测上层膜片,记录被测上层膜片滑动时拉力机的读数。不同材料间爽滑度相近,可通过伸缩架14减小第二平台高度或通过转轴8减小第一平台角度;不同材料间爽滑度差异偏大,可通过伸缩架14增加第二平台高度或通过转轴8增大第一平台角度,同时记录拉力机的读数。

以上所述仅为实用新型的较佳实施例,并不限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。企图据以对本实用新型作任何形式上之限制,是以,凡有在相同之实用新型精神下所作有关本实用新型之任何修饰或变更,皆仍应包括在本实用新型意图保护之范畴。

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