技术总结
本实用新型公开了一种用于等离子清洗效果监测自动化功能开发装置，包括基板，水滴测试仪，夹具，水滴测试仪控制电脑，电算系统，所述基板固定在所述夹具上，所述基板上方设置水滴测试仪，所述水滴测试仪与水滴测试仪控制电脑相连，所述水滴测试仪控制电脑与电算系统相连，本实用新型在测试等离子清洗效果中可以减少因人为失误导致的基板破损以及污染，并且其中电算系统可以对数据进行实时监测及报警，能够有效预防品质事故的发生。
技术研发人员：顾瑞祥
受保护的技术使用者：海太半导体（无锡）有限公司
技术研发日：2017.12.20
技术公布日：2018.12.11