技术总结
本实用新型公开了一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体，光栅盘本体包括内盘和外盘，外盘盘体上分别开设有外圈光栅孔和内圈光栅孔，外圈光栅孔开孔数需多于内圈光栅孔，且外圈光栅孔和内圈光栅孔均是由激光蚀刻开设而成，内盘盘体上对应开设有多个定位孔，内盘中部开设有中孔，光栅盘本体的上端面和下端面均镀有耐磨层。采用301不锈钢作为光栅盘的基本材料，提高了光栅盘的抗磨性和疲劳强度，耐磨层提高光栅盘的耐磨性能，光栅盘本体上的光栅孔等基于激光蚀刻工艺进行制作，光栅盘表面平整，加工线条均均，无毛刺毛剌，且蚀刻精度极高，能保证光栅盘的加工质量和使用效果，确保光栅盘的正常使用，使用寿命大大提高。
技术研发人员：刘飞豹;刘浩雨
受保护的技术使用者：景瓷精密零部件（桐乡）有限公司
技术研发日：2018.08.10
技术公布日：2019.02.12