狭缝元件的制作方法

本发明属于光谱成像技术领域，特别涉及一种狭缝元件。

背景技术：

狭缝元件作为光谱仪的核心部件之一，其缝体的宽度、精度及对称性直接影响光谱仪的性能。现有技术中，通常在金属基底上加工一宽度在0.1mm以下的狭窄而细长的孔洞构成狭缝，这种狭缝元件的加工工艺复杂且成本高昂。另外，由于狭缝的缝宽小，使得狭缝的开口处极易沉积灰尘，这些沉积的灰尘又使得狭缝的透光宽度在其长度方向上的变化大，而这些灰尘又难以清除，严重影响了狭缝元件的透光性能。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种加工便利且易于清洁的狭缝元件。

为实现以上目的，本发明采用的技术方案为：一种狭缝元件，包括透光基底，透光基底上设有薄膜式的遮光层，遮光层上开设有孔洞。

与现有技术相比，本发明存在以下技术效果：狭缝元件的基底上无需开设孔洞，不仅加工简单、成本低廉，而且还能能避免灰尘的堆积，平整的基底表面也易于清洁，从而能够大大提升狭缝元件的可靠性。

附图说明

下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1、2是本发明的示意图；

图3是图1中的a-a剖视图。

图中：10.透光基底，20.遮光层，21.孔洞。

具体实施方式

下面结合附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细说明。

一种狭缝元件，包括透光基底10，透光基底10上设有薄膜式的遮光层20，遮光层20上开设有孔洞21。这样透光基底10上就无需开设通孔，加工简单且加工成本低廉，而且使得透光基底10的表面平整，即使有灰尘沾附在透光基底10上也能方便地除去。薄膜式的遮光层20层厚较小，无法沉积灰尘，就能有效避免灰尘集聚在狭缝开口处使其透光性能下降。

本实施例中，采用真空镀膜的方式在透光基底10的表面加工形成遮光层20，遮光层20采用铬或铬的氧化物制成，遮光层20的厚度为纳米量级。为了有效遮挡光线，保证光谱仪的性能，遮光区域的光透过率应当在1％以下，对应地，遮光层20的层厚应当不小于50nm。另外，受真空镀膜工艺水平的限制，为了便于遮光层20的加工，其层厚应当不大于200nm。优选方案为遮光层20的厚度在100nm左右。

具体到本实施例中，透光基底10采用玻璃制成，透光基底10的透光率在90％以上才能保证光谱分析效果。本实施例中，透光基底10的材质优选编号为bk7或jgs1的等光学玻璃，根据波段范围选择合适的基底材料。受材料特性的影响，透光基底10的厚度远远大于遮光层20的厚度，才能够可靠承载遮光层20。在其他实施例中，也可以应用其他材质和方法完成狭缝元件的制造。

透光基底10整体呈片状或条板状，与孔洞21的形状相近，既节约用料，也便于狭缝元件的使用。

技术特征：

技术总结
本发明属于光谱成像技术领域，特别涉及一种狭缝元件，包括透光基底，透光基底上设有薄膜式的遮光层，遮光层上开设有孔洞。本发明中狭缝元件的基底上无需开设孔洞，不仅加工简单、成本低廉，而且还能能避免灰尘的堆积，平整的基底表面也易于清洁，从而能够大大提升狭缝元件的实用性、可靠性。

技术研发人员：李朝阳;安宁;潘从元
受保护的技术使用者：安徽创谱仪器科技有限公司
技术研发日：2019.01.29
技术公布日：2019.05.07