一种可见分光光度计的制作方法

文档序号:20843703发布日期:2020-05-22 20:16阅读:148来源:国知局
一种可见分光光度计的制作方法

本实用新型涉及测量技术领域,更具体地说,它涉及一种可见分光光度计。



背景技术:

可见分光光度计是将成分复杂的光分解为光谱线便于人们观察的科学仪器,随着社会的发展,人们对食物等各个方面的要求越来越高,而可见分光光度计可以对食物类溶液进行检测,于是可见分光光度计的需求不断增加,现有的分光光度计在使用时存在一定的弊端,分光光度计的结果容易受外界灰尘的影响,使得该分光光度计的实用性大大降低。

针对上述问题,公开号为cn208091907u的中国公开专利一种可见分光光度计,其技术要点是:包括分光光度计主体,分光光度计主体的上端外表面一侧位置固定安装有暗箱,暗箱的内部一侧外表面活动安装有箱盖,暗箱的一侧位于分光光度计主体的上端外表面设置有溶液混合槽和调节旋钮,且溶液混合槽位于调节旋钮的一侧,分光光度计主体的前端外表面靠近一侧位置设置有按钮,按钮的一侧设置有操作面板和小型打印机,且操作面板位于小型打印机的上方,分光光度计主体的下端外表面固定安装有底脚,分光光度计主体的后端外表面设置有器件放置箱和凹槽,且器件放置箱位于凹槽的一侧,凹槽的内部设置有旋转轴,溶液混合槽的上端外表面中间位置活动安装有转盘,转盘的一侧位于溶液混合槽的一侧外表面固定安装有震动片,分光光度计主体的内部位于暗箱的下方设置有干燥剂放置槽,干燥剂放置槽的内部下端外表面固定安装有吸水海绵和干燥剂固定网,且干燥剂固定网位于吸水海绵的一侧,分光光度计主体的内部外表面固定安装有隔尘棉。

该方案解决了分光光度计的结果容易受外界灰尘的影响,使得该分光光度计的实用性大大降低的问题,但是由于分光光度计在闭合时会存在一定空隙,灰尘容易从空隙中进入到样品槽内,从而导致分光光度计的检测结果容易出现影响。

因此,本实用新型提供一种新的技术方案来解决上述问题。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种通过带有斜面的顶板对样品盖进行压紧从而保证其连接气密性的可见分光光度计。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种可见分光光度计,包括机箱结构,所述机箱结构上开设有向下凹陷的样品槽以及与样品槽导通至外界的凹陷处,所述凹陷处深度小于样品槽深度,所述样品槽开口自上而下缩小,且其内滑动连接有与凹陷处底面接触的样品盖,所述样品槽两侧壁开设有滑槽,所述滑槽底面设有弹性层,所述滑槽顶面与弹性层顶面之间形成通道,所述滑槽朝向凹陷处一侧开设有位于样品槽侧壁上的凹槽,所述凹槽内转动连接有转块,所述转块上开设有与通道导通的通槽,所述通道和通槽内共同滑动连接有滑块,所述滑块与样品盖侧壁固定连接,所述样品槽内固定连接有位于滑槽上方的下压机构,所述样品盖闭合样品槽时下压机构对样品盖产生向下的作用力。

通过采用上述技术方案,当人们需要打开样品盖的时候,人们能够先拉动样品盖,从而样品盖能够通过滑块在滑槽和弹性层之间的通道内发生滑动,而后使得样品盖与下压机构分离,样品盖不再受到与下压机构接触时产生的向下作用力,从而使得弹性层能够释放弹性势能从而顶起滑块,通过滑块将样品盖顶起,令样品盖的底面不再与样品槽内壁抵触,而后人们继续拉动样品盖,使得样品盖带动滑块滑入到凹槽的转块的通槽内,而后人们转动样品盖,样品盖以滑块为圆心发生偏转,从而使得样品盖被掀起,样品槽暴露出来,人们能够在样品槽中添加被检测物,而当人们需要遮蔽样品槽的时候,人们能够将样品盖重新翻转下来,令样品盖底面与凹陷处底面接触,接着人们推动样品盖,令样品盖通过滑块在通道内发生滑动,随着样品盖不断深入到样品槽内,下压机构对样品盖的向下作用力不断增大,样品盖上的作用力传递给滑块,滑块下压弹性层,弹性层发生弹性形变,从而使得滑块的位置下移,并且样品盖的位置一同下移,直至样品盖完全进入到样品槽内了以后,下压机构对样品盖的作用力达到最大,样品盖的底面与样品槽的内壁完全抵触并且样品盖对样品槽存在一定的向下的作用力,从而使得样品盖在闭合样品槽的时候具备较好的密封效果。

本实用新型进一步设置为:所述下压机构包括一块底面设有斜面的顶板,所述顶板位于滑槽上方且与样品槽内壁固定连接,所述斜面朝向凹陷处一侧倾斜向上设置。

通过采用上述技术方案,由于下压机构包括一块底面设有斜面的顶板,斜面朝向凹陷处一侧倾斜向上设置,从而使得样品盖在完全进入到样品槽内的过程中,样品盖始终与顶板底面的斜面接触,由于斜面与样品盖之间的间距不断缩小,从而使得顶板对样品盖的作用力也开始不断增大,直至样品盖完全进入到样品槽内了以后,顶板对样品盖的作用力达到最大。

本实用新型进一步设置为:所述样品槽内设有u型架,所述u型架的俯视截面呈u型,所述u型架的顶面与滑槽底面齐平,所述u型架顶面设有与样品盖底面接触的橡胶垫一。

通过采用上述技术方案,通过设置u型架和橡胶垫一,从而使得当样品盖受到顶板的作用力的时候,样品盖能够向下位移并且压迫橡胶垫一,由于橡胶垫一具备较好的弹性以及弹性恢复性能,从而使得橡胶垫一会在发生弹性形变后试图恢复原状,从而使得橡胶垫一与样品盖之间的空隙极小,避免有空气中的杂质进入到样品槽内的u型架内。

本实用新型进一步设置为:所述凹陷处底面设有橡胶垫二,所述橡胶垫二的顶面与橡胶垫一的顶面位于同一水平高度。

通过采用上述技术方案,通过设置橡胶垫二,从而使得当样品盖受到向下的作用力时,能够通过橡胶垫二发生弹性形变来减少样品盖与凹陷处底面之间的空隙,从而防止有空气中的杂质进入到样品槽内。

本实用新型进一步设置为:所述转块呈圆柱状,且所述转块另一端固定连接有转轴,所述转轴上套设有轴承,所述轴承的外周壁与凹槽内壁固定连接。

通过采用上述技术方案,当转块需要发生转动时,转块能够通过转轴在轴承内发生有效转动,轴承则与凹槽内壁固定连接,从而使得转块转动得较为顺畅且不易发生卡壳情况。

本实用新型进一步设置为:所述通槽和滑块的形状相锲合,所述滑块与通槽内之间存在至少一个受力点。

通过采用上述技术方案,由于滑块与通槽内之间存在至少一个受力点,从而使得当人们在转动样品盖的时候,样品盖能够通过滑块带动转块在凹槽内发生转动,从而使得样品盖能够较为顺畅的发生转动。

本实用新型进一步设置为:所述样品盖朝向凹陷处一侧与机箱结构之间设有闭合结构。

通过采用上述技术方案,通过设置闭合结构,从而使得样品盖完全遮蔽样品槽的时候,能够通过闭合结构对样品盖以及机箱结构进行连接,使得两者保持较好的连接效果。

本实用新型进一步设置为:所述闭合结构包括设在样品盖朝向凹陷处一侧中间的连接轴和设在机箱结构上的卡块,所述连接轴上套设有轴套,所述轴套固定连接有连接杆,所述连接杆的长度小于轴套与卡块之间的间距,所述连接杆远离轴承一端固定连接有卡勾,所述闭合结构工作时卡块嵌入卡勾与连接杆之间。

通过采用上述技术方案,当人们需要通过闭合结构对样品盖以及机箱结构进行连接的时候,人们能够通过手动的方式带动连接杆发生转动,连接杆以轴套为圆心在连接轴上发生转动,而后连接杆则会带动卡勾将卡块卡入到卡勾与连接杆之间,并且由于连接杆的长度小于轴套与卡块之间的间距,从而使得卡块卡入连接杆与卡勾之间的时候,卡勾会对卡块产生一定挤压作用力,从而使得闭合结构在闭合的时候能够对样品盖以及机箱结构起到较好的连接效果。

本实用新型进一步设置为:所述闭合结构包括铰接在样品盖朝向凹陷处一侧的连接板,所述连接板上设有磁铁一,所述机箱结构上设有磁铁二,所述闭合结构工作时磁铁一和磁铁二之间相互吸合。

通过采用上述技术方案,当闭合结构需要对样品盖和机箱结构进行连接的时候,人们能够通过转动连接板,令连接板带动磁铁一,从而使得与样品盖铰接的连接板能够带动磁铁一与机箱结构上的磁铁二进行吸合,从而起到较好的连接效果。

综上所述,本实用新型具有以下有益效果:

当人们需要打开样品槽的时候,人们能够通过打开闭合结构,从而使得样品盖与机箱结构分离,而后人们能够通过手动的方式拉动样品盖,使得样品盖能够与顶板的底面斜面发生脱离,而后顶板对样品盖的作用力不断减少直至消失,之后样品盖带动滑块在通道内移动直至滑块进入到转块的通槽内,而后人们通过手动的方式拉动样品盖,样品盖通过滑块带动转块发生转动,转块在凹槽内发生顺畅转动,从而使得样品槽被打开,而后人们将检测物放入到样品槽内了以后,人们翻转样品盖直至与凹陷处底面的橡胶垫二接触,此时样品盖亦与u型架上的橡胶垫一发生接触,接着人们通过手动的方式推动样品盖,令样品盖完全进入到样品槽内,并且在此过程中样品盖受到顶板底面斜面的限位,从而使得样品盖受到来自顶板的向下作用力,样品盖将作用力作用在滑块上,滑块向下压迫弹性层,使得弹性层发生弹性形变,同时样品盖的底面与样品槽的内壁紧密贴合,同时样品盖亦对u型架顶面的橡胶垫一进行压迫,从而使得样品槽与样品盖之间,以及样品盖与u型架之间的空隙较小,不易发生空气中的杂质进入到样品槽内影响实验结果的情况,而后人们再通过闭合结构闭合样品盖和机箱结构即可。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图一;

图2为本实用新型的结构示意图二;

图3为图2的a处放大图;

图4为本实用新型中转块、转轴和轴承的结构示意图;

图5为本实用新型的结构示意图三;

图6为图5的b处放大图。

图中:1、机箱结构;2、样品槽;3、滑槽;4、顶板;5、样品盖;6、卡块;7、橡胶垫二;8、斜面;9、u型架;10、橡胶垫一;11、凹槽;12、间隙;13、转块;14、通槽;15、滑块;16、转轴;17、轴承;18、连接轴;19、轴套;20、连接杆;21、卡勾。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型进行详细描述。

实施例一:一种可见分光光度计如图1至6所示,

首先人们取机箱结构1,机箱结构1自带样品槽2,且样品槽2的开口自上而下逐渐缩小,并且机箱结构1上开设有导通样品槽2与外界的凹陷处,凹陷处的宽度与样品槽2的宽度相同,凹陷处的深度小于样品槽2的深度,接着人们在样品槽2底面安装一个u型架9,u型架9的俯视截面呈u型,并且开口朝向凹陷处设置,接着人们在凹陷处底面粘贴一层橡胶垫二7,在u型架9顶面粘接一层橡胶垫一10,而后人们在样品槽2左右两侧壁通过铣刀进行加工两道滑槽3,滑槽3的底面与u型架9的顶面处于同一水平高度,接着人们在滑槽3底面粘贴一层采用橡胶材料的弹性层,滑槽3顶面与弹性层顶面之间形成通道,接着人们再在滑槽3朝向凹陷处的一侧通过铣刀加工出一个凹槽11,人们取一个转轴16,在转轴16上过盈配合一个轴承17,再在轴承17的侧壁粘接一个转块13,转块13呈圆柱体状,并且转块13的外周壁上向圆心处凹陷形成一个通槽14,通槽14的形状为立方体状,接着人们将轴承17安装在凹槽11内并且与凹槽11的内壁进行粘接,从而使得转块13亦位于凹槽11内,通槽14的开口与通道的开口对准,转块13与凹槽11内壁之间存在间隙12,接着人们再在通道内滑动连接一个呈立方体状的滑块15,并且两侧的滑块15之间粘接有一块用于遮蔽样品槽2以及凹陷处的样品盖5,最后人们在样品盖5靠近凹陷处的一侧粘接一根连接轴18,连接轴18上转动连接一个轴套19,轴套19一体成型有一根连接杆20,连接杆20远离轴套19的一端一体成型有卡勾21,并且机箱结构1上粘接有卡块6,同时连接杆20的长度小于轴套19与卡块6之间的间距。

当人们需要打开样品槽2的时候,人们能够通过手动的方式转动连接杆20,连接杆20带动卡勾21发生偏移,连接杆20通过轴套19以连接轴18为圆心发生转动,从而使得卡块6从卡勾21以及连接杆20之间脱离出来,从而使得样品盖5与机箱结构1分离,而后人们能够通过手动的方式拉动样品盖5,使得样品盖5能够与顶板4的底面斜面8发生脱离,由于顶板4与样品盖5之间的间距自凹陷处一侧朝向样品槽2一侧缩小,在样品盖5向间距较大一侧移动的时候,顶板4对样品盖5的作用力不断减少直至消失,弹性层、橡胶垫一10和橡胶垫二7释放弹性势能,并且恢复原状,之后样品盖5带动滑块15在通道内移动直至进入到转块13的通槽14内,而后人们通过手动的方式拉动样品盖5,样品盖5通过滑块15带动转块13发生转动,由于滑块15与转块13内的通槽14之间存在至少一个受力点,从而使得滑块15能够带动转块13发生转动,转块13由于固定连接在转轴16上,转轴16套设在轴承17内,轴承17固定连接在凹槽11内,从而使得转块13在凹槽11内发生顺畅转动,令样品槽2被打开,而后人们将检测物放入到样品槽2内了以后,人们翻转样品盖5直至与凹陷处底面的橡胶垫二7接触,此时样品盖5亦与u型架9上的橡胶垫一10发生接触,接着人们通过手动的方式推动样品盖5,令样品盖5完全进入到样品槽2内,并且在此过程中样品盖5受到顶板4底面斜面8的限位,由于顶板4与样品盖5之间的间距自凹陷处一侧朝向样品槽2一侧缩小,在样品盖5向间距较小一侧移动的时候,从而使得样品盖5受到来自顶板4的向下作用力,样品盖5将作用力作用在滑块15上,滑块15向下压迫弹性层,使得弹性层发生弹性形变,同时样品盖5的底面与样品槽2的内壁紧密贴合,同时样品盖5亦对u型架9顶面的橡胶垫一10进行压迫,从而使得样品槽2与样品盖5之间,以及样品盖5与u型架9之间的空隙较小,不易发生空气中的杂质进入到样品槽2内影响实验结果的情况,而后人们再通过手动的方式带动连接杆20发生转动,连接杆20通过轴套19以连接轴18为圆心在连接轴18上发生转动,而后连接杆20带动卡勾21将卡块6卡入到卡勾21与连接杆20之间,并且由于连接杆20的长度小于轴套19与卡块6之间的间距,从而使得卡块6卡入连接杆20与卡勾21之间的时候,卡勾21与连接杆20之间需要发生一定程度的弹性形变,而卡勾21与连接杆20之间的弹性恢复性能试图恢复原状,从而使得卡勾21会对卡块6产生一定挤压作用力,从而使得闭合结构在闭合的时候能够对样品盖5以及机箱结构1起到较好的连接效果。

实施例二:一种可见分光光度计,与实施例一不同的点在于:

当人们需要关上闭合结构的时候,人们只需要通过手动的方式转动连接板,连接板则会带动磁铁一以连接板与样品盖5的铰接处为圆心发生偏转,而后磁铁一与机箱结构1上的磁铁二进行吸合,从而使得样品盖5与机箱结构1得到较好的连接,而当人们需要打开闭合结构的时候,人们只需要通过手动的方式令磁铁一和磁铁二发生分离,而后在转动连接板,令连接板以与样品盖5的铰接点为圆心发生偏转即可。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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