本实用新型涉及一种真空箱,特别涉及一种氦检真空箱。
背景技术:
氦检真空箱,根据氦检漏的基本检漏原理,用氦气作为示踪气体,在真空箱内将氦气充入工件,然后通过氦检漏仪能高精度、迅速准确的判断氦气回收率。一般情况下,真空箱的容积是根据需检测的工件体积而定,氦检真空箱制作的规格不统一,每检测一种产品需要制作一种相符的检测真空箱,造成检验成本过高。
技术实现要素:
本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供了一种结构简单、通用性高和气密性好的氦检真空箱。
本实用新型所采用的技术方案是:本实用新型包括由s304不锈钢制作而成的真空箱体和与所述真空箱体相适配的箱体盖板,所述箱体盖板上设置有均与所述真空箱体内部相连通的真空法兰、三通接头和第一弯头,所述真空箱体的周边设置有均与所述真空箱体内部相连通的真空规管、第二弯头和第三弯头,所述真空箱体的内表面和所述箱体盖板的下端面均设有镜面层。
进一步的,所述第一弯头为kf25弯头,所述第二弯头为kf16弯头,所述第三弯头为kf10弯头,所述真空法兰的型号为dn80cf法兰,所述真空规管的型号为kf16,所述三通接头的型号为kft型三通。
进一步的,所述镜面层为8k镜面,所述8k镜面是通过化学抛光再机械抛光后制得。
进一步的,所述真空箱体包括箱体底板和箱体框板,所述箱体框板是由两个钢板折弯后平面对接焊接而成,两个所述钢板的焊接平面和底部及顶部均设有坡口,所述坡口均采用开坡口焊接固定。
进一步的,所述真空箱体上设置有观察窗。
进一步的,所述真空箱体的底部两端设置有长支座,所述真空箱体的底部两侧设置有短支座。
本实用新型的有益效果是:由于本实用新型包括由s304不锈钢制作而成的真空箱体和与所述真空箱体相适配的箱体盖板,所述箱体盖板上设置有均与所述真空箱体内部相连通的真空法兰、三通接头和第一弯头,所述真空箱体的周边设置有均与所述真空箱体内部相连通的真空规管、第二弯头和第三弯头,所述真空箱体的内表面和所述箱体盖板的下端面均设有镜面层,本实用新型采用压力容器制造工艺制作,气密试压合格,另外本实用新型的内侧表面,使用化学抛光后再机械抛光,其表面达到8k镜面,减少氦气附着力,更进一步本实用新型采用标准真空管接头连接,多位置和多种型号的接口方便工件安装和氦检漏仪连接,所以本实用新型可以将现有需氦检漏工件按照体积分类,制作标准通用型真空箱,在满足真空负压条件下,可对相同体积不同,所以形状产品进行氦检漏。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的主视图;
图3是本实用新型的侧视图;
图4是本实用新型的俯视图;
图5是图3的a部分的放大示意图;
图6是图3的b部分的放大示意图;
图7是图4的c部分的放大示意图。
具体实施方式
如图1至图7所示,在本实施例中,本实用新型包括由s304不锈钢制作而成的真空箱体1和与所述真空箱体1相适配的箱体盖板2,所述箱体盖板2上设置有均与所述真空箱体1内部相连通的真空法兰3、三通接头4和第一弯头5,所述真空箱体1的周边设置有均与所述真空箱体1内部相连通的真空规管6、第二弯头7和第三弯头8,所述真空箱体1的内表面和所述箱体盖板2的下端面均设有镜面层9。
在本实施例中,所述第一弯头5为kf25弯头,所述第二弯头7为kf16弯头,所述第三弯头8为kf10弯头,所述真空法兰3的型号为dn80cf法兰,所述真空规管6的型号为kf16,所述三通接头4的型号为kft型三通。
在本实施例中,所述镜面层9为8k镜面,所述8k镜面是通过化学抛光再机械抛光后制得,能减少了材料表面杂质对氦气的吸附,有效地提供了氦气的回收,确保了检测数据的准确。
在本实施例中,所述真空箱体1采用压力容器制造工艺制作,气密试压合格,所述真空箱体1包括箱体底板10和箱体框板11,所述箱体框板11是由两个钢板折弯后平面对接焊接而成,两个所述钢板的焊接平面和底部及顶部均设有坡口12,所述坡口12均采用标准开坡口焊接固定,保证了焊缝的强度及气密性。
在本实施例中,所述真空箱体1上设置有观察窗,方便直接观看到工件氦气试漏状态。
在本实施例中,所述真空箱体1的底部两端设置有长支座13,所述真空箱体1的底部两侧设置有短支座14。
本实用新型应用于氦检测泄漏设备的技术领域。
虽然本实用新型的实施例是以实际方案来描述的,但是并不构成对本实用新型含义的限制,对于本领域的技术人员,根据本说明书对其实施方案的修改及与其他方案的组合都是显而易见的。
1.一种氦检真空箱,其特征在于:它包括由s304不锈钢制作而成的真空箱体(1)和与所述真空箱体(1)相适配的箱体盖板(2),所述箱体盖板(2)上设置有均与所述真空箱体(1)内部相连通的真空法兰(3)、三通接头(4)和第一弯头(5),所述真空箱体(1)的周边设置有均与所述真空箱体(1)内部相连通的真空规管(6)、第二弯头(7)和第三弯头(8),所述真空箱体(1)的内表面和所述箱体盖板(2)的下端面均设有镜面层(9)。
2.根据权利要求1所述的氦检真空箱,其特征在于:所述第一弯头(5)为kf25弯头,所述第二弯头(7)为kf16弯头,所述第三弯头(8)为kf10弯头,所述真空法兰(3)的型号为dn80cf法兰,所述真空规管(6)的型号为kf16,所述三通接头(4)的型号为kft型三通。
3.根据权利要求1所述的氦检真空箱,其特征在于:所述镜面层(9)为8k镜面,所述8k镜面是通过化学抛光再机械抛光后制得。
4.根据权利要求1所述的氦检真空箱,其特征在于:所述真空箱体(1)包括箱体底板(10)和箱体框板(11),所述箱体框板(11)是由两个钢板折弯后平面对接焊接而成,两个所述钢板的焊接平面和底部及顶部均设有坡口(12),所述坡口(12)均采用开坡口焊接固定。
5.根据权利要求1所述的氦检真空箱,其特征在于:所述真空箱体(1)上设置有观察窗。
6.根据权利要求1所述的氦检真空箱,其特征在于:所述真空箱体(1)的底部两端设置有长支座(13),所述真空箱体(1)的底部两侧设置有短支座(14)。